フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

ロボット向けハンドリング機器選定ガイド

PR電気でつかむ・エアでつかむ・真空で吸着する！圧倒的なバリエーションをご…

当カタログは、ロボット向けハンドリング機器ガイドです。 グリッパ 2フィンガタイプの「電動グリッパ」をはじめ、様々な形状、 多彩な機能、46モデルをラインアップした「エアハンド・エアチャック」を掲載。 電動グリッパ・エアハンド・エアチャックベストセレクションでは、 多彩な機種の中から代表的なものをご紹介いたします。 製品の選定にご活用ください。 【掲載製品】 ■電動グ...

メーカー・取り扱い企業： 新光電機株式会社

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現した セトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています。エッチング装置部品の保護膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチン...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【国産】真空プラズマ装置(49万)大気圧プラズマ装置(34万)

表面改質・洗浄に優れた低温電荷ダメージ無し！真空・大気圧プラズマを安価…

詳しくはカタログをダウンロード下さい。 『樹脂』『金属』『ガラス』の『基板』『チューブ』『繊維』『粉体』など様々な材質の『濡れ性向上』『接着強化』『洗浄』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂けます！ 【実用例】 ・異材料の接着力を強化　　有機薄膜の除去　　ガラスの洗浄 ・フィルムの接着強化　　　電子部品の洗浄　　薄膜の密着強化 ・各種塗工の濡れ性U...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

真空バルブオーバーホール、アクチュエーター修理

真空装置周辺機器,バルブの修理なら　お任せ下さい！ 　　メーカーメンテ…

各種メーカー真空バルブ修理　振り子式バルブ修理・ゲートバルブ修理・バタフライバルブ修理・アングルバルブ修理等...

メーカー・取り扱い企業： 大宮工業株式会社 近畿支店

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 　金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 　・低真空プロセス：MBP+DP 　・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス：MBP+DP ・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

多目的処理装置（スピンプロセッサー）

洗浄、現像、エッチング等カスタマイズ可能な、低価格多目的処理装置

溶剤対応ボディ（SUS）使用 オプション：高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、 　　　　　　及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等 ■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置 　　　　　など半導体関連装置を取り扱っています。 　　　　　◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トービ

ガスボックス

ガスボックス

かな物を安価で迅速に供給できます。 【製造事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造をおこなっております。 ※詳細は【資料請求・】もしくは、会社案内を【カタログダウンロード】から 　ダウンロードしてください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社湘南テクノ

スリットバルブシール

スリットバルブシール

●半導体、液晶をはじめ多岐の業界で使用されている真空機器のシール材に対し、総合シールメーカーとして長年にわたり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々な御要求にお応えし、ソリューションをご提供しております。 ●半導体業界向け...

メーカー・取り扱い企業： 三菱電線工業株式会社

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。 【特長】 <RIE-800iPC> ■最大Φ8”ウエハ対応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保 ■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

英放電管タイプでチャンバー外付型の 有磁場型マイクロ波励起ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の 　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

アルミニウムの電解研磨

アルミニウムの電解研磨

アルミ製真空装置部品に、アルマイト等の表面処理を行うと、皮膜がポ−ラスなため放出ガス量が上昇してしまいます。アルミの電解研磨処理は比較的緻密な皮膜が形成されるため、放出ガスの上昇を抑えることができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムテック

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

平行平板型高周波真空プラズマによる各種基板のクリーニング・親水化に実績 プリント基板、パワーデバイスモジュール、リードフレーム、樹脂フィルム、フレキシブル実装基板の量産ラインに対応 搬送機構・クリーニング前後機構を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

RIE、IBE、PECVDチャンバーを一つの真空制御装置に統合など各種カスタマイズも対応可能。 ご要望・お見積もりなど、お気軽にご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

オプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

オプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス：CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

【デモ実施中！】小型実験用イオンビームエッチング装置

【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

【仕様】 ●エッチング用イオンソース 　DC 11cm イオンソース 　SOLUS　POWER　SUPPLY ●真空チャンバー 　到達圧力　6.0×10-5Pa台 　動作圧力　3.0×10-2Pa台 ●シングルステージ 　水冷機構 　3軸動作　自転・入射角度・円弧移動 　不定形基板からMax 6inc...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

小型イオンビームエッチング装置

イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

【装置仕様概略】 ○エッチング用イオンソース →DC 11cm ION SOURCE →SOLUS POWER SUPPLY ○真空チャンバー →到達圧力：6.0×10-5Pa台 →動作圧力：3.0×10-2Pa台 ○シングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板～Max 6inch...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

究所をはじめ、国立天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

樹脂製多目的スピンプロセッサ『POLOS』＊デモ機貸有り

１台あればコーティング・洗浄・エッチングなど様々なプロセスに対応ができ…

や逆回転・パドル操作の設定が可能 ・回転数は、最大12000rpm。高粘度の材料コートが可能 ■豊富なオプションや拡張性があるから… ・チップサイズから大型基板(□1000mm)まで対応 ・真空チャック、メカニカルチャックなど多様な保持方法など 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

ナノインプリント装置「TEXシリーズ」＊デモ相談可能

従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

【特徴】 ○真空・加圧の無いシンプルな装置構成 ○耐久性に優れた独自素材のモールドを使用 ○フォトニックレベル(φ250nm)まで可能 ○120枚／時間の高速処理を実現 ○ドライエッチング後サファイア基板断...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

プラズマ装置　PiPi（ピピ）

小型卓上タイププラズマ装置　PiPi（ピピ）

・スペースを取らず、研究・開発用途に最適 ・使いやすく簡単に処理ができる低コスト装置 ・推奨真空ポンプPD139 ・RIEモード専用...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

*ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により 　MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により 　イオン加速が可能。ラジカル源としても使用可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

究所をはじめ、国立天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

【金属エッチング事例】流路内蔵トレイ

流路構造を内蔵！立体構造を再現できるのがエッチング積層品の大きな特長で…

ハーフエッチングで溝を掘り込んだ部品を熱圧着（拡散接合）で接合する ことで、流路構造を内蔵させたトレイのサンプルをご紹介します。 流路を通じて真空引きし、ワークを吸着することをイメージ。 切削加工等では不可能な立体構造を再現できるのがエッチング積層品の 大きな特長です。 【製品仕様】 ■材質：SUS304 ■総厚：1.3mm...

メーカー・取り扱い企業： 東洋精密工業株式会社