OGP マルチセンサー三次元測定機　スマートスコープシリーズ

PR画像処理・接触式・レーザーの3つの測定センサーで、「多用途」にして「高…

・多様なアプリケーションに対応する複数センサの併用と選択 ・測定スピードと繰り返し精度を向上 ・20機種以上の豊富なラインナップ 創立75年以上に渡り、非接触三次元測定機を全世界市場に提供してきた米国ＯＧＰのベストセラー機です。 プログラム作成はマウス操作中心のため、初心者でも直感的に操作をすることができます。 画像測定をベースとして、接触式測定（タッチプローブ）、レーザー測...

メーカー・取り扱い企業： ＹＫＴ株式会社

ピコ秒（ps）分解能で長い時間差を作る／測る

PRT560 ディレイ／パルス発生器で時間差を作り、MCS8A マルチスト…

◆T560 ディレイ／パルス発生器 　・ディレイ時間とパルス幅が4チャンネル個別に指定でき、10ps刻みで最大10 秒まで設定可能 　・入出力遅延（インサーション・ディレイ）：21ns 　・最大トリガ・レート：16MHz ◆MCS8A マルチストップTDC/TOF 　・複数のイベントタイムを記録できる8入力のデジタイザ 　・STARTとSTOPの間の時間差を、80psの分解能で最大8....

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

有機デバイス蒸着装置　E-100J

E-100の特徴をそのままに自動排気制御の機能を省きコストを抑えてます

を放射上に配置 ○電源を増設すれば多元同時蒸着が可能 ○チャンバーの両横にはJIS150フランジを設置 ○グローブボックスへの接続や株式会社エイエルエステクノロジー社製 　（E-100)と接続してマルチチャンバー蒸着が可能 ○チャンバー下部には取り外し可能な大口径フランジを装備...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）

小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…

横型タイプを採用し、小さな設置面積で大きな処理量を実現。 電極の形成も密着層・接合電極も同一真空槽で一括形成。成膜前に効果的なプラズマクリーニングも同一バッチで実施。シンプルな装置構成で多層・マルチステップ処理を実現。 部品寸法・形状に合わせ治具や基板保持方法の細かく対応。信頼性の高い基本ハードとカスタマイズで多様な基板と生産ラインに対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

より多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した 　圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備 ※詳しくはPDFをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ 仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。 目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、 封止室等を自由に選択...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

【その他の特長】 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ■マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

薄膜形成

薄膜形成

技術であり、使用目的・ 手段に合わせて膜選択や膜設計も致します。 〔薄膜種類〕 電極用：Cr・Al・Ni・Cu・Ti・Au・Pt・Pd・Ta・Mo・ITO等 光学用：ＡＲコート（単層・マルチ）、各種反射ミラー、光学フィルター　等 厚膜形成に付きましては電解メッキ・無電解メッキ加工・印刷加工が可能 厚膜種類：Cu・Ni・Au・Ag・Pt・・ハンダなど エッチング加工はもち...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

回転型多連電子銃

TELEMARK電子銃シリーズ

回転型マルチタイプの電子銃です。サイズは4cc～1486cc、ルツボタイプも4～20連、バナナ形状、Trough、Panとラインナップは豊富です。...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社