無料プレゼント！『ノイズ対策　ハンドブック』

PRプリント基板設計での“ノイズ対策”のポイントが満載！ハンドブック無料進…

アート電子では、プリント基板を扱う電子回路の設計・開発者のための 『ノイズ対策　ハンドブック』を無料プレゼント中！ そもそも「ノイズとは？」といった基本から、ノイズ対策の方法、 プリント基板の回路設計におけるポイントなど、 実践的な内容がたっぷり詰まった大充実の１冊です。 【掲載内容】 ■ノイズについて ■ノイズ対策の方法 ■プリント基板設計から行なうノイズ対策 ■プリン...

メーカー・取り扱い企業： アート電子株式会社 本社

N2プラズマ　Visible Plasma

PRN2リモートプラズマ、N2ダイレクトプラズマ、コロナ、トーチプラズマを…

当製品は、従来のN2リモートプラズマとエアープラズマの ハイブリッドタイプです。 プラズマの発生を目視で確認可能。 また、10mmまでの長距離照射が可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■コンパクトなヘッド構造 ■プラズマの発生を目視で確認可能 ■10mmまでの長距離照射が可能 ■低温の為熱ダメージを与えない ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトー

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

で製膜をする事が可能です。 プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。 量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。 プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。 プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

のTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追加が可能。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

フッ素コーティング施工事例2　各種工業製品

当社施工実績の一部をご紹介。フッ素コーティング施工事例2　各種工業製品

株式会社大東化成より「フッ素コーティング施工事例2　各種工業製品」のご案内です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 RIE...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

MOCVD装置　VEECO K465i G2用排気フィルター

MOCVD装置　VEECO　K465i G2

設計し、アメリカＲＡＮＤ社の高級耐高温不織布と中国産ＳＵＳ３０４を構成した製品、不織布材料はアメリカから直接輸入、耐高温、耐高圧、高精度、ろ過効果がいいなどの特徴があり、K465i G２ シリーズは2回ろ過プロセスを採用、ろ過チャンバーの長さを十分利用できる。 アメリカから輸入したガラス繊維ろ紙を使用、隙間分部が均一、ろ紙厚く、透過性よく、差圧低く、MOCVD装置の保護機能もある。 優れ...

メーカー・取り扱い企業： 愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 　乾式除害では処理できない可燃性ガス（H2、C2H2）も処理可能。H2OとCO2として排出。※2 　※1　NH3を使用した場合 　※2　CH4は処理不可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

フトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diff...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(N...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、SECS/GEMプロトコルを介してファクトリオートメーションに統合...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール型熱式 チャンバー温度：最高350℃ プロセスレシピの例：Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, Pt, Ru カスタマーレシピ作成モードもあります インターロックと安全機構付き ...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

PICOSUN Sprinter ALDシステムは半導体、ディスプレイ、IoT等の業界における 300 mm製造ラインで活躍するバッチALD生産システムです。 SEMI S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、枚葉成膜の品質と均一性を 高速処理、高スループット、高信頼性と組み合わせています。 処理時間が短く、熱負荷が抑えられるため、破損しやすい基板材...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

● トレーカセット方式を採用。 　 1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。 　 2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。 　 1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。 　 2. ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。 膜種　　　　：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。 　　　　　　　その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。 ウエハサイズ：最大８インチ 　　　　　　　８インチ以下のサイズであれば制限はありません。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

濾過精度 0.003μm 常用圧力 1MPa未満 最大許容正差圧 0.7MPa(20℃) 最大許容逆差圧 0.3MPa(20℃) 最高許容温度 120℃(不活性ガス) 外部漏量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング：SUS316L(電解研磨処理)　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

績】 ・半導体露光装置 ・液晶露光装置 ・車載設備 ・航空宇宙 ・医療用各種診断装置　など まずはお気軽にご相談ください 加工設備 横型MC：a８１ｎｘ【900×900×1020ｍｍ】1台 　　　　 Ａ７７【800×750×770ｍｍ】2台 立形MC：Ｖ77【1200×700×650ｍｍ】1台　 　　　　 Ｖ77Ｌ【1500×700×660ｍｍ】1台　 　 ＮＶＸ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

商社が扱う【省エネ環境・安全システム エンジニアリング】

商社が扱う幅広い分野での省エネ環境・安全システム エンジニアリング！ …

【空気】 1.圧縮エアー漏れ測定の改善 2.エアーブロー工程の省エネ改善 3.エアーブロー間欠運転による 省エネ改善 4.コンプレッサーの省エネ診断 5.圧縮エアーのクリーン化、 フィルター管理 6.送風機の省エネ診断 7.真...

メーカー・取り扱い企業： 共和工機株式会社

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

えています。 ダイヤモンドの卓越した熱伝導率と高い電気抵抗率は、マイクロプロセッサの 周波数向上、高出力化、部品の小型化、長寿命化を可能にします。 【特長】 ■1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計 ■電気的に絶縁し、良好な機械的強度 ■低重量、毒性、誘電率 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ■ナノカーボン材料を合成可能 ■3種類のラインアップ ■用途...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

『酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕様や各種オー...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

化合物半導体ウエハ用非接触ピンセット

マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を非…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/2ウエハ ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所