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22件 - メーカー・取り扱い企業
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PR様々なケーブルに対応した高速リモートI/O。オムロン社製B7Aリンクタ…
・LANケーブル、キャプタイヤケーブル、ツイストペアシールドケーブルに 対応(本体の接続方式はRJ45、差込端子台より選択可能) ・I/O4,096点に対応。300mの距離をサイクリック通信10msに対応 ・ソフト不要。DIPスイッチで設定可能。 ・ノイズに強く高品質な通信が可能。 ...【CUnet基本仕様】 ・通信速度(距離):3Mbps(300m)、6Mbps(200m)、12...
メーカー・取り扱い企業: 東朋テクノロジー株式会社 エレクトロニクス事業本部
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PR3次元ソリッドCAD/CAMシステム TopSolid’Cam 7
穴あけ、2軸、3軸、同時4軸・5軸、旋盤、複合加工を1つのシステムで行うことができるため、工作機械や加工方法によって使い分けていたCAMシステムを統一することが可能です。 【特長】 ■ 豊富なCAD機能が標準搭載されたCAMシステムであるため、製品、治具、加工材を容易にモデリング可能。公差変更も自由自在。 ■ 製品モデルの変更にツールパスが自動追従するため、ミスや手間を削減し、手戻り...
メーカー・取り扱い企業: コダマコーポレーション株式会社 本社、大阪営業所、名古屋営業所
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(1〜3源)、もしくは4"(1源) ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows P...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超…
・850℃(SH-IN型), 1100℃SH-BN型 ◎ 対応基板サイズ ・1〜6inch(*1, 1.6inchはインコネルタイプのみ) ◎ 使用雰囲気 ・SH-IN:真空(1x10-7Torr), 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他 ・SH-BN:真空(1x10-7Torr), 不活性ガス, H2, He, CH4, C(*O2不可) ◎ 基板固定用...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
タングステン/モリブデン(メタル炉)、又はW/Mo多層シールド ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pasc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
inch、又は6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ(オプション) ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ:EXT75DX(Edwards社) ◉ ロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
層)、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター(500℃)、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属:Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン&アップロード、ログ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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<30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細…
化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要) • SiO2エッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要) 【仕様】 ◉ 対応基板:〜Φ6inch ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動シーケンス ◉ APC自動圧力制御 ◉ ガス最大3系統(Ar, O2標準付属) *N2、又はフッ化ガス系増設 ◉ PCソフトウエア付属:自動エッチングレシピ作...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
◉寸法:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
【主仕様】 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~T...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
、又はDC/DCのみ)、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:〜Φ4inch ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
タングステン/モリブデン(メタル炉)、又はW/Mo多層シールド ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pasc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
inch、又は6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ(オプション) ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ:EXT75DX(Edwards社) ◉ ロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
◉寸法:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
【装置構成事例】 *Chamber-1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~T...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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