真空チャンバ | イプロスものづくり

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』

PRタッチパネル搭載！荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…

プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。タッチパネル（デジタル設定・表示）によるプログラム設定が可能。荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。真空成型（成形）は真空チャンバー方式で均一に成形可能。上パンチがワーク（成形体）に当たり荷重がかかると、フローティング...

メーカー・取り扱い企業：エヌピーエーシステム株式会社

半導体用真空チャンバー

z

2022年10月21日に、QYResearchは「グローバル半導体用真空チャンバーに関する調査レポート, 2017年-2028年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。半導体用真空チャンバーの市場生産能力、生産量、販売量...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

真空対応3軸円筒座標型クリーンロボットSVCR3330Sシリーズ

真空チャンバ内で4kgf以下のトレイの搬送にご使用頂けます。

真空対応3軸円筒座標型クリーンロボットSVCR3330Sシリーズは、可搬重量はアーム第3関節換算10kgf(チャック・ワーク含む)、許容曲げモーメント25N・m以下まで搭載可能です。高剛性、高負荷対応によりウェーハを乗せたトレイ、小型ガラス基板の搬送が可能です。シャトルタイプのツインチャック採用により、ワーク交換時間の短縮を可能にしました。真空シール方式は磁性流体方式フィールドスルー(2軸タイプ)...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジェーイーエル

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称モデ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴・低...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称モ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・低圧プラズマ解析を得意とします・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします・2D(2次元),...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします・2D(2...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。・低圧プラズマ解析を得意とします・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

ICP-MS用消耗品

ICP-MSの性能と分析品質を向上する部品と消耗品！大量サンプルの迅速…

Agilent ICP-MS部品と消耗品は、厳しい仕様に基づいて設計、製造、テストされており、充実したサポートとともにお客様の分析を支えます。分析を簡単にし、必要な結果を得るための強力なツールです。信頼性の高い微量分析を可能にして干渉を低減し、生産性の向上に貢献。また、「Agilent コーンケアキットと拡大鏡」は、ICP-MS インタフェースコーン点検の信頼性向上と負...

メーカー・取り扱い企業：アジレント・テクノロジー株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる製品です。基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社