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束状電線ケーブル繰り出し装置『TCF1000X』

PR【動画公開中！】電線ケーブルのぐちゃぐちゃから解放！束状電線を絡ませず…

『TCF1000X』は、束状電線を絡ませずに束の外側から引出し加工機械に自動供給できる繰り出し装置です。測長切断加工機械の速度に合わせて無段階に速度を調整します。電磁ブレーキ機構を新たに内蔵しているので回りすぎる事もありません。オプションの連滑車取付けで軽負荷に対応出来るので、耐寒チューブなど延び易い材料にも対応出来ます。【特長】 ■束の外径は580mmまで対...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダイショウ
ダイボンダー/フリップチップボンダー FALCONシリーズ

PRマルチな高精度部品搭載に対応！高度な荷重制御が要求されるアプリケーショ…

『FALCONシリーズ』は、マニュアルからオート仕様までユーザーのニーズの沿った装置をラインナップしたダイ・フリップチップダイボンダーです。オプションを組み合わせによる御社要求仕様でのダイ・フリップチップボンダーの製作を実現。加熱機構、高荷重接合、ウェハからのピックアップ、チップ反転機能等、お客様の仕様に適した装置を提案可能。また、搬送機などを取り付けたフルオート仕様に対応可能な上位モデ...
メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社
高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。簡単に試料セットする事ができます。オプショ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック
プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで製作し価格を下げております。また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を上下できる機構を備えています。【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換 ■漏洩マイクロ波検出用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック
液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象としたシリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を設計開発。上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の優れた装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社
太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

太陽電池の生産ニーズに合致した大量生産を可能にするために、大型ディスパージョンヘッド(ガスノズル)と超高速ダブルアーム搬送機構を搭載しています。また、太陽電池用薄ウェハ対応のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。安定の…

独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備自公転機構によるハイレート全面成膜機構各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
クリーンルーム対応5mm角ウエハ用小型ベルヌーイチャック

排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ば…

圧力式エアクッション効果による正圧を生じ、小さく裁断されたウエハチップを空中に浮遊した非接触（非接触）状態にてチャックし、所定の場所に搬送します。　　　　　　この新機構として吸着パッドの周囲に排気路を変更する回路を設けており、排気方向を変更します。そのため排気が周囲のチップを吹き飛ばすことはありません。...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ソーラーリサーチ研究所大阪事業所
ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置：フロートチャックSAC型

オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…

ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。新機構：非接触搬送装置「フロ－トチャックSAＣ型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー効果を付加さ...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ソーラーリサーチ研究所大阪事業所
気体垂直気体噴流方式のベルヌーイチャック

空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック

新機構「気体垂直噴流方式」を採用しております。、気体垂直噴流方式はクッション室にノズルより噴出する気体流を垂直気体噴流させることり、クッション室内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ソーラーリサーチ研究所大阪事業所
シャッター

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。

ベローズ式回転導入機を使用した信頼・実績のある機構を採用超高真空領域まで使用可能バタフライ式でなおかつシャッター折り曲げ式機構のため、視界が広範囲回転ロック機構付きで、開度が任意に設定可能両端コンフラットフランジ（両刃）のため、配管...

メーカー・取り扱い企業：入江工研株式会社
立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社DINOVAC
大量生産用連続式常圧CVD装置『A6300S』

SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…

『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応大量生産用連続式常圧CVD装置です。自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの安全にも配慮しました。【特長】 ■高い生産性：毎時120枚の処理が可能 ■重...

メーカー・取り扱い企業：株式会社天谷製作所
CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。【特長】...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

【その他の特長】 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8(MC-100)、6(MC-200) ■チャンバー加熱機構(最大 300℃) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マイクロフェーズ
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

るつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社