圧縮ガスドライヤー

PR各種圧縮ガスから不純な水分を除去するドライヤー

各種ガスドライヤーは、圧縮ガスから水蒸気を連続的に分離するように設計されているため、圧力下露点温度を低下させます。 【効果一例】 二酸化炭素は不活性ガスであり、湿度のレベルによっては腐食性が高くなる可能性があります。 したがって、圧縮二酸化炭素ドライヤー（CO2ドライヤー）は通常、特定のプロジェクト要求を満たすためにカスタムメイドされます。 動作圧力、温度、要求される圧力下露点温度、湿度レベル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス

アルミ製　水冷ヒートシンク「YCシリーズ」

PRアルミ型材により成形しているため、銅製と比べ3～4割の低コスト化を実現…

電気、電子機器に使用されている半導体素子(トランジスタ、CPU、IGBT 等)は、 動作中に冷却を行わないと素子から発生する熱のため素子そのものを破壊する場合があります。 ヒートシンクは、この熱をすばやく移動させ冷却することにより素子の破壊を防ぐ電子部品のラジエーターです。 冷却方法は、発生する熱により生じる空気の対流を利用した自然冷却と、ファンにより空気を強制的に対流させたり、水などの冷却媒...

メーカー・取り扱い企業： LSIクーラー株式会社

粉体用大気圧プラズマ処理装置

改質Revolution！

す。 ・容器内の粉体にグロープラズマを当て、回転揺動による撹拌で均一な処理が可能です。 ・危険な溶媒を用いない､完全なドライプロセスでの処理を可能とし､環境に優しく生産性に優れた装置です｡ ・冷却機構を搭載しており、低融点の粉体にも対応できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 本社

高出力ECRプラズマ源『EPS-120』

微細加工装置に適用可能！ECR放電型の高出力プラズマ源をご紹介します

エッチング装置やアッシング装置のソースパワーをはじめ、 反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源などに応用できます。 【特長】 ■独創的な磁石構成による大容積ECR磁場 ■強力な冷却システムによるkW級大電力動作 ■メタルコンタミフリーの誘電体ライニング ■複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード（ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用）に加え特殊基板機構（高温加熱・磁場印加・冷却等）で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステストを基に専用装置を個別設計。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

高密度表面波プラズマ源装備アッシング室２室装備。枚葉式ロードロック室１室装備。マルチチャンバタイプ。 コンパクトな設置寸法でハイスループットを実現。豊富なオプション類（ＲＩＥ室・ＩＣＰ室・加熱・冷却室・追加ガス系）による通常のアッシング岳でなく。マルチステップアッシング・各種有機膜エッチング・エッチング／アッシング複合装置として多くの用途・プロセスに対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

て選択可能でチャンバサイズに合わせて標準型以外の大型カソードも搭載できます。 カソードも膜種に合わせて強磁性体用、コンベンショナルタイプなどの各タイプが選択できます。 その他機構も高温加熱、基板冷却（水冷）、多元同時スパッタなど多くのオプションにより幅広い用途に対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気圧プラズマ処理装置『NJZ-2820』

大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…

　供給口：φ4チューブ適合継手、またはRc1/4 プラズマ発生電源：2,450MHz / max 150W 入力電圧：単相　AC100～240V、50/60Hz 消費電力：500VA以下 冷却方法：強制空冷 本体寸法（突起部分は除く）：W430×D436×H175mm 本体重量：18kg以下 使用温度範囲：+10～+35℃ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

ハ対応のスパッタリング装置。 基板搬送は枚葉（ＣｔｏＣ）タイプを基本とし、基板のサイズ、形状によりトレイによるＣｔｏＣ搬送。 カソードは大型１元タイプと多元タイプが選択可能。基板加熱も高温および冷却が選択可能。 スパッタもＤＣ，ＲＦにパルスＤＣによるリアクティブスパッタモードより選択。緻密な酸化膜も形成可能で、化合物半導体のゲート酸化膜に対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

最大５元ｋソードを装備し、５元同時スパッタが可能な専用スパッタ室と重量基板の搬送に適したロードロック機構で金型コーティングに対応。 ６５０℃の加熱とガス冷却機構を併用する特殊基板台を装備。 高温加熱による膜の密着力の確保と処理の高速化を実現。 幅広い材質・形状に最適な膜種・処理温度・プロセスを実現できる硬質膜用専用ロードロックタイプスパッタリング装...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

DC-IMPACT（低温プラズマ浸炭）処理

低温域の処理において、窒素拡散だけではなく、炭素拡散も有効な表面硬化法…

【試験仕様】 ■固溶化熱処理条件(真空炉)：1030℃×80分保持後、窒素ガス冷却(130Kp) ■DCI処理条件：420℃×25時間　/　ガス比(CH4：H2)=1：20　/　真空度(Pa)=665 ■TP形状：50×50×1.2t ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： 朝日熱処理工業株式会社

大気圧プラズマ処理機『Aldyne』　※技術資料を進呈中

0.3～0.4nm厚の分子単層コーティング。洗浄・乾燥工程不要でコスト…

優れた接着性を発揮。 液体・固体のプライマーを使用しないため、残留物の洗浄や、 乾燥工程などが不要。コストを抑えた運用にも貢献します。 【特長】 ■高度な接着性と持続性 ■独立した冷却システム ■コンパクトな構造設計 ■生産ラインへの組み込みにも対応 ※【ダウンロード】より製品を解説した技術資料の抜粋版をご覧頂けます。 　完全版をご希望の方は【お問い合わせ】よりお気軽...

メーカー・取り扱い企業： ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

【プラズマ処理装置】表面処理、スミア除去をご提案

アジア大手電子機器メーカーに実績多数！様々な分野での表面処理を提案しま…

置＞ ■独自の電極構造 ・高密度プラズマ（ICP）により残渣を高効率除去 ・両面処理が可能 ■優れた均一性を実現 ・装置前後から反応ガスを出入れし、基板前後のエッチング差を抑制 ・電極部冷却機構により基板温度を制御・上昇を抑制 ■対応基板サイズ（一例） ・510mm×610mm×14パネル、28パネル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続！高機能性基材の開発が可能に！

アミノ基を 生成します。 これらの官能基が高極性であり、また塗工剤と共有結合し易い特性を利用し、 基材と塗工剤との接着性を高めます。 【特長】 ■高度な接着性と持続性 ■独立した冷却システム ■コンパクトな構造設計 ■基材に対応した最適な電極タイプが選択可能 ・非導電基材の高速処理に適した金属電極 ・導電性及び熱影響の大きい基材に適した、温度管理可能なセラミック電極 ...

メーカー・取り扱い企業： ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

使い勝手の良い真空プラズマ装置の廉価版！テフロン親水化や各種素材の撥水…

で自由に選ぶことができます。 一般的なセラミック・金属・樹脂の親水化・接着強化の他、PTFE(テフロン)の処理や各種素材の撥水処理、エッチングや薄膜形成などにお使いいただけます。 オプションでの冷却機構やガス系統追加等のオーダーメイドも承っております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体