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41件 - メーカー・取り扱い企業
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1375件 - カタログ
6797件
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PRガス状水銀を高効率で吸着・除去!吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…
当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%~98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄(SO2)ガス存在下でも、数年...
メーカー・取り扱い企業: 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社
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処理効率は98%以上のアンモニア分解装置!省エネルギーを実現
PR某化学メーカー等、導入実績多数! 排ガスの風量に合わせて小風量~大風量…
当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98%以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量~大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...
メーカー・取り扱い企業: サンレー冷熱株式会社
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NEXGENグローブボックスシステム(新時代のガス精製装置付)
再生ガス・再生工程不要の新時代のガス精製装置付きグローブボックスシステ…
・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・酸素濃度、水分濃度1ppm以下を保持、NEXGENシステムによるオートバキ ューム・オートパージ・全自動圧力コントロール。 ・全世...
メーカー・取り扱い企業: 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD
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B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(NW25)』
センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…
なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa) ■簡単なセットアップ ■有機ELディスプレイにより高視認性 ■16種類のガスに対応 ■フィラメント2本を標準装備(断線を防ぐ保護機能付き) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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洗練されたシンプルなグローブボックスは使う人を選ばない。再生ガス・再生…
・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・シンプルなユーテリティは、優れたコストパフォーマンスと扱いやすさを両 立。 ・全世界に2万台以上の導入実績、63年の歴史を誇る世界...
メーカー・取り扱い企業: 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD
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有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。
ります GBOX内部で試料基板を搬送BOXに収納・密閉することで不活性雰囲気を保ち、 基板を大気に曝す事無く蒸着装置に装着・処理しGBOXに戻すことが可能です。 KOREA KIYON製 不活性ガス循環精製式GBOXは、不活性ガスの雰囲気で 水分、酸素量が1ppm以下に保たれるように設計されています。 各種真空装置との接続により、大気にさらすことなく連続処理が可能です。 【特徴】 [研究用...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイエルエステクノロジー
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Coolteq ZERO 真空装置用冷凍機 Supcold社
HFC冷媒ガス無使用
より段階的にHFCの使用量を減らして、2029年には70%削減を義務付けられております。 Coolteq ZEROシリーズはこの削減義務も問題ありません。 Coolteq ZERO冷凍機はHFCガス無使用です。 カタログ内容ご確認願います。 お問い合わせ お待ちしております。 ...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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アルミニウムの電解研磨
アルミ製真空装置部品に、アルマイト等の表面処理を行うと、皮膜がポ−ラスなため放出ガス量が上昇してしまいます。アルミの電解研磨処理は比較的緻密な皮膜が形成されるため、放出ガスの上昇を抑えることができます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エムテック
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『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中
『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…
バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか? KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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大気圧から高真空までの広帯域の計測をこの1台で!センサー・回路部・ディ…
インピーダンスの変化を読み取ることにより、真空計測を行っています。 精度・再現性に優れており、信頼性の高い計測が可能です。 ■高真空領域のコールドカソードゲージ部は、マグネトロン放電により残留ガスをイオン化し、圧力を測定します。 コールドカソードゲージはホットカソードゲージと異なり、フィラメントを持たず、丈夫で信頼性の高い計測が行えます。 ※CC-10はRoHS指令に準拠した環境に優...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…
【仕様】 ■到達圧力:×10^-5Pa台 ※常温・無負荷・脱ガス時 ■排気速度:大気圧から30分で2.0×10^-4Pa ※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径:φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構:抵抗加熱方式 ・AC電源2極(切替式):金...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社
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最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…
の メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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低圧動作のECR型アトムソース
ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...
メーカー・取り扱い企業: アドキャップバキュームテクノロジー株式会社
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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
ンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
【仕様】 最大放電出力:3.2kW (160V, 20A) 放電ガス(Ar):8~20mL/min ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…
EL), OPV(有機薄膜太陽電池), OTFT(有機薄膜太陽電池), 又, グラフェン, TMD(遷移金属ダイカルコゲナイド)などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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