高周波大電流スリップリング

PR高周波で大電流通電可能なスリップリングのご紹介

従来のスリップリング、水銀式などで対応できなかった高周波大電流、13.56MHz,25Ａを通電可能な1極のスリップリングです。 転動式のスリップリングは弊社独自の構造の製品です。 接触抵抗が低く安定しており、また惰性で回転する程度に回転が軽いのも特徴です。 また、高周波電流の振る舞いが複雑で予測することが困難な面もあります。 弊社ではこれまでユーザーとの情報交換で多数の不具合を解決してきた実績...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒサワ技研

【自動車業界必見】製品トラブルの事前防止に！『降じん試験装置』

PR「降じん試験」に関する装置概要、試験事例などを掲載した資料を無料進呈！…

「降じん試験」とは、塵埃試験のひとつで、室内で囲いのある場所で細かい粉じんの自然降下によって、車載機器や自動車部品の密閉性・耐浸食性、可動部品への動きの影響を調べる試験です。 近年は、自動車業界への導入でも注目を浴びており、併せて砂塵試験機を製作した実績も増えてきております。 特にエンジンルームは塵埃環境が非常に厳しく、これらの車載機器や自動車部品の耐塵性を評価することは大変重要とされてお...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノ・ハシモト

真空蒸着用ボート（タングステン・モリブデン・タンタル材）

【※全185種をラインナップ・在庫！】長時間の蒸着でもフィルム汚染が起…

ツボは、大小サイズの制限なく製造致します。 【製品特長】 ■電気伝導性に優れる ■蒸気圧が低いため、金属粒子の混入がない ■長時間の蒸着サイクルでも、成膜フィルムの汚染がない ■比電気抵抗値が均一なので、安定した真空蒸着が可能 【製品ラインアップ】 ◎蒸着ボート「タングステンボート」「モリブデンボート」 　・ストレートタイプ　 　・ステップタイプ 　・ノンスプラッシュタ...

メーカー・取り扱い企業： プランゼージャパン株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

C 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：真空搬送ロボット ■オプション：基板加熱900℃（基板表面）、基板冷却、基板バイアス、基板回転 　抵抗加熱蒸発源（最大6台）、反応ガス供給ユニットなど ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

【性能】 ■受注後納期：概ね2.5ヶ月 ■抵抗ボート：タングステンで2700℃程度までの昇温可能 ■入力最大電流：ボートで120A時にAC100V11A程度(実績) ■蒸発可能な物質：Ni(2017年11月現在) ■ボートサイズ：幅6～1...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

ディスペンス式ギャップフィラー【サーマギャップ】

ロボットプログラムによる自動実装も可能。製造・物流でのコスト低減に！2…

能で、製造・物流などの コストが低減できます。 2液性と異なり、キュアされた製品であり、実装後すぐに使用でき、 熱処理などの後工程が不要です。 【特長】 ●密着性に優れ、きわめて低い熱抵抗を実現 ●圧縮後、ほぼゼロ反発力で熱伝導性能を発揮しBGA等実装部品への 　負荷を減らします。 ●優れた粘弾性を持ち、多様なギャップに対応しつつ垂直実装などの 　耐久性を要求される用途でも使...

メーカー・取り扱い企業： 太陽金網株式会社 東京営業所

卓上型蒸着装置『Meius Light』

学生向けの実験や教材作りに！卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

【仕様（一部）】 ■基板サイズ：50mm 1枚（多種サイズの設計対応可能） ■蒸発源：抵抗加熱方式・切り替え式・AC10V 100A ■重量：約18kg（卓上チャンバのみ 制御BOXは除く） ■チャンバベント：導入圧力0.02Mpa以下（大気解放） ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

薄膜形成

薄膜形成

膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・ イオンプレーティングです。 液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応ができます。 光学・電子部品などを製作する際に応用する技術であ...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

ンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

ンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inc...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのい...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着技術

製品の美しさはもちろんのこと、機能面もご満足いただける仕上がりにいたし…

奈良原産業の『真空蒸着技術』を紹介します。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用。 金属を蒸発させて、プラスチック製品などの非金属の表面を金属化する メタライジングにより、製品により洗練された光沢で高級感を付加いたします。 また、小ロット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奈良原産業