48V DC電源用　遠心ファン

PRジール・アベッグの中国工場にて生産、低騒音なファンモータを安価に供給で…

2024年7月以降順次生産開始。 ジール・アベッグの中国工場にて生産、低騒音なファンモータを安価に供給。 羽根径　190, 225, 250mmの3種類 データセンターのサーバラック　冷却用 携帯電話基地局　盤の冷却 インバータ　冷却 分電盤　冷却 EV急速充電機　冷却 などのマーケットに需要お待ちしております。 ...定格電圧　48V DC 使用温度　-25℃～+60℃ ...

メーカー・取り扱い企業： ジール･アベッグ･ジャパン株式会社

【B-402対応】イーサネットスイッチングハブ　ST13116M

PR【電力用規格B-402対応】防塵性（ファンレス構造・通風孔レス構造）に…

『ST13116M』は、電力用規格B-402に準拠した、防塵性（ファンレス構造・通風孔レス構造）に優れたギガビット対応インテリジェントL2スイッチングハブです。 一般的なインテリジェント機能（VLAN、経路切替機能、セキュリティ機能）および固有機能（装置自己監視、接点入出力など）を有しています。その他、RoHSをはじめ、電力規格B-402、接点入出力、装置自己監視機能（WDT）・NTP機能や...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リョウセイ

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

ｔやＲｕなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層膜により耐熱性と硬度に優れた膜も形成可能。 精密レンズ金型のような基板を高速に加熱できる特殊基板台と専用ロードロック機構でスループット向上を実現。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を…

標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系（カソード、チャンバ、プロセス）を大きく改善。 Ｒ＆Ｄタイプの小型カソード使用装置と量産用の大型カソード１元の２タイプをラインナップ。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICP エッチング装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

8"工程用Pishowシリーズ： ・Pishow： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

工業用PETフィルム・PIフィルムの小巻品・カット品

定尺しか手に入らない工業用PET・PIフィルムを小巻品・カット品にて規…

工業用PETフィルム・PIフィルムは、電気絶縁性や透明性、耐熱・耐寒性など、さまざまな特性を持ち合わせたフィルムです。 JMT株式会社では、通常７５０ｍなどと定尺でしか手に入らない工業用PETフィルム・...

メーカー・取り扱い企業： JMT株式会社

粉末用イオン注入装置

IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…

特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマイ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）

小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…

電子銃による真空蒸着を基本とし独自のイオン化機構で緻密で高い密着威力を持つ電極膜を高速形成。 横型タイプを採用し、小さな設置面積で大きな処理量を実現。 電極の形成も密着層・接合電極も同一真空槽で一括形成。成膜前に効果的なプラズマクリーニングも同一バッチで実施。シンプルな装置構成で多層・マルチステップ処理を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

フィルム用ダイレクト方式大気圧プラズマ装置

フィルムの高速表面改質を窒素雰囲気中で実現。

テクノロジー 工業ガスメーカーの知見を最大に活かして、あらゆる表面改質に対応。 →フィルムの濡れ性改善、接着性改善 ■高スループット 処理対象を電極の間に挿入するダイレクト方式を採用し、高速連続処理を実現。 ■豊富なバリエーション フッ素系、PET、ポリイミドフィルムなど多種実績あり片面、両面処理可能。フィルム幅は最大2000mm。 ※詳しくはカタログをダウンロード、...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター株式会社

フイルム表面処理用ロールダイレクトプラズマ装置『RD』

光学フイルム分野に好適！高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル…

『RD』は、既設の製造ラインへの設置が容易な、フイルム表面処理用 ロールダイレクトプラズマ装置です。 高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル発生無し）を実現。 100m/min以上の速度でも実績があります。 また、1ヘッドタイプ or 3...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

化合物半導体ウエハ用非接触ピンセット

マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を非…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/2ウエハ ...高温化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）をベルヌーイチャック「フロートチャックＳＡＧ（ＩｎＰ）型」（特許）に気体供給のＯＮ－Ｏ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマ溶射用粉末『スーパーハードロイ(SHA)』

高温での硬度および強度が極めて高い特殊合金粉末！

『スーパーハードロイ(SHA)』は、種々の元素を添加した高炭素鉄合金で 高温での硬度および強度が極めて高い特殊合金粉末です。 溶射および溶接肉盛用などの多岐の用途を有し、いずれに対しても 優れた性能を発揮します。 また、本材料は一般的な市販材料とは異なり、特殊な材料であることから 現在は受注生産品となっております。 【粉末の組...

メーカー・取り扱い企業： 九溶技研株式会社

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

マイクロ波プラズマソース『MIRENIQUEシリーズ』

MWPECVD用R&D装置に好適！MW-SURFATRONSは常圧また…

『MIRENIQUEシリーズ』は、マイクロ波プラズマソースです。 PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向けで、 リアクター及びプラズマソースは、MWPECVD用R&D装置に好適。 MW-SURFATRONSは常圧又は減圧に対応しています...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）

H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。 従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。 今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気圧プラズマによるフィルムや基板の受託処理

エア・ウォーターグループの表面改質受託処理サービス。お客様のニーズに合…

ー株式会社のグループ企業であるイーシー化学株式会社（大阪府枚方市）では、大気圧プラズマによる表面改質の受託処理サービスを提供しています。 現在、クラス1000のクリーンルームに受託処理・テスト処理用として、高分子フィルム用の処理装置2基を所有しています。 今後はお客様のニーズに合わせて被処理物を広げるとともに、受託処理設備の増強を図り、中核事業として拡大してまいります。 【仕様】 フ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター株式会社

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能（有償） 材料（...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ハンディタイプ大気圧プラズマ処理装置『ピエゾブラッシュPZ3』

驚くほど小型！低温大気圧プラズマ装置！広範な用途に使用可能です。

『ピエゾブラッシュPZ3』は、研究や開発、少量生産用に開発された小型で ハンディタイプの大気圧プラズマ処理装置です。 圧電素子による直接放電(PDD)技術を使って、最大消費電力18Wで50℃以下の低温プラズマを発生させます。 プラズマ発...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルス

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 Ｒ＆Ｄ・ディスクリート・化合物・ＭＥＭＳ・パッケージ・実装工程・マスク・小型ＦＰＤ　多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900H...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

基板の枚葉搬送を基本としたロードロックタイプスパッタリング装置、上位機種（マルチチャンバタイプ）のプロセスチャンバと搬送機構を共用。 高いレベルの膜質要求に対応、各種ＩＣ（ディスクリートＩＣ、カスタムＩＣ，化合物）の量産・試作。 次世代デバイスの開発（強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成）に実績のソフト＆ハード ＵＶ－ＬＥＤ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマ成膜及びエッチング装置『FLARIONシリーズ』

プラズマアシストリアクティブ成膜可能！インテグレーション用オプションな…

MシリーズのシームレスICPによるプラズマアシストリアクティブ成膜が可能。 また、基板回転機構、バイアス機構やプログラム制御された 軸動作機構の搭載が可能で、カスタマイズやインテグレーション用 オプションに対応しています。 【特長】 ■PLUM シリーズのシームレスICPによる 　プラズマアシストリアクティブ成膜可能 ■基板回転機構、バイアス機構や 　プログラム制御された...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

ＨＰＣ－２０フルオートオスミウムコーター

高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…

電子顕微鏡観察用前処理のための新型オスミウムコーター。 これまで人の手によるオペレーションの難しかった部分を完全自動化。より安全に、より簡単にオペレーションできる、オスミウムコーティングの新次元。 タッチパネル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス