• レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric 製品画像

    レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

    PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度&高速測定で…

    特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示! レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

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    メーカー・取り扱い企業: マール・ジャパン株式会社

  • 連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント  製品画像

    連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント 

    PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

    焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい → そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連続離型性を...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロロテクノロジー

  • 266nm ナノ秒パルス 固体レーザー 製品画像

    266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

    産業用 266nm パルスレーザー 0.5W-3Wモデル

    産業用 微細加工用レーザー (Advanced Optowave Corp.社製)は、電子部品や半導体製造用途向けに多くの生産現場で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • 波長285nm親撥水処理パターン描画装置 製品画像

    波長285nm親撥水処理パターン描画装置

    プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

    物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。   ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力UVLED使用の安価光学系    ・パターン幅200μm   ・描画域 100×100mm ・DXFファイル使用可 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ワイ・ドライブ

  • 780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』 製品画像

    780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』

    2光子リソグラフィおよび半導体検査のためのフェムト秒ファイバーレーザー

    ・市場で最速の2光子リソグラフィを実現 ・超小型コールドレーザーヘッド ・完全なソフトウェア制御可能 ・AOM内蔵(オプション対応)...ナノリソグラフィや半導体の微量分析では、解像度と安定性が卓越した結果を生み出す鍵になります。 トプティカ社の産業グレード、コンパクト、ターンキー操作、および堅牢なファイバーレーザー技術は、最高の本質的安定性を提供し、光源を装置に深く統合することを可能にし...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

  • UV完全カット防虫LED蛍光灯『X-powerシリーズ』 製品画像

    UV完全カット防虫LED蛍光灯『X-powerシリーズ』

    食品工場や半導体製造装置工場向けLED照明。交流用仕様と直流用仕様両方…

    多くの昆虫が見ることができる光の領域は紫外線領域に大きく偏っています。 殆どの虫は400nm以下の光しか見えないが、一部の虫は570nmまでの光が見えています。 電費半分の防虫ランプは虫の可視エリアであり580nm以下の波長を全てカットしているため、 殆どの虫対する防虫効果を期待で...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電費半分 本社、埼玉営業所

  • レーザー描画装置 製品画像

    レーザー描画装置

    研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

    Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション:375nm) ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード(300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • LARK 355A(355nm Qスイッチ DPSSレーザ) 製品画像

    LARK 355A(355nm Qスイッチ DPSSレーザ)

    AOQスイッチを搭載した、エンドポンプ方式の半導体励起固体レーザの3倍…

    ■共振器が筐体と一体化されているため、光学アライメントを行う必要が無く安定したレーザ発振を行うことができる ■空冷のコンパクトサイズのため、持ち運びに便利...■半導体励起Qスイッチ固体SHGレーザ(DPSS QスイッチTHGレーザ) ■>3W @40Hz ■<18nsec パルス幅 ■空冷コンパクトサイズ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトロンサイエンス

  • マルチスペクトルLED光源装置 ALE/2 製品画像

    マルチスペクトルLED光源装置 ALE/2

    同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

    製品の特徴 ・超ハイパワーUV出力:最大80W(単一波長でも可) ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・365nm/385nm/405nm/435nm ・フィードバックコントロール制御による出力維持 ・純正の冷却システムを併せてご提供。既存システムへの統合可。...

    メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社

  • 250W水銀光源 REX-250 製品画像

    250W水銀光源 REX-250

    248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択・切り換えが可能なUV照射…

    •248・313・334・365・405・436nmを高出力 •安価に248nmの光が利用可能 •光反応だけの熱が出ない光学系 •超高圧250W水銀ランプを搭載 •フィルターで波長選択 •フィルターの切り換えが可能 •100~5の連続可変...

    メーカー・取り扱い企業: 朝日分光株式会社

  • Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター 製品画像

    Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

    Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

    (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長:930nm, オプション波長:530nm, 1550nm シングル波長、二波長共に対応可能。 (5) 広範囲の温度計測可能(Max 1800℃)...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • ダイレクトドライブモータ[Zシリーズ](DDモータ) 製品画像

    ダイレクトドライブモータ[Zシリーズ](DDモータ)

    様々なバリエーションを揃え、半導体製造機器や液晶パネル製造機器、一般F…

    ダイレクトドライブモータ Zシリーズは、様々なレイアウトに対応する薄型の15Nmタイプから大型設備を支える2,000Nmタイプまで、幅広いバリエーションを揃えあらゆるニーズに対応します。 【特長】 ○大きい中空径 ○耐環境性、メンテンス性向上 ○1,000倍以上の高イナーシャ比対応 ○様々なネットワークにも対応可能 ○短納期対応可能 ○自由度の高いカスタマイズ対応も可能 ○様々...

    メーカー・取り扱い企業: シンフォニアテクノロジー株式会社 (旧)神鋼電機

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    ョン ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション:フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • ピエゾアシストステージ 製品画像

    ピエゾアシストステージ

    手動で制御する精密位置決めステージ

    ピエゾアシストステージとは20nmという最小分解能でかつ粗動(mmオーダー)を備えた微動粗動手動ステージです。 主な用途はテーブルの精密位置決めや微小荷重のコントロールを要する用途(ナノインデンテーション)でも容易に実現できる手動...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キーストンインターナショナル

  • レーザー直接描画装置『DWL 66+』 製品画像

    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    【描画モードの一例】 ■描画モード:HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド(nm):5 ■最小描画サイズ(μm):0.3 ■エッジラフネス(3σ、nm):50 ■CD均一性(3σ、nm):60 ■重ね合わせ精度(3σ、nm):500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置 製品画像

    リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置

    【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

    ○1nm分解能位置決め装置  分解能:1nm(内蔵エンコーダの読取値に対して)  最大移動速度:5mm/s(FC-911コントローラ使用時)  可動範囲:20mm~50mm   ○10nm分解能位...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 超コンパクト半導体励起UVレーザー 製品画像

    超コンパクト半導体励起UVレーザー

    266nm CW(連続波)レーザー 10mW - 550mW @ 2…

    の粋を集めて開発され、コンパクト・軽量・空冷式で安価なCWレーザーです。 ■測定用に使い易いレーザー 超コンパクト半導体励起UVレーザー“FQCW 266シリーズ”の発振波長は紫外域の266nmで、殊に測定装置用の光源として使用しやすいCW(連続)光です。 ■高ビーム品質・高い信頼性 単一縦モードで、TEM00のシングル横モード、M2値も1.3未満の高品質レーザー光を発振。ローノイ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

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