小型連続晶析装置『リアクタライザー』

PR原薬やファインケミカル・二次電池の開発に！閉塞・バックミキシングなく均…

『リアクタライザー』は、結晶生成を効率化する小型連続晶析装置です。 反応管内にテイラー渦流を起こすことで、閉塞やバックミキシングなく、 連続的な強力なせん断攪拌が行なえ、均質な粒径の粒子生成が可能。 また、核の発生や結晶の成長の高速化にも貢献します。 【特長】 ■閉塞なく連続した結晶生成が可能 ■均質な粒径の粒子を生成 ■核発生・結晶の成長スピード向上にも貢献 ■原薬やファ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社徳寿工作所

小型固体ナノ秒レーザ『AVIA LX シリーズ』

PRコストパフォーマンスに優れた小型ワンボックス構造のパルスUV・Gree…

『AVIA LX シリーズ』は、高パルスエネルギー発振でありながら、小型・軽量・ 低価格設定を実現する産業用固体ナノ秒パルス発振のUV・Greenレーザです。 出荷されるすべてのAVIA LXはHASS/HALT試験による動作検証を行っており、 さらにUVモデルは非線形(THG)結晶を内製化することにより、寿命と性能の向上および ランニングコストの低減を実現しています。 【特長】AVIA LX...

メーカー・取り扱い企業： コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC

結晶欠陥検査装置『EnVision』

非破壊/非接触！nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ（15nm～サブミクロン）と密度（E6～E10/cm3）の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。 様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属　堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

結晶欠陥測定装置　(光散乱断層撮影式)

結晶欠陥測定装置　(光散乱断層撮影式)

シリコンウェハーの結晶欠陥が高速測定可能。...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

産業用 266nm パルスレーザー　0.5W-3Wモデル

で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

凍結結晶防止用 潜水ヒーターと温調盤セット

谷口ヒーターズが開発した特許潜水ヒーターと温調盤を組み合わせた薬液保温…

凍結・結晶防止用の潜水ヒーターと温調盤セットは常温管理（～35℃）を目的とした 貯蔵槽（管理槽・予備槽）向の製品です。 従来の貯蔵槽向の製品では槽の高さに合わせた長い「Ｌ型ヒーター」が主流でしたが、谷口ヒー...

メーカー・取り扱い企業： 谷口ヒーターズ株式会社 千葉事業所

セントロサーム　超高温バルクアニール炉

超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

各種材料育成装置製造サービス

結晶育成・成膜・線引き装置の専門メーカー

当社は、新素材開発をお手伝いする各種材料育成装置の専門メーカーです。 半導体、酸化物、フッ化物等の各種結晶育成装置、光ファイバー線引き装置 および金属系結晶育成のアーク溶解引上げ装置など各種装置を オーダーメイドにより設計、製造します。 ご要望の際はお気軽にご相談ください。 【ラインアッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサーチ

パワー半導体の解析サービス

故障箇所→拡散層評価を含めた物理解析/化学分析までスルー対応いたします…

【故障箇所特定から拡散層評価や結晶構造などの物理解析まで対応】 ■裏面発光/ OBIRCH解析による故障箇所特定 ■故障箇所への高精度位置特定、FIB加工 ■不良箇所のFIB/LV-SEM観察、EBIC解析による拡散層形状評価...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテス

透明YAGセラミックス

YAG単結晶と比較して同等以上の光学特性を特性を有する「透明YAGセラ…

セラミックスの優れた特性(高硬度、高強度、高耐熱性、高耐食性)に加え、 固体レーザ媒質として広く用いられるYAG(Y3Al5O12)単結晶と比較して同等以上の光学特性を特性を有するYAGセラミックスのご提案が可能です。 物性データはカタログをダウンロード頂きご確認ください。 【特長】 ●優れた光学性能 ●優れた耐食性 ...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

【DL可STEM/EDS】STEM/EDSによる半導体絶縁膜評価

STEM-EDS観察は半導体のPoly-Si(ポリシリコン)間の絶縁膜…

ることで、試料の組成に関する情報（原子番号を反映したコントラスト像）が取得できます。 加えて以下の特長もあります。 ・電子線の入射角度を変えることで、回折コントラストの変化を観察 ・観察対象が結晶質であるかの判断 ・結晶内にある結晶欠陥（転位、双晶等）の情報の獲得 本事例では 「STEM-EDSによる半導体絶縁膜評価」 を紹介しています。 本事例は問題なしの結果でしたが、異常検...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

SiC半導体評価装置「SemiScope」

フォトルミネッセンス(PL)イメージング法を用いたSiC半導体評価装置

できるPLイメージング装置です。 試料を移動させながらイメージング測定を行うタイリング機能を用いることで、約33億画素の解像度で6インチウェハ全面のPL画像を得ることができます。 SiCウェハの結晶欠陥を可視化。非接触・非破壊検査がPLイメージング法で短時間測定可能です。 【特徴】 ○SiC半導体評価装置 ○SiCウェハの結晶欠陥を可視化 ○非接触、非破壊検査 ○PLイメージング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトンデザイン

シリコンウェハ

2インチ；3インチ；4インチ；5インチ；６インチ；8インチ；１２インチ…

ウェハー (wafer ウェイファ)は、半導体素子製造の材料である。高度に組成を管理した単結晶シリコンのような素材で作られた円柱状のインゴットを、薄くスライスした円盤状の板である。洋菓子のウェハースに由来（英語表記ではいずれもwafer）。 ウェハーのほか、ウェーハ、ウエーハ、ウエハー、ウ...

メーカー・取り扱い企業： D&X株式会社

【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価

電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選…

電子線後方散乱回折法EBSD（Electron Backscatter Diffraction Pattern）は走査電子顕微鏡SEMと組み合わせることで以下が可能です ●微小領域の結晶粒の形状および方位の測定 ●基準方位に対する結晶の配向の確認 ●結晶方位差の情報から材料内部の歪の測定 本事例では 「EBSD を用いたアルミスパッタ膜の 評価」を紹介しています ...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

高硬度フラッシュめっき『クロアモール』

硬質クロムめっきの約２倍の硬度(HV1800)を実現した、世界初のアモ…

アモルファスクロム「クロアモール」は2〜4%の炭素を含むクロム系合金めっきで、膜厚3～4μと薄いながらも高硬度と優れた耐摩耗性を兼ね備えています。 【特徴】 ●アモルファス構造を有し、通常の結晶構造のめっきとは異なる特性を有する。 ●熱処理により、硬度が硬質クロムめっきの約倍の最大Ｈｖ１，８００にまで達する。 ●400℃で急激に軟化し600℃ではHv200ほどの硬さしかない硬質クロムめ...

メーカー・取り扱い企業： オテック株式会社

高性能のまま低価格を実現！『単結晶育成引上工程用ロードセル』

【ＣＺ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量…

単結晶育成時の初期工程と自動直径制御(ADC)に使用される高性能ロードセルです。 回転しながら成長する単結晶の重量を正確に安定した電気出力に変換します。 チョクラルスキー(CZ)法による引上げ装置の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テンサー センサーシステム事業部

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

CRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリーニング効果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

精密研磨装置『MA-200』

エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適してい…

置です。 試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られ、 研磨精度は平坦度λ/10以下、表面粗さ0.01μm以下を実現。 また、ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも適しております。 【特長】 ■精度が高く、研究開発用の試料作製に好適 ■試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られる ■研磨精度は平坦度λ/10以...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、 窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い 結晶性薄膜を得ることも可能です。 【特長】 ■固体ソース ECRプラズマ成膜装置の基本機能のみを装備 ■自動成膜装置にくらべて低価格 ■長期安定稼働を実現 ■クリーンな成膜環境 ■各種イ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

超高感度DLTS　バルク内欠陥・界面準位測定装置

不良及び結晶欠陥の解析に有効！幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

【その他の特長】 ■簡単に深さ方向のプロファイル、トラップの分布状態、元素及び欠陥の特定ができる ■不良及び結晶欠陥の解析に有効 ■測定結果をライブラリーにある汚染物質のDLTS信号の羅列と比較することで、 　容易に汚染物質の特定が可能 ■高感度アナログ／デジタルロックイン平均法を採用したユニークなシス...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないた...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

日新技研社　単結晶育成装置　総合カタログ

日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ　無料配布中！

日新技研社が取り扱う、単結晶育成装置総合カタログです 新しい時代のニーズに答える技術集団、日新技研では 次世代の単結晶育成装置を製造・販売しております ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ 　　○酸...

メーカー・取り扱い企業： 日新技研株式会社

測定装置『SemiScope PLIS-TEC』

拡張欠陥も測定可能！スペクトル線分析ができるSemiScope

『SemiScope PLIS-TEC』は、PLによる結晶欠陥の研究において 画期的な測定装置です。 PLイメージング画像で選択した線分において、その線分を1000点に分割した 各スペクトルを同時に測定することができます。 また、線分をスペ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトンデザイン

GaN半導体 MOCVD用機能部品

高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しております。 ■超高温ヒータ ・超高温（1500℃以上）での使用が可能 ・腐食性ガス雰囲気に耐性がある ・色々な形状にも対応でき、...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバ...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

【用途例】スパッタリングターゲット　複合材料SiC/Si

SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。

Si合金にSiCセラミックス粒子を含有させた複合材です。 結晶性Siよりも曲げ剛性が高く、使用途中の割れ、チッピング等の発生がなく最後まで安定した成膜が可能となります。 結晶性Siターゲットの1.3倍の成膜レート（成膜速度）により、効率的な成膜が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社

単結晶サファイア

単結晶サファイア

単結晶サファイアは、その優れた機械的特性、 光透過性、化学的安定性から、 高信頼性の部品材料として、ますます重要度を増しています。 　 [特長] ・優れた光透過性 ・高強度、高耐磨耗性、高耐熱...

メーカー・取り扱い企業： 橋本理研工業株式会社

半導体自動円研機『SMG-XN-812-40280』

結晶方位研削後、任意に指定された位置にOF加工またはVノッチ加工をしま…

『SMG-XN-812-40280』は、アズクロンインゴットを円筒研削する 半導体自動円研機です。 全自動機械で、長尺アズクロンインゴットを粗・精のコンビ砥石により 円筒研削を行い、X線結晶方位を探索し、OF面やVノッチ加工をします。 真円・円筒等の計測機能と砥石摩耗補正ソフト及び負荷制御機能も あります。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■インゴッ...

メーカー・取り扱い企業： 齊藤精機株式会社

現像機洗浄剤

結晶などの汚れを綺麗に除去！泡タイプの現像機洗浄剤

『現像機洗浄剤』は、ラックやタンクに付着した結晶などの汚れを 綺麗に除去します。 現像～乾燥までの全ての部品にご使用いただけます。 （乾燥ラック中の布ローラー等） 【特長】 ■泡タイプ ■本体の外装部分の清掃にもご使用可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行