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12件 - メーカー・取り扱い企業
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PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…
Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...
メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社
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コンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです!
卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
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φ8"~φ12"ウェーハに対応!CMP加工中にln-Situパッドコン…
『LGP-712』はφ8"~φ12"ウェーハに対応し高精度技術の開発を支援する製品です。 2ポリッシングヘッドを備えデバイスの平坦化CMPに対応。 パッドやスラリーのご研究開発用の実験機としても適しております。 当社では、Cu-CMPなどのメタルCMPにも対応しお客様のご要望に お応えできるように多くのオプションを用意して...
メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社
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あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことができま…
『CVシリーズ』は、木材加工機械で培ってきた繊細な技術を樹脂の スライスに応用したCMPパッドスライサーです。 あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことが可能。 CMPパッドをはじめ、リノリウム(床材)やPVC、ウレタンフォーム、 各種機能性樹脂の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社丸仲鐵工所
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φ300ウェハに対応したマニュアル式のCMP装置です。MEMS・TSV…
シリコンウエハーの膜加工(CMP)や薄板加工を行うのに最適です。 膜種はLow-K膜用対応装置や導電体用装置、絶縁膜用装置があります。 ウエハー材料の薄板加工は別オプション装置により、30μm・50μmまで薄くしたWaferを単...
メーカー・取り扱い企業: テクノライズ株式会社
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両面研削機や研磨機、CMP装置のことならお任せください。
【特長】 ・R&D用の小型CMP装置 プラテンφ400 4,6inchウェハー対応 ・安定した加工再現性と維持費の低減が得られます ・6~12inch対応の機種も有ります 切削機・研磨機に関してはお問...
メーカー・取り扱い企業: AMTEC株式会社 AMTEC 株式会社
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高精度研磨を実現!多段階ステップを有し、複雑な研磨レシピに対応可能
『LGP-612』は、φ4"~φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた 高精度技術の開発を支援する製品です。 ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。 ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、 低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。 【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度...
メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社
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試作から量産までの製作対応可能!
溶接構造を熟知した技術者で、寸法精度の精密を出すことができ、 歪処理等も得意です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【製品紹介】 ■ホイルローダー リフトアームCMP/キャノピCMP(ROPS)/リアフレームCMP/ フロントフレームCMP/ベルクランクCMP/ホイルローダセット台車/ ホイルローダ専用台車 ■油圧ショベル ブームCMP/アームC...
メーカー・取り扱い企業: 新栄工業株式会社 木元工場
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固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介…
】 ・2TS4(対応砥粒 1µm~6µm) ・2TS5(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・2TS8(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・4FV1(対応砥粒 0.015µm~3µm) 【CMP工程】 ・CMPクロス(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) ・CMPパッド IC-1000(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) その他、サンプルに適した研磨盤をご紹介いたしま...
メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社
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ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に仕上げる鏡面研磨法!
社新興製作所では、『ポリシング加工』を行っております。 ポリシング加工とは、ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に 仕上げる鏡面研磨法です。 工法については機械研磨や化学機械研磨(CMP)があり、当社では 単結晶やセラミックス、金属、樹脂に至るまでの種々材料物性に応じた 工法を適切に選定し、ご希望の表面粗さに仕上げさせて頂きます。 表面粗さはサブミクロンからナノオーダー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社新興製作所
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電子部品や光学部品材料、半導体ウェーハなど様々なラッピング・ポリッシン…
金属・セラミック等の電子部品材料から、サファイア、石英、水晶等の光学部品材料、 SiやGaAs、等の半導体ウェーハのCMP加工からMEMS等の超微細加工に至るまで、 貴社の加工材料に適したソフトウェアのご提供をしております。...
メーカー・取り扱い企業: テクノライズ株式会社
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【277台】日本唯一の大型測定機械もあり!機械設備・測定機一覧
先端技術をささえる超精密研磨のクリスタル光学の機械設備・測定機一覧です
【主な設備】 ○研磨装置(定盤最大サイズ:3200mm) →平面ラップ盤 →両面ラップ盤 →大型オスカー式ラップ盤 →超大型CMP研磨機 他 ○研削盤(最大サイズ:5000mm) →大型門型平面研削盤 →超精密成形平面研削盤(静圧式) →平面研削盤 →内面研削盤 他 ○切削加工機(最大サイズ:8000mm) ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリスタル光学
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大型機械完備! 株式会社クリスタル光学 機械設備・測定機一覧
先端技術をささえる超精密研磨のクリスタル光学の機械設備・測定機一覧です
【主な設備】 ○研磨装置(定盤最大サイズ:3200mm) →平面ラップ盤 →両面ラップ盤 →大型オスカー式ラップ盤 →超大型CMP研磨機 他 ○研削盤(最大サイズ:5000mm) →大型門型平面研削盤 →超精密成形平面研削盤(静圧式) →平面研削盤 →内面研削盤 他 ○切削加工機(最大サイズ:8000mm) ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリスタル光学
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