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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高濃度排水を対象に、計画通りの排水再利用を実現!液中膜導入事例のご紹介
クリーニング排水処理設備に液中膜を導入した 事例のご紹介です。 生産工場の移転に伴い、排水処理に液中膜を活用した膜分離活性汚泥法を 採用されました。古着や裁断くずなどを原料とするレンタルウエスを洗濯して リユースするにあたり、液中膜は、その過程で出るクリーニング排水を適正に 処理し、かつリサイクルする処理システムに貢献しています。 油分などが多い高濃度排水の処理ですが、今まで...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クボタ 東京本社/膜システム部
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