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PR溶剤の有効成分の回収!運転やバルブ操作は、空気圧や窒素圧による遠隔操作…
本装置は、廃溶剤液から水分や不純物を除去し、溶剤の有効成分の回収を行う装置です。 【特長】 ■溶剤のリサイクル、廃液処理のコスト削減 ■空気圧・窒素ガスによる遠隔操作方式の為、高い安全性確保 ■連続減圧蒸留方式で蒸留ユニットは防爆仕様 ■設置・移動が簡単な省スペース設計 ■簡単操作、自動運転 ■安全に留意した自動停止機構 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお...
メーカー・取り扱い企業: プリテクノジャパン株式会社
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コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
【製品仕様】 スパッタ方式:RFマグネトロンスパッタ方式 カソード:φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源:RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度:10^-4 Pa台 寸法: SVC-700RFIII(制御ユニット):W370×D310×H195mm RF CONTR...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ター…
【仕様】 ■RSTZ-003 テーブルサイズ:Φ500mm 透過穴:Φ250mm 耐荷重:300kgf(均等荷重時) モータ型式:PK513-H100S(オリエンタルモーター) 駆動ユニット分解能:0.02μm 軸方向最大ストローク※:X軸±15mm、Y軸±17.5mm、Z軸±7.5mm ...
メーカー・取り扱い企業: 神津精機株式会社
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ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
『MSS600-3』は、矩形カソード W100xH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
Ar標準、最大3系統増設:N2, O2) ・APC自動制御(キャパシタンスマノメータ オプション) ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター ・寸法:804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量:約70kg ・電源:200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ:Φ225(内径)x 250mm ・真空系:TMP + RP(ドライポンプ オプション) ・ペル...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチ…
ゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式:DC/平行平板型 〇排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H):282/450/440mm ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…
QUICK COATER SC-701HMC IIは、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…
g 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:自動 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H):225/420/320mm...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター
可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:自動 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H):225/420/320 ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…
、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途:MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H): 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) :1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ: 直径150 mm 最大基板キャリア:直径220 mm 対応...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
Ar標準、最大3系統増設:N2, O2) ・APC自動制御(キャパシタンスマノメータ オプション) ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター ・寸法:804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量:約70kg ・電源:200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ:Φ225(内径)x 250mm ・真空系:TMP + RP(ドライポンプ オプション)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルで...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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