半導体関連製品
半導体関連製品のご紹介です。
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石英ガラス製品、石英ガラス加工品「半導体製造プロセスで活躍」
弊社グループ会社にて石英ガラス製品を製造、国内・海外の半導体デバイスメーカー及びシリコンメーカーへ多数納入実績あり。
石英ガラス製品は、半導体製造プロセスで幅広く使われている石英ガラスで作られている製品です。 【特徴】 ■お客様のニーズに答えます ・弊社グループ会社で生産することにより、お客様のニーズに則…
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高純度アルミナセラミックス(SAPPHAL) 過酷な条件に耐える
F系プラズマ雰囲気下、過酷な条件に耐える強者!
サファイアに近い特性を持った多結晶アルミナです。 高純度であると同時に気孔がほとんど無い緻密な焼結体です。 また、結晶粒径の揃った均一な組織構造を持つため、プラズマ雰囲気の過酷な環境に耐える事が出…
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高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01%以下と非常に緻密な焼結体で、高強度、耐摩耗性、化学的安定性などに応えます!
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01%以下と非常に緻密な焼結体です。 【特徴】 ・各種産業用構造部品として幅広く利用 ・吸水率が0.01%以下と非常に緻密な焼結体 ・優れた電気絶…
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炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」
高純度、高強度、高耐食性を兼ね備えた半導体製造プロセスに欠かせない半導体関連材料!
高純度炭化けい素を主成分とするTPSSは、クアーズテック社独自の技術により開発された半導体関連材料です。 半導体熱処理炉用炉芯管をはじめ均熱管、ボート、フォークなどに応用されています。 【材料…
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真空破壊用ブレイクフィルター「真空装置のパーティクルを低減」
真空装置のスループット向上、パーティクルの低減・防止にお試しください!
ブレイクフィルターは、セラミック多孔体のもつ非常に微細な細孔を利用し、圧力バッファー効果を利用した真空破壊用の高性能ディフューザーです。 【特徴】 ■スループットの向上 ロードロック室の窒…
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式(複数枚同時処理)APCVD装置
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板…
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 …
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置 (8インチウェハまで対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(AP…
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(AP…
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スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備!RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク/レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。 【特徴】 ・ハイクリーン化と歩留向上に貢献 ・検出…
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ウェハ搬送移載装置「ピッチ変換」「Face to Face移載」
カセット内のウエハを異なるカセットへ自動移載、2カセット同時やピッチ変換・FtoF(BtoB)等の機能を付加可能
ウェハ搬送移載装置は、オープンカセット内のウェハを別のオープンカセット・石英(SiC)ボート等へ自動移載する装置です。 【特徴】 ・4インチ~8インチウェハ用移載機 ・CR内でのウェハの…
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石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」
縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。世界トップクラスの納入実績(400台以上)
「HTC/VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。 【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ ・6…
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最大1600℃の電気炉向けヒーター|SiCヒーター(炭化ケイ素)
800℃~1600℃での高温使用が可能!ガラス製造、熱処理など、電気炉に適したヒーター。既存の設備へも置き換え・代替可能!
「SiCヒーター(炭化ケイ素発熱体)」は、800℃~1600℃での高温使用が出来るヒーターです。 単位面積当りの発熱量が大きく、短時間の昇温が可能です。 金属工業、電子工業、化学工業、窯業、開発試…
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二珪化モリブデン(MoSi2)ヒーター 最高1800℃使用可能!
二珪化モリブデンヒーター: 繰り返し使用が可能で高寿命、お客様に合わせた設計が可能
【特徴】 ・最高使用温度1800℃まで使用可能 ※約500℃~1800℃。 ・高寿命かつ、繰り返し使用が可能です。 ・取付取り外しが容易です。 ・温度制御がし易く、反応が早い為、炉内の…
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インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」
圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています!高純度アルミナを使用
クアーズテック社のインライン・ガスフィルター『CEPURE』に採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有してい…
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高温炉用熱電対(半導体製造装置向け)「高精度な温度測定機能」
高精度な温度測定機能により、熱処理工程の温度制御に好適!
高温炉での熱処理工程の温度制御・温度測定用センサとしてご使用頂いております。 【特徴】 ・新品の製作はもちろん、お使いの各種熱電対の改鋳も承っております ・専用のクリーンルームにて生産し…
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シリコンウエハ研磨用キャリア「短納期、少量ロット対応も可能」
シリコンウエハ製造のラッピング、ポリッシング工程でのウエハホルダーとして使用するキャリアをお客様のニーズに合わせて製作致します
シリコンウエハ製造のラッピング、ポリッシング工程でウエハホルダーとして使用するキャリアを各種金属(SUS、SK)、樹脂で製作可能です。 【特徴】 ■各種金属(SUS、SK)、樹脂で製作可能 …
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再結晶SiC (HE801)「最適な表面改質で多くの用途に対応」
高強度、高熱伝導のSiCを基材とした熱処理用道具材。プラズマ溶射での表面改質により、多くの用途に対応。
再結晶SiC (HE801)は、セラミック電子部品(MLCC、インダクタ、LTCC、SOFCなど)の焼成(800~1400℃)に使用されるセッター、プレート、ラックなどの炭化ケイ素質(SiC)を基材と…
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レチクルケース(フォトマスクケース)「クリーンな環境での使用可」
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能!
レチクルケース(フォトマスクケース)は、半導体の製造工程で使用されるレチクルを保管するケース。主要露光装置メーカーでの露光装置に使用可能。 【特徴】 ■高帯電防止性能 高帯電防止性能により…
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SMIF POD(マルチ/シングルタイプ)「SEMI規格準拠」
徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取り扱い中の機械的衝撃による損傷のリスクを最小限に抑えます
SMIF ポッド(SMIF POD) (マルチ/シングルタイプ)は半導体前工程のリソグラフィー工程でレチクルを保護するために使用されます。 【特徴】 ■剛性、耐久性が強化 ・金属製の為、従…
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半導体製造装置制御装置 仮想化システム「レガシー製品延命に寄与」
サポート終了の半導体製造装置の長期使用・保守改善・メンテナンスの救世主。老朽化する高価半導体製造装置の制御装置延命処置。
レガシーデバイス、旧 DEC社製PDP,VAX, Alpha,DMCCのミニコン/ワークステーションを搭載している半導体製造装置の制御装置を仮想化するシステムです。 既存のアプリケーション・OSを現…
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ウェーハ搬送ロボット(FIロボット)OH修理、コントローラ修理
交換部品は純正部品を使用し、純正手順で検査致します。また、短納期でOH修理対応致します。
半導体製造装置で使用されているウェーハ搬送ロボット(FIロボット)のOH修理、コントローラの修理を対応しております。 ■交換部品は純正部品を使用し、純正手順で検査致します。 ■短納期でOH修理…
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