• 【ソーラーパネル計測器】リユースチェッカーRUC-100 製品画像

    【ソーラーパネル計測器】リユースチェッカーRUC-100

    PR【初心者でも簡単】太陽光パネルの再利用の可否を瞬時に選別!リユース利用…

    『リユースチェッカーRUC-100』は、電気の専門知識がない方でも 太陽光パネルの電気的な不良品を判定できるようにすることを目的とした、 簡易の診断機器です。 5つの測定項目を総合的に自動判断し、液晶ディスプレイに○☓判定で 表示することで、容易に選別判定が可能。 測定項目はパネル毎に機器内蔵メモリーに保存できるほか、CSVデータは 出力可能です。 【特長】 ■液晶ディ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • エマルスファイン 製品画像

    エマルスファイン

    PR2つのシャワーヘッドから溢れ出る水と泡の力!理美容の施術に新しい流れを

    当社が、製品開発に携わらせて頂きました『エマルスファイン』についてご紹介いたします。 特殊技術により大量のファインバブルを発生させ、高い浸透性と洗浄力で、 髪や頭皮に配慮し洗浄。 それにより、髪の艶が増すだけでなく、洗髪やドライブローにかかる時間が 短縮されるため施術者の負担を軽減します。 【特長】 ■9000万~最大2億4000万個のファインバブルを生成 ■特殊構造により乳化作用を促進して...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社松永通信 北条支店

  • 【水系洗浄剤とは?】洗浄剤の種類や水系洗浄剤の特徴を解説 製品画像

    【水系洗浄剤とは?】洗浄剤の種類や水系洗浄剤の特徴を解説

    水系洗浄剤について水分量が何%を占めた洗浄剤であるのかに着目して解説!

    が、水系洗浄剤を語る上では水分量が 何%を占めた洗浄剤であるのかに着目していただき、その特性を 理解いただけたらと考えます。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証 製品画像

    【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証

    洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています!洗浄ノウハウをご紹…

    ックス洗浄が 必要となる場合も増加傾向にあります。 高密度実装や搭載部材の多様化により低スタンドオフを有する電子デバイスが 増加しています。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はシンター接合に求められる洗浄技術について解説した技術資料です。...

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    • 微細接合向けはんだペースト洗浄性検証3.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証 製品画像

    【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証

    リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因!洗浄ノウハウをご紹介

    に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともに さまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の 悪化に直接的に起因します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。...

    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証2.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証3.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証4.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証6.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証 製品画像

    【共同研究】Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証

    金属塩(Bi塩)の形成における課題解決策などを掲載!洗浄性検証を共同で…

    そこで、Bi塩形成の課題を解決するため、日本スペリア社様が開発した Sn-Bi系低融点はんだペーストにおいての洗浄性検証を共同で行いました。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はパワーデバイスの進化と課題について解説した技術資料です。...

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    • Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証3.JPG
    • Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証4.JPG
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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証 製品画像

    【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証

    ギ酸リフローについて詳しく解説!洗浄ノウハウをご紹介します

    。 パワーデバイスの分野では、ボイドの発生を抑えられ、低温域で接合できる 利点が大きいギ酸リフロー方式によるはんだ付けが広まりつつあります。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析 製品画像

    【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析

    一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、はっきり見える…

    はっきり見えます。 また、他社で洗浄された基板の分析撮影も承ります。 【特長】 ■残渣を見ることができる幅が広がった ■サンプル受領より、最短2日で結果をお知らせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【スプレー(シャワー)洗浄とは?】スプレー洗浄の重要性とメリット 製品画像

    【スプレー(シャワー)洗浄とは?】スプレー洗浄の重要性とメリット

    スプレー洗浄の原理と特徴について解説!洗浄ノウハウをご紹介

    の汚れや不純物を効果的に 取り除くことができます。 スプレー洗浄は、物理力を調整しやすく、液体の置換性にも優れています。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク洗浄の確認ポイント】洗浄剤・洗浄方法を選択する方法 製品画像

    【メタルマスク洗浄の確認ポイント】洗浄剤・洗浄方法を選択する方法

    環境面にも配慮した洗浄の実施が可能!洗浄ノウハウについてご紹介

    もちろん、ランニングコストの削減や作業者の安全、 環境面にも配慮した洗浄の実施が可能となります。 今一度ご確認ください。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    • メタルマスク洗浄においての確認ポイント3.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響 製品画像

    はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響

    【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究!詳しい解説と画像でご紹…

    。 高性能はんだペーストを開発されている弘輝様と共に、はんだ接合後の フラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響を共同研究いたしました。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はパワーデバイスの進化と課題について解説した技術資料です。...

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    • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響3.JPG
    • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響4.JPG

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  • 【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜 製品画像

    【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜

    洗浄後評価が問われる時代に!外観検査以外の有効な分析手法などを掲載

    さい。 【掲載内容】 ■洗浄技術と同様に洗浄後評価が問われる時代に ■フラックス残渣成分の多様化 ■複合化した成分の切り分けと分析手法 ■今後の展望・洗浄の付加価値 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴 製品画像

    溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

    イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

    は非常に高いですが、 イオン性物質や難溶性金属塩をほとんど溶かすことはできないため、 「溶解」させる手法での除去は困難です。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【資料】5G運用を迎えてーパワーデバイスの進化と課題ー 製品画像

    【資料】5G運用を迎えてーパワーデバイスの進化と課題ー

    デジタル社会は新たな境地へ!5G下に求められるパワー半導体の姿などを掲…

    載内容(一部)】 ■はじめに ■5Gの展望 ■5G下に求められるパワー半導体の姿 ■パワー半導体=「洗浄工程」の重要性= ■パワー半導体における洗浄課題に向けた取り組み ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化 製品画像

    【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

    洗浄技術も進化が問われている!どのような点が問題となっているかなどを掲…

    。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■「洗浄」への認識 日本は特殊な環境 ■難溶性物質の台頭 ■難溶性物質への対応力(MPC洗浄剤) ■ソルダリングの洗浄の今後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~ 製品画像

    【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~

    困難さが増しているイオン残留課題について!洗浄ノウハウをご紹介

    てナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する新型半導体の研究も進められており、 より活性力を高めた新たな活性剤の仕様も見受けられます。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。...

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    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~3.JPG
    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~4.JPG
    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~5.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【資料】接合手法の進化と洗浄ーシンター接合に求められる洗浄技術ー 製品画像

    【資料】接合手法の進化と洗浄ーシンター接合に求められる洗浄技術ー

    パワー半導体の進化は続く!洗浄によってどのような効果を得るのかを解説

    容(一部)】 ■「シンター」とは ■シンター接合の手法 ■なぜ「シンター」が必要とされているのか ■シンター接合における課題 ■洗浄方法にも新たな配慮が必要となる時代に ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

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