2D/3DCAD資産を活用したシステム開発

PR文字情報の抽出、自動作図など、「できない」と諦めていたご要望を実現

当社では『2D/3DCAD資産を活用したシステム開発』を行っております。 CADのカスタマイズ、独自システム構築、OEMなど幅広く対応可能。 市販CADソフトをベースにお客様専用のシステムを開発し、 「できない」と諦めていたご要望を実現いたします。 【市販CADソフトを活用した専用ソフト開発のメリット】 ■安定品質 ■柔軟なライセンス ■フルカスタマイズ ※「PDFダウ...

メーカー・取り扱い企業： アンドール株式会社 ITプラットフォーム営業部　

3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

『ALCIS』 日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機 高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載 「高出力Blueレーザ」 高出力BLUEレーザ（３kW/４kW）により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。 「スキャナヘッド」 スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。 コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、 好適な加工方法を選択可能で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アマダ（アマダグループ）

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

SUS303への細穴放電加工

最短半日見積り／細穴放電加工、ワイヤー放電加工などの精密微細加工はお任…

〈材質〉ステンレス／SUS303 〈加工〉細穴放電加工 〈サイズ〉φ５mm こちらの製品は、小径ステンレスに対して細穴放電加工を行ったワークです。 全部で8箇所にφ0.２mm、深さ5mmの穴あけ加工（止まり穴）を行いました。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

【特殊形状】半導体関連部品／SKD11を使用した特殊形状加工品

最短半日見積り／特殊形状、複雑形状にも対応！半導体、電子機器、工作機械…

（黒色）、メッキ（金・銀）、無電解ニッケルメッキ、各種塗装、コーティング等 【保有検査器】 CNC三次元測定機 Crysta-Apex S7106、三次元測定機 Crysta-Plus M574、3Dスキャナ型三次元測定機 VL-500、ワンショット3D形状測定 VR-6200、画像寸法測定器 IM-8000・LM-1100、真円度・円筒形状測定機 RA-2200AS、評価型表面粗さ測定機 S...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

【半導体関連】装置の安全カバーフレームの製造

最短半日見積り／半導体製造関連／実装機械 等、装置の部分的な製作、装置…

ム部分の製造 半導体製造装置メーカー様用 ◎主な仕様 [数量]　装置カバーA　1台　／装置カバーB　1台 [寸法(mm)／Ｗ×Ｄ×T] 装置カバーA ： 2240mm　×　1750mm　×　1935mm 装置カバーB ： 3500mm　×　3050mm　×　1845mm [カバー素材]　PET (t=5) アルミフレームの組立てや樹脂カバーの取付けなど、安全カバーの製作を承りました。 開...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

Play感覚で19�34;コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：�39;IntelliDep�39;制...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

半導体製造装置用部品に特化！　海外製セラミックのご紹介

静電チャック、ピンチャック等の調達にお困り事があった方は必見！ 海外…

【対応領域】 材料提案から対応可能。 ※ESCはパターン製作も対応可能です！ 【対応材質】 アルミナ(Al2O3)　ジルコニア(ZrO2)　イットリア（Y2O3） 窒化アルミ(AlN)　炭化ケイ素（SiC）　窒化ケイ素(SI3N4) などの対応が可能です。 【対応サイズ】 8インチ、12インチサイ...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

エミネント式現像エッチング剥離ライン

高いエッチング均一性！特許取得の左右交互斜めシャワーで実現しました

東京化工機の『エミネント式現像エッチング剥離ライン』は、 均一性90％以上のエッチング精度を誇る、エッチング剥離ラインです。 標準偏差、上下1.1μmを実現。 銅箔/コア/銅箔：3/40/3μmの安定搬送。 特許取得の左右交互斜めシャワーにより、エッチングの均一性を 実現しました。 【特長】 ■進化したエッチング精度、均一性90％以上 ■標準偏差、上下1.1...

メーカー・取り扱い企業： 東京化工機株式会社 本社・長野工場

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など 【成　　　膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

難燃性/UL取得　同軸RFケーブル

UL,IECの難燃性規格認証済の同軸ケーブルをご提供致します。　

証ケーブルの納入実績がございます。 弊社ではケーブルを国内在庫しているため、アッセンブリ、電気試験を実施し、短納期でお届けすることも可能です。 ＜ラインナップ＞ -LMR-FRシリーズ φ3mm-30mmまでのUL取得同軸ケーブル -LMR-LLPL/LLPXシリーズ UL910 Plenum Cable -TFTシリーズ　高温対応 同軸ケーブル ご要望に合わせたご提案が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

RIE-330iPCは、放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレー...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を 2倍以上に伸ばすことに成功しております。 【特長】 ■均一性<2% 3σ(200mmウエハ)、スキャニングモーションを 　取り入れることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、 　Dua...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

成膜 ⇔ エッチング装置『210D』

簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…

【仕様】 ■誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma：ICP） ■-20℃～150℃ ■～200mmウエハ ■7 x 2�34;ウエハ、3 x 3�34;ウエハ バッチ処理可 ■ガスライン8標準（11オプション） ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACCUBATH

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACC…

ステム 【特徴】 ○適切な純水供給量により、安定した沸点管理を実現 ○±0.2℃の温度管理を実現 ○アクシアシールTM（オプション）によるシール部の冷却機構により長寿命化、 　30ヶ月の保証を実施 ○Si3N4エッチ（ナイトライドエッチ）のもっとも有効で、信頼性と安定性に富んだ 　システム ●その他の機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

エッチングキット『ロットくん』

プラスチック成形品の製造ロット管理に新方式！

【ラインアップ】 ■ロットくん 数字セット 　・N-1：数字8mm 　・N-2：数字5mm 　・N-3：数字3.5mm ■ロットくん 数字+英字セット 　・EN-1：数字、英文字8mm 　・EN-2：数字、英文字5mm 　・EN-3：数字、英文字3.5mm ※詳しくはPDFをダウンロー...

メーカー・取り扱い企業： 山陽セルプラ工業株式会社

フォトエッチング加工サービス【エッチング加工の基礎知識】を進呈！

試作から量産まで可能。バリのない平滑な外縁のノーブリッジエッチングなど…

【技術紹介】 ◎ハーフエッチング 表裏異なるパターンを持つエッチング原版を使用し、 金属板の片側のみにパターンを加工。加工深さは通常板厚の2/3程度です。 ◎テーパー加工 貫通する穴パターンを加工する際に、貫通穴のパターンを 表裏異なる寸法にすることで、テーパー状に穴加工が可能です。 ◎ノーブリッジエッチング ブリッジ箇所...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

【仕様(一部)】 ■PECVD装置 ・SiN3膜形成 ・SiO2膜形成 ・サンプルサイズ最大240mm ■スパッタ装置 ・金属膜 ・有機膜 ・サンプルサイズ最大150mm ■反応性イオンエッチング装置 ・表面処理 ・故障解析 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2�34;マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術に...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

主な仕様 処理工程：投入→エッチング→絞り→水洗槽 処理最大幅：330mm 処理最小長さ：100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄　40...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

【加工技術】エッチングの工程

パターンフィルム作成から検査・出荷まで！問題のないものをお客様のもとへ…

ます。寸法検査、外観検査など 万全の品質管理を実施し、製品として問題のないものをお客様のもとへ お届けいたします。 【工程内容(一部))】 1.パターンフォルム作成 2.前処理工程 3.レジストラミネート 4.露光 5.現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケミカルプリント

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からＰＶ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

エッチング(腐食)銘板の工程

表面クリアー加工や保護シート、両面テープ加工など様々な加工により仕上げ…

データの入稿もしくは当社にて製作し、裏膜面にてフィルム出力などの 工程を行います。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【工程】 1.データ入稿 2.フィルム出力 3.焼付けおよび腐食 4.色入れ 5.仕上げ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社重森産業社

低ロス・ハイパワーRFフレキシブルケーブル

通信用低ロス LMRシリーズ・RF大電力フレキシブルケーブルを国内在庫…

■製品ラインナップ ・LMRシリーズ LMR-195, 240, 300, 400, 600, 900, 1200 （屋外用, 耐水タイプ-DB,難燃性UL取得品-FR,LLPF,PPLX,軽量-lite, 撚線フレキシブルタイプ-UF) ・Low PIMケー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ＲＦフィルタ

高性能でコンパクトなＲＦフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…

・チャンネル：1～8 ・RF周波数：1～50MHz ・インピーダンス：共振周波数で10kΩ以上 ・DCR：各チャンネルで25℃の場合に2MHzで100mΩ未満、13MHzより高い周波数で15mΩ未満 ・L：各チャンネル25℃で5μH～300μH(公称値) ・C：各チャンネル10～25pF(公称値) ・チャンネル間の絶縁は最大AC3kV。 ・標準仕様の時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

【デモ実施中！】小型実験用イオンビームエッチング装置

【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

【仕様】 ●エッチング用イオンソース 　DC 11cm イオンソース 　SOLUS　POWER　SUPPLY ●真空チャンバー 　到達圧力　6.0×10-5Pa台 　動作圧力　3.0×10-2Pa台 ●シングルステージ 　水冷機構 　3軸動作　自転・入射角度・円弧移動 　不定形基板からMax 6inchiまで選択可能 ●排気系 　主排気　TMPまたはCryo-p...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

小型イオンビームエッチング装置

イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

仕様概略】 ○エッチング用イオンソース →DC 11cm ION SOURCE →SOLUS POWER SUPPLY ○真空チャンバー →到達圧力：6.0×10-5Pa台 →動作圧力：3.0×10-2Pa台 ○シングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板～Max 6inchまで選択可能 ○排気系 →主排気：TMP または Cryo-p...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社