サンプル進呈中｜世界トップレベルの保温性能ネオマパイプカバー

PR【サンプル進呈中】世界トップレベルの断熱性で工場の省エネ対策に｜ネオマ…

　　　先着20名様限定！ ネオマパイプカバーサンプルを進呈。 　　　　　　↓ 下記「お問い合わせ」より 　★「サンプル希望」の文言 　★ご使用の用途（可能な範囲でOK） 上記２点を記載の上、ご連絡ください。 高断熱住宅で使用されているトップブランド断熱材「ネオマフォーム」を工場設備の省エネにも生かしてみませんか？ ネオマパイプカバーは工場設備配管の省エネ、メンテナンス性向上などに貢献しています...

メーカー・取り扱い企業： 旭化成建材株式会社 本社

【新製品】エアリークを可視化ですぐに検知！ 産業用超音波カメラ

PR圧縮空気・ガスの漏れの「見える化」 圧縮エアー・ガスのリークを可視化す…

・圧縮空気・ガスの漏れの「見える化」 圧縮エアー・ガスのリークを可視化することで、すぐにピンポイントでガス漏れを画面上に表示することができます。高所や大きな配管の継手等、通常のガス検知器では難しい場所のリークも検知できます。ガス種は関係なく、可燃性ガス、蒸気のリークも検知できます。 ・見やすく操作しやすいディスプレイ 7インチのタッチスクリーンにより、簡単操作でリークを発見できます。周波数範...

メーカー・取り扱い企業： サニー・トレーディング株式会社 営業本部

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 　 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 　 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備 ...・装置：露光...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光や...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

2インチのウエハサイズに対応する､全自動式露光装置です｡ 従来のウエハ搬送方式で用いられる多間接ロボットに代わり､自社開発の搬送ロボットを3台配置させたことで､毎時190枚(2インチウエハ)を処理する高いスループットを実現しました｡ 特に､新開発のアライメント画像処理には､任意座標指定のサーチおよび､インテリジェントθサーチとの複合サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...・対応基板サイズ 小片 5×5mm～最大φ100mm ※100×100mm対応はオプション ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。...・対応基板サイズ MABA6 : 小片～最大φ150mm MABA8 : ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

ナノインプリント本体[モールドテーブルαβ調整モールド機構 高精度XYθウエハステージ ウエハ湾曲機構及びXYステージ アライメント顕微鏡×2 恒温恒湿器 イオナイザー マスフローコントローラ×4(TFP、CTFP、窒素、ヘリウム)] UV光源 デジタルカメラ モールドサイズ：□22mm, □50mm, □75mm（有効は70～72mm角）　（石英、厚み6.35mm台形） ウエ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン