リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【新製品】スティックグリースDG No.2

ポケットサイズで高機能・利便性抜群の「スティックグリースDG No.2…

ら利便性抜群！ 作業者のポケットに入るサイズなので、携帯可能。片手で持ってさっと塗ることができます。 ■先端がスポンジに 先端が適度な硬さを持ったスポンジになっており、グリースをわざわざウエスに取って塗る必要はありません。 ■抜群の潤滑性と耐熱性 一塗りで長く潤滑性を維持。また高温環境下や高温になる可動部で特に性能を発揮します。 【内容物】 ハイサーモグリース DG N...

メーカー・取り扱い企業： ヴァーデン販売株式会社