泡立て専用ミキサー『SMiシリーズ』

PR均一な撹拌、歩留まりの向上で安定した生地づくりを実現！当社のミキサーを…

『SMiシリーズ』は、手立ての動きを再現する泡立て専用ミキサーです。 空気を細かく取り込む為、浮き上がりが速く気泡がしっかりとした生地に。 登録した熟練者の動きを自動で細部まで再現します。 また、スピード、首振り角度撹拌時間を任意に設定可能です。 【特長】 ■キメの細かい生地に好適 ■熟練者の動きを再現 ■さまざまな設定登録が可能 ■高品質な生地づくり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

メーカー・取り扱い企業： 関東混合機工業株式会社 本社（東京）、札幌出張所、仙台出張所、名古屋出張所、大阪出張所、福岡出張所

プラスチック、ダイカスト金型はお任せ！『福光工業の選ばれる理由』

PR鋼材は必ず日本製（日立金属・大同特殊鋼）を使用！アフターフォローも充実…

株式会社福光工業の『選ばれる理由』をご紹介いたします。 弛まぬコスト低減活動により、低価格を実現、設計から納品までの各工程で 検査を行ない、品質管理を徹底しております。 お客様とお約束した納期は、厳守で、進捗状況、納品日をリアルタイムで ご連絡、自社トラック及び提携運送業者による配送しています。 是非プラスチック金型、ダイカスト金型製作は当社にお任せください。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社福光工業

ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質！低価格！】

様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です！

「BI-LOK」は、ダブルフェルールタイプの継手です。 流体の漏れを防ぐフロントフェルールと、パイプ管の保持を行うバックフェルールとで、流体を確実にシールします！ 高品質なのに、低価格なのはイハラだけ！ ※詳しくは、カタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問合せください。...

メーカー・取り扱い企業： イハラサイエンス株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■F...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

leシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件で緻密で高品質な成膜が可能 ダブルイオン源構造となり、高精度な制御が可能 Real-timeでスペクトル分析機能を備える 同一チャンバーでIBD、IBEを両立...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハでも確実に吸着でき、優れた膜厚均一性を得ることが可能です。 ウェハ周辺の副反応生成物の付着を低減さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル 　・導入・維持コストの削減: 小フットプリント、真空・プラズマ処理不要 【用途】 　・FPD向け絶縁膜(NSG) 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

炭化ケイ素・石原ケミカル株式会社

半導体、液晶製造装置用部材、耐熱、耐食部材、セッター、放熱板に！

石原ケミカルではセラミックス加工での実績のもと、高品質の加工品を短納期で提供します。...

メーカー・取り扱い企業： 石原ケミカル株式会社 高機能材料

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

完全に分離されたプリカーサ供給配管と注入口を備えた特許取得済みのデュアルチャンバ、ホットウォールリアクタ設計により、 優れた歩留まり、低パーティクルレベル、優れた電気特性・光学特性を備えた高品質のALD膜を作成します。 コンパクトで人間工学に基づいた設計により、メンテナンスを簡単かつ迅速に行えるため、 システムのダウンタイムを最小限に抑え、市場での所有コストを最小限に抑えることが可能...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

VD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

半導体製造装置向けカーボン製品

高品質、低価格

純正部品と比べコスト、納期の対応はもちろんのこと、品質においてもより高レベルな商品をお出ししております。...お客様の使い勝手の良い製品を心がけております。...

メーカー・取り扱い企業： 穴織カーボン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

します。 完全に分離されたプリカーサ導管と注入口を備えた米国特許取得済みのデュアルチャンバ、ウォールリアクタ設計により、優れた歩留まり、低パーティクルレベル、優れた電気的および光学的性能を備えた高品質なALD膜を成膜します。 コンパクトで人間工学に基づいた設計により、簡単かつ迅速なメンテナンスでシステムのダウンタイムを最小限に抑え、ランニングコストを最小限に抑えることができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

半導体製造装置向けバーツ

各種各様の素材・規格に対応可能でございます。

半導体製造装置向けバーツ お客様のご希望に合わせ、高品質の製品をご提供いたします。 各種各様の素材・規格に対応可能でございます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェイド 韓国全地域