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27件 - メーカー・取り扱い企業
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レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…
（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ 【特長】 ■スピンプロセスによる膜厚分布の高均一性 ■2～12インチまで対応可能 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応可能 ■自動ウェハサイズ検知機能 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…
する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現 ■最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■基板プラズマクリーニングシステム搭載 ■優れた膜厚...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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スプレーコーター 立体レジスト塗布装置 DC110/DC210
MEMSデバイス及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ー！
スプレーコーター 立体レジスト塗布装置 DC110/DC210は、はMEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ーです。微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できます。スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール、トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能です。塗布...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック
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世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター）細孔…
■ 前処理が必要がなく、 20分/ポイントと従来型に比べて高速に測定が可能です。 ...【アプリケーション】 ・Low-k膜の細孔率測定 ・色素増感太陽電池のTiO2細孔率測定 ・細孔サイズ（0.5~65nm)、厚さ（50nm～５um)のサンプル 【特徴】 ・膜厚、屈折率、表面積、浸透率、ヤング率、CTE計測も測定可能 ・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能（２０分/point...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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スパッタ成膜ユニット
マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット 【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて 使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能 ○逆スパッタ機能搭載により、基板のクリ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル
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各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…
から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
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最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…
『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」
膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。
○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板搬送方式 ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー 10トレイ収納 ○排気系 ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 ４４％（最大） ○タクト 3分／サイクル ※1枚目を除く ○到達圧力 仕込室 1.0×10^-3Pa以下 SP室 1.0...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…
電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。 【...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社
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好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナン...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400／1600
ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置
載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％ の範囲内で膜厚分布を実現いたします。 詳細はお気軽にお問合せください。 ...
メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社
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複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…
ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…
ズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長】 ■高い生産性：毎時120枚の処理が可能 ■重金属汚染対策：ウェハ裏面からの金属汚染を防止 ■高性能：A63型ヘッドを採用し、良好な膜厚分布を実現 ■メンテナンス性の向上：短時間で安全にメンテナンスが可能 ■フットプリント：トレー枚数を最小化し装置面積の小型化に成功 ■安全性：インターロック、装置機構の好適化により高い安全性を確...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所
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バックアップロールなしのスロットダイコーディング！精度や汚れの影響がな…
バックアップロールを使用しないため、ロールの精度や汚れの 影響がありません。 【特長】 ■バックアップロールなしのスロットダイコーディング ■wet 1μm塗工可能 ■高精度膜厚分布 ■バックアップロールを使用しないためロールの 精度や汚れの影響がない ■低速～高速まで幅広い塗工速度範囲に適応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノスマート
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不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパ…
【性能】 ■真空性能 到達圧力：≦9×10^-5Pa ■成膜性能 膜厚分布：φ100mm area≦±5%（回転成膜） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社菅製作所
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1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）
厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…
1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）
高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…
N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 マニュアル機～フルオート...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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薄層塗工可能！低速～高速まで幅広い塗工速度範囲に対応するコーター
れ、基材とダイヘッドの接触事故を防止できます。 光学系フィルム製品、電子材料関係、エネルギー関連等の用途に最適です。 【特徴】 ○バキュームチャンバー付 ○スロットダイ方式 ○高精度膜厚分布 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノスマート
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基板回転・基板加熱対応のホルダーを搭載！大気解放することなく連続成膜可…
■100×100基板に対応 ■マスク交換用にグローブボックスを連結 ■抵抗加熱蒸着源、有機専用蒸着源、コニカル蒸着源Kセルを複数備えている ■基板回転･基板加熱対応のホルダーを搭載 ■膜厚分布に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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