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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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しつこいサビ!時間をかけずにサッと拭き取れる!
具・治具・電気機器金型など錆除去 ● 建築金物・事務機器・自動車等の錆除去 注:耐食性の弱い材質(非鉄や焼結体など)に対しては影響を与える場合があります。 この場合は水洗もしくは、乾いたウエス等でから拭きを実行して下さい。 ★サンプル、SDSデータもございますので、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハヤシ
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