リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ノズル専用スパッター付着防止剤『FN-2813』

使った瞬間から驚きの効果を実感！ノズル専用スパッター付着防止剤が登場！

【ご利用方法(FN-2813)】 ■溶接作業終了後、外したノズルの汚れを付属品の 　スコッチブライト及びウエスにて良く拭き取り ■当製品にノズルを数秒浸す ■浸したノズルを自然乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フナボリ