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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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洗剤とウエスによる油汚れの拭き取りを行い、ハイパーリフトのすべりを解消
ハイパーリフトの床面付近にすべりがあるということでした。 そこで、洗剤とウエスによる油汚れの拭き取りを行ったところ ハイパーリフトのすべりを解消することができました。 【事例概要】 ■受付時状況 ・ハイパーリフトの床面付近にすべりがある ■原因 ・潤滑油の多...
メーカー・取り扱い企業: アイニチ株式会社
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