PC操作による遠隔溶接ロボットシステムの開発

PR溶接作業が技能不要で事務所から簡単に行える。多品種少量生産の現場に好適…

高丸工業株式会社では、オフラインティーチングシステムと実画像導入により、 遠隔から簡単に溶接作業を実現するシステムを開発しております。 仮溶接したワークをターンテーブル上に固定すれば、 PCで位置と条件を設定し、そのままロボットが溶接作業を実行。 多品種少量生産の現場でも効率よく、さらに安全に作業が行え、 属人化の解消や生産性の向上に貢献します。 【特長】 ■全ロボットメーカーに対応予定（現...

メーカー・取り扱い企業： 高丸工業株式会社 西宮工場

精密機器用　防水ねじ「ラビロック」

PRＯリングを使用することなく、優れた防水性能を発揮しコストを低減できます

「ラビロック」は、IPX8試験クリアした防水ねじです。自社試験では水深10ｍ相当まで水の浸入を防きます。座面に多列溝加工で迷路のような構造を作り、外部からの圧力を分散します。そのため、Ｏリングを使用することなく防水性能を発揮します。また、ねじ本体のみで防水サボートしているのでコスト低減が可能です。 【特徴】 ○特許取得済 ○多列溝加工でパッキンと同様の働きを実現 ○2重のエアーパッキン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ユニオン精密

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した 研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。 据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。 成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに 加え、アークプラズマ蒸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結 ■UHV対応スパッタカソードを4本装...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

『S600』は、多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と 生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置　リモートプラズマソースの開発…

PlasmaQuest社 ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いての...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

を兼ね備えた使いやすいタッチパネル方式。ダイナミック・レンジに対応。計測試験プログラムも簡単に設定できます。半導体のサブシステム、MEMSメーカー様でPACEを導入後、大幅に生産効率がUPされた実績多。 〇ゲージ圧力レンジ：2.5kPa～21MPa（負圧校正標準） 〇通信：RS232、USB、IEEE-488、SCPIほか（モデルにより異なります） 〇電源：AC90～130V、AC18...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 ８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

クトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

光源搭載） ○塗布装置/印刷装置 ○ケミカル処理装置（アンポックファーイースト社製） ○高精度ルーター機（ターリーテクノロジー社製） ○ブラシ式基板クリーナー（キューブリック社製） ○X線多層板検査装置（ソフテックス社製） ○高精度穴検査装置（ワールドテック社製） ○自動ビン打ちテープ貼り機（タイヨー工業社製） ○自動乾燥炉（グローアップ社製） [分析装置] ○硫酸銅めっき液...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

次世代デバイスの開発（強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成）に実績のソフト＆ハード ＵＶ－ＬＥＤ用テンプレート用ＡｌＮ膜、センサー用酸化膜、高均一性電極膜、薄膜ヒーター、強誘電体（ＰＺＴ）膜、その他多くの実績...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

aまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 ・実験・研究目的に合わせてカスタマイズ可能 これまで培った技術・ノウハウを取り込み、増設できるユニットを構築。 ・多元同時／多積層膜スパッタ成膜 基板中心を各カソードが狙う構造のため、多元同時スパッタが可能。 シャッタコントロールにより積層膜が作成可能。 ・磁性体薄膜に対応 各種磁性体材料（Fe,Ni...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

スパッタリングターゲット材

スパッタリングターゲット材について

スパッタリングターゲットは、 Cr,Ti,CrAl,WC、その他多種類の材料を取り揃えており、 形状・寸法につきましても丸状、板状、棒状など お客様のニーズにより対応致しますので、ご要望をお待ちしております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムアンドシー

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーテ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

EC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社