資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業： ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカ アンド カンパニー】

3分で分かる！マンガ「安全で効率的な液体用のサンプル採取方法」

PRサンプル採取の作業時間を大幅に短縮可能！ 安全性と利便性に追求したデザ…

「1時間程度かかる作業をもっと短縮して効率良くサンプル採取したい」、「作業者や環境への影響を考慮しつつ確実なサンプル採取を行いたい」など、既存設備における手作業でのサンプル採取にお困りの方必見です！ スウェージロックの『流体サンプリング・システム』ならサンプル品質を維持しつつ、安全かつ効率的なサンプル採取を可能にします。 主に石油化学、ファインケミカル、半導体向け電子材料・薬液のサンプル採取におけ...

メーカー・取り扱い企業： スウェージロック・ジャパン

半導体内部観察顕微鏡『NIR2021-200』

1.3メガSWIRカメラ搭載！チップ内部のメタル配線、ダイボンディング…

『NIR2021-200』は、赤外光の透過・反射特性を利用してシリコンウェハや チップ、MEMS、CSPなど半導体デバイス内部を観察できる顕微鏡です。 1ピクセル5μm、1.3MPのSONY製IMX990を搭載したSWIRカメラを搭載し、 近赤外画像でありながら、高解像画像の取得が可能。 SWI...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

近赤外対物レンズ『PElR2000HR 20X・50X』

故障解析で電流リークによる極微弱な発光の検出に威力を発揮いたします

『PElR2000HR 20X・50X』は、2000nmで80％以上の透過率を維持した対物レンズです。 半導体デバイスの故障解析で電流リークによる極微弱な発光の検出に 威力を発揮いたします。 高集積、多層配線化された半導体デバイスを、チップの裏面からシリコンを 透過してくる赤外光で観察が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

近紫外対物レンズ『UV/DUV Plan APO20X・50X』

半導体回路やLCDのリペアなどの薄膜加工に最適な長作動距離対物レンズ

物レンズです。 可視域と近紫外で使用する波長において、ピントが合うように補正されていいます。 近紫外域の分光透過率を高く設計しており、顕微鏡に取付けてYAGレーザを併用 することで、半導体回路やLCDのリペアなどの薄膜加工に最適です。 【特長】 ■明視野観察用 ■分光透過率を高く設計 ■薄膜加工に最適 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

UVPlanAPO

超長作動距離　近紫外補正対物レンズ

nm）まで使用する波長において、ピントが焦点深度内で合うように補正されている対物レンズです。近紫外域の分光透過率を高く設計しており、顕微鏡に取り付けてYAGレーザー（355nm）を併用することで、半導体回路やLCDリペアなどの薄膜加工に最適です。標準品は2０X,50Xからお選びいただけます。LCDタイプもございます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所