リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

カーボン製溶接用ノズル　カーボンノズル

スパッタ付着防止剤不要で連続溶接を可能に！過酷な条件下での酸化磨耗はわ…

【よくある問い合わせ（一部）】 ■スパッタは着かない？ →付着はする 　が、溶着しませんので、ウエスや皮手袋をはめている指で擦っていただけると簡単に取れる ■割れる？（半自動で使いたい！） →強度が弱くぶつけたり叩いたりすると割れるので、推奨は、ロボットおよび、自動機 ■熱に強い？ →...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイムケミカル つくば本社・工場/業務本部・東日本事業所