• N2プラズマ Visible Plasma 製品画像

    N2プラズマ Visible Plasma

    PRN2リモートプラズマ、N2ダイレクトプラズマ、コロナ、トーチプラズマを…

    当製品は、従来のN2リモートプラズマとエアープラズマの ハイブリッドタイプです。 プラズマの発生を目視で確認可能。 また、10mmまでの長距離照射が可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■コンパクトなヘッド構造 ■プラズマの発生を目視で確認可能 ■10mmまでの長距離照射が可能 ■低温の為熱ダメージを与えない ※詳しくはPDF...

    • 2.PNG
    • 3.PNG
    • 4.PNG
    • 5.PNG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イトー

  • 2液性接着剤を混合しながら塗布!2液混合仕様モーノディスペンサー 製品画像

    2液性接着剤を混合しながら塗布!2液混合仕様モーノディスペンサー

    PR2液性の接着剤やギャップフィラーの塗布に! 高粘度液・高濃度スラリーま…

    2液混合仕様モーノディスペンサーは、2台のモーノディスペンサーと スタティックミキサーを組み合わせたユニット。 主剤と硬化剤を正確に混合しながら、高精度に吐出し、生産性向上に貢献します。 [特長] ●混合比・吐出量を簡単調整  ローターの回転制御だけで混合比・吐出量を簡単に調整できます。 ●高粘度液も安定吐出  50万mPa・sを超える粘度の液体にも対応可能です。 ●高い混合精...

    • HD2液TYPE3-001s.jpg
    • img_use01.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 兵神装備株式会社 東京支店

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    ンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフット...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • クリーンプロセス向け高純度セラミックスヒーター 製品画像

    クリーンプロセス向け高純度セラミックスヒーター

    研究所や電子産業に最適!クリーンプロセスでの高温発熱体

    体から炉内雰囲気中への拡散を抑える ■全出荷品に対して鉄、ニッケル、銅などの含有量を記載した 成分証明書の発行が可能 ■不純物が少なく粘着性の高い高純度皮膜 ■カンタルスーパー1800に比べ25%高い曲げ強度(室温にて) ■詳細は、お問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4 ・プロセス制御:手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援 製品画像

    2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

    光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

    古河電気工業(株)でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を5年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブ...

    メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ■Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ■3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 加圧RTA装置 製品画像

    加圧RTA装置

    基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!

    【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■反応ガス:O2 、N2 、 H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000 ℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150 ℃/sec ■真空排気:DP ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 活性化アニール炉『VF-3000H』 製品画像

    活性化アニール炉『VF-3000H』

    R&D~量産まで使用可能!3~6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉

    【特長】 ■ミニバッチ、50枚処理、R&Dから量産ラインに対応 ■3~6インチまで幅広いウェーハサイズに対応 ■炉内は当社独自のメタルフリー構造 ■ウェーハ近傍の温度モニターが可能 ■N2ロードロックを標準装備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

  • 真空ガス置換オーブン 製品画像

    真空ガス置換オーブン

    Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

    特許技術のラミナーフロー方式  YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、  加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。  平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを  除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタ...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 単線用バット溶接機(DSシリーズ)【IDEAL社】 製品画像

    単線用バット溶接機(DSシリーズ)【IDEAL社】

    創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機!!  ヘビー…

    を  用途に応じて選択可能。 ・EGV:ボリュームスイッチにてアニール電流を無段階に調整する事ができ、自動オフするタイマー付き ・GSR:サイリスタ自動焼鈍+サイリスタ温度計付で、温度1、温度2、温度3 を設定でき、焼鈍温度をモニタリング可能(φ5mmから対応可能) *ご質問がありましたら、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦インターナショナル株式会社 本社

  • ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置) 製品画像

    ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

    300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

    真空置換後の低酸素雰囲気(N2)中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。300mmウェハカセット単位のキュアリングで高品...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】 製品画像

    光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

    耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

    スシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse) ■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可) ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク

  • 水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料 製品画像

    水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料

    用例;EVバッテリー開発(発生水素をオンライで計測)水素ジェット・ター…

    水素ガス限定、膜交換不要、メンテ・校正不要、自動校正、インライン用、OEM向け、水素検知、水素濃度計測、水素ガス分析、水素ジェット燃料BTU計測、水素ガスタービン混合比オンライン計測、FCV排気管内水素計測、水素発生装置、FC燃料電池性能評価装置、センサー自体が水素限定、誤信号ゼロ、防爆、IP64, IP68, 変圧器、新幹線用ー変圧器、支柱変圧器、DGA, 絶縁油保安、呼吸ガス、ドライキャスタク...

    メーカー・取り扱い企業: TRANS-PAC SALES CORP

  • 外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉 TOUVAC 製品画像

    外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉 TOUVAC

    金属レトルト外熱方式により、シール性・炉内雰囲気の再現性等アップ!

    【特徴】 1. シール性アップ 2. 炉内雰囲気のコントロール性アップ 3. 炉内雰囲気の再現性アップ 4. 炉内雰囲気の汚染防止 【主用途】 各種マテリアルの光輝焼戻し・焼鈍し 仕様・性能等、詳しくはカタログをご...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トウネツ 東海事業所

  • U字型ガラス曲げ炉の世界市場の調査レポートYH Research 製品画像

    U字型ガラス曲げ炉の世界市場の調査レポートYH Research

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    2023年9月19日に、YHResearchは「グローバルU字型ガラス曲げ炉のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」の調査資料を発表しました。本レポートでは、U字型ガラス曲げ炉の世界市場について、製品別、アプリケーション別、会社別、地域別、国別に分類されます。売上、価格、市場シェア、成長率などに焦点を当て、競合環境、競合他社、市場ランキング、技術動向、新製品開発など、市場内の競争環境を分析し...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • メルトセルガス化炉の世界市場レポート YH Research 製品画像

    メルトセルガス化炉の世界市場レポート YH Research

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    YH Research株式会社(本社:東京都中央区)は調査レポート「グローバルメルトセルガス化炉のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を11月21日に発行しました。本レポートでは、メルトセルガス化炉市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、メルトセルガス化炉市場の開発方針と計画、製造...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • 表面粗さ基準片の世界市場動向分析2023 YH Research 製品画像

    表面粗さ基準片の世界市場動向分析2023 YH Research

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    YH Research株式会社(本社:東京都中央区)は調査レポート「グローバル表面粗さ基準片のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を12月7日に発行しました。本レポートでは、表面粗さ基準片市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、表面粗さ基準片市場の開発方針と計画、製造プロセスと...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • バイオマス炭化炉の世界市場成長率2024-2030年 製品画像

    バイオマス炭化炉の世界市場成長率2024-2030年

    バイオマス炭化炉の世界市場:メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別…

    グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のバイオマス炭化炉の供給、需要、主要メーカー、2024 ~ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるバイオマス炭化炉の販売量と販売収益を調査しています。同時に、バイオマス炭化炉の世界主要メーカー(ブランド)、市場シェ...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

  • 高温アニール炉の世界市場シェア2024 製品画像

    高温アニール炉の世界市場シェア2024

    高温アニール炉の世界市場:メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別、…

    グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の高温アニール炉の供給、需要、主要メーカー、2024 ~ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における高温アニール炉の販売量と販売収益を調査しています。同時に、高温アニール炉の世界主要メーカー(ブランド)、市場シェア、...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントロー...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントロー...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ◉Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • RTA装置 製品画像

    RTA装置

    トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

    【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■反応ガス:O2、N2、H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150℃/sec ■真空排気:DP ■制御操...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

1〜30 件 / 全 30 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >
  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR