【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

製造現場で簡単測定！ポータブル型接触式表面粗さ測定機（粗さ計）

PR【短納期・デモ機有】全数検査したい、プリンターが邪魔、現場の"…

ハンディ表面粗さ計使用時にありがちな測定課題を、 Mahrの最新型粗さ測定機が解決します！ 　　　　　　↓　例えば　↓ ■ 測定課題 ■【PDFダウンロードより資料進呈中】 　1. プリンターが邪魔で測定しにくい 　　 　➡小型無線プリンター採用・取回しの良い本体 　2. 全数粗さ測定をしたい 　　　 ➡製造ラインでの評価測定・遠隔操作可能 　3. 測定対象物が変わるたびに...

メーカー・取り扱い企業： マール・ジャパン株式会社

高周波RF電源・高効率パルスRF電源

高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐…

【13.56MHｚ　1ｋW/3kW/5kW（パルス）】 NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR1NP】【NR3NP】【NR5NP】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

高効率高周波電源

高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】

NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アンプの弱...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar,...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

【仕様(抜粋)】 ＜ナノカーボン堆積装置(CND-050LP)＞ ■プラズマ源 　・水素ラジカル注入用：RF13.56MHz・1KW・MHC 　・メインプラズマ用：RF13.56MHz・1kW・CCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS304、架台 ■基板ステージ：800℃、2インチ基板×1枚、上下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

ル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

電子グレードCVD

横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、 大面積のホモエピタキシャル成長単結晶ダイヤモンドプレート/フィルムを 提供しています。 CVDダイヤモンドが示す有望な結果により、RFダイオード、BJT、FET、MEMS、 電子産業など多くのアプリケーションがあります。 今後も継続的な技術革新と継続的な努力が、放射線治療用線量計などの 医療分野に方向性を与えていくことで...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

常圧CVD装置

省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…

本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

高電圧リレー

高電圧リレー

バックの高電圧真空リレーは、その高真空技術により高電圧、大電流切替回路の超小型化を実現しました。 また、スイッチングの高速化、高電圧接点の真空封入による安全設計を特長として、半導体製造装置のDC/RFスイッチングにも最適な製品です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar,...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社