リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【事例】特殊な加工　～アルミ製品製造業 様～

アルミ溶接の作業効率を改善！溶剤を使用しない環境にも優しい解決事例

製造業 様 ■加工内容：アルミ溶接 ■問題点：シンナーなどの溶剤による作業効率・環境面の問題 ■導入油剤：AT-4 エバーケミカル工業では新たに「AT-4」を開発。 アルミ溶接の際、ウエス等でさっと拭く程度で溶接に全く影響がでず、 作業効率改善と溶剤を使用しないので環境面でも改善できました。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エバーケミカル工業株式会社