薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

廃棄太陽光パネルリサイクル装置『PVリサイクルハンマー設備』

PR廃棄太陽光パネルを１回の処理でほぼ完全にガラス、アルミ枠、バックシート…

太陽光パネルは、再生可能エネルギー電力の買取制度（FIT）、地産地消型の独立電源としての期待もあり、急速に普及しましたが、寿命や破損によって、廃棄量は最大年間約80万トン、約4,000万枚が排出されるとの試算もあります。 『PVリサイクルハンマー設備』は、廃棄太陽光パネルをゴミとせず、新たな"資源"として再活用するリサイクル装置です。 また、アルミ枠分離からガラス分離までの連続運転が可能になりま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイガーチヨダ

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノシステムソリューションズ

イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション

今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧…

半導体の高精度化と微細化、またその半導体を必要とする分野が急速に拡大することに伴って、現在半導体製造におけるプロセス装置は今まで以上に高電圧化が進みながら、装置自体の小型化が強く求められています。 レモコネクタは、今後の半導体製造装置の進化に対してプッシュプル・小型高電圧製品で「お客様の電圧増加・省スペース化の課題...

メーカー・取り扱い企業： レモジャパン株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

全自動レーザーリペア装置

ＦＰＤのセルパネル欠陥に対し、ＩＴＯパターンをカットして修正可能。

＜PDP−ITO膜パターン修正レーザー装置＞ ■概要 PDPセルリペア装置は、点灯検査後のセルパネル欠陥に対し、ガラス越しにITOパターンをカットし、輝点を原点にし、パネルの修正を全自動にて行います。 下地の誘電体等々の材料、また...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

ガウシアンビーム電子ビーム描画装置の世界市場動向分析2023

ガウシアンビーム電子ビーム描画装置に関するグローバル市場分析、市場規模…

2023年10月10日に、QYResearchは「グローバルガウシアンビーム電子ビーム描画装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。ガウシアンビーム電子ビーム描画装置の市場生産能力、生産量、...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

【技術資料】『SES-2100H』卓上電子ビーム照射装置

研究、開発、微小素子の処理に！卓上電子ビーム照射装置の技術資料です。

『SES-2100H』は、赤外極微弱発行の検出や微弱分光を行う理化学機械や、電子ビーム装置の研究開発の製造・販売をしている浜松クオンタムの卓上電子ビーム照射装置です。従来の装置に比べて、小型、卓上装置ですので、研究、開発、微小素子の処理におすすめです。 当資料では、装置の説明や化学反応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社浜松クオンタム

直接描画装置『Ledia6』

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可…

『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・ 高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに 信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要な波長域をより ブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。 また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREEN PEソリューションズ 本社

電流安定度、位置安定度は業界トップクラス！電子線描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

クレステックは、ポイントビーム型の専用メーカーとして20年以上、国内外に多数のEB描画装置を納入しております。装置の販売のみならず、EB描画の受託加工サービスも行っております。 ビーム径：2nmΦ以下 最小線幅：10nm以下 加速電圧：50kV, 30kV ステージ：4インチ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クレステック 本社

電子ビームリソグラフィ装置の世界市場調査レポート、サイズ、シェア

電子ビーム描画装置市場は、2035 年までに約 465.7百万米ドルの…

電子ビーム描画装置市場規模とシェアは、2022 年の市場価値約 178.1百万米ドルから 2035 年までに約 465.7百万米ドルに達すると予想されます。また、 2023―2035 年に予測期間中に約 8.34% ...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

ミリング装置用アンペア級イオン源

MEMS加工装置用イオン源に！ご要望に合わせたオーダーメイドが可能です

【装置仕様】 ■放電方式：多極磁場型 熱陰極DC放電(ECRプラズマ源も取付け可能) ■ビームサイズ：φ350mm ■ビーム仕様：1keV×2A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

LVH等の孔検査に最適な光学式外観検査装置　『MIYABI 7』

スルーホールやレーザービア（LVH）検査に多くの実績あり。長年の知見と…

◆スルーホールやレーザービア（LVH）をパターンと同時に全穴検査 ◆あらゆる基板を高精度に検査する新開発の照明系 ◆パッド・ラインを個別に条件設定、欠陥検出精度を向上 ◆フロントソフトウェアセットアップ時間短縮(約15分)...光源：LED（R, B, IR） 積載可能サイズ：720(X)×740(Y)mm 最大検査エリア：720(X)×740(Y)mm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREEN PEソリューションズ 本社

表面処理装置　スパッタ用イオン銃　「40C1型」

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

試料表面をクリーニングするためのコンパクトで簡便なイオン銃です。 ...【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

小型ECR原子ビーム源『ERS-35』

メタルコンタミフリーの誘電体ライニング！超高真空装置に対応できる小型E…

『ERS-35』は、MBE等の超高真空装置にも適応できるECR放電型の 小型原子ビーム源(ラジカル源)です。 完全メタルシールにより超高真空装置に対応。 取り扱いが容易な同軸ケーブル給電です。 MBE装置の窒素／酸素ラジカル...

メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社

デモ機貸し出し可能！卓上電子ビーム照射装置『SES-2100H』

【問い合わせでデモ機貸し出し可能！】研究用・リース！ナノテクノロジー用…

『SES-2100H』は、新規な材料を開発している研究者の方々が リースでも使うことができる卓上電子ビーム照射装置です。 試料表面（約50μｍ）に電子ビームを照射することによって、表面分子の 重合、分解、合成が起こり、新材料に新しい機能性を付与することが可能。 セルロースナノファイバー、カーボンナ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社浜松クオンタム

内層板用両面同時露光装置　光 ＨＤＥ１１０Ｓ

今までの露光装置とは生産性が違います！

　通常12秒〜のタクトタイムを、何と！ 9秒にまで縮小しました。 　1分に換算すると、今までのものよりも1〜2枚生産量ＵＰが実現できます。...　　◆高生産性 　　　・高スループット：最大5枚／分 　　　・大基板サイズ対応：最大30×24インチ 　　◆高精度露光 　　　・高精度アライメント：新画像処理システム 　　　・安定露光：楔形真空接合方式 　※詳細は『カタログダウンロード』...

メーカー・取り扱い企業： 豊和工業株式会社 機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム

アクティブ磁気シールド（磁場キャンセラー)

外乱の変動磁界を検出、それを打ち消す磁界を発生させて磁界変動を制御し、…

▼アクティブ磁気シールド（磁場キャンセラー）の特長▼ ・現地設置がスピーディー ・電子ビーム装置の操作性を損なわない ・ローコスト ・美観が優れている ・自由サイズ可能（打消しコイルを装置のフレームへ実装することも可能） ※製品に関するお問い合わせ、ご相談は当社ホームページのお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オータマ

最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

品の提供も可能です。センサ部は温度安定性、長期安定性に優れたセラミックのセトラセラムセンサを使用しています。フルスケールレンジに対応したアナログ信号を使用し高精度を必要とする各種の製造、検査、自動化装置への組み込みに対応できます。上下限警報接点付や各種オプションにも対応できます。 その他詳細は資料請求もしくはカタログダウンロードください。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

TFE電子銃用-10kV高圧電源・CD-SEM,レビューSEM用

CD-SEM、レビューSEM用の高圧電源装置「FE103XP」です！

本製品は、CD-SEM,レビューSEM用の高圧電源装置です。加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

セトラ社　ゲージ圧　絶対圧　気圧　高精度圧力センサ　２７０

モデル２７０圧力センサは０～７００ｋＰａの絶対圧、ゲージ圧を±０．０５…

２７０の安定した高い性能は厳しい精度と高い信頼性を要する半導体露光装置を始め、多くの環境計測、工業用途、研究所、航空宇宙、自動車産業で豊富な実績を重ねています。気圧レンジは気象庁形式認定品です。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

TFE電子銃用－30KV高圧電源・標準　FE303XS

TFE電子銃用の高圧電源装置です！

本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

FIBイオン銃用＋30KV高圧電源・標準タイプ　IB303XS

開発期間の短縮にも役立つ、FIBイオン銃用の高圧電源装置「IB303X…

本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてカスタムが可能です。お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

焼付固着を防止できるボルト『SDCクリーンボルト』【潤滑剤不要】

潤滑剤・めっきを使わず焼付・カジリを防止！クリーン環境に最適な六角ボル…

しにくい六角ボルトです。食品工場など、潤滑剤やめっき・コーティングなどの焼付き防止対策が使用できない現場での利用に最適です。 【こんな現場での利用がオススメ！】 ◎不純物を極力嫌う半導体製造装置やクリーンルーム内 ◎食品・飲料関係 ◎医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部 【特長】 ◆潤滑剤やめっきなどを使用せずに焼付き固着を防止 ◆アウトガスも発生しない 【詳しくはカタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

ECRラインビームイオン源『ELBS-150』

ビームエネルギー100～2,000eV！独創的な磁路設計による均一長尺…

『ELBS-150』は、反応性イオンビームミリング装置に適用できる ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源です。 新開発の大型同軸導入端子(7/16型)による大電力マイクロ波駆動。 磁気ヘッドのミリング加工や高周波回...

メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

をはじめ、国立天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されていま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

技術紹介『フォトカソード技術』

従来の電子源と比較して、低エネルギー分散かつ大電流を得ることが可能

【事業内容】 ■電子ビーム発生装置及び素子の研究、開発、製造及び販売 ■電子ビーム発生装置及び素子に関するコンサルタント業務　等 ※詳しくはPDF（英語版）をダウンロードして頂くか、 　お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Photo electron Soul

LaB6電子銃用－30KV高圧電源・完全カスタムオーダー

LaB6カソード電子銃を使用したSEM用の電源です！

本製品は、加速電源、バイアス電源（アクティブ・バイアス方式）、フィラメント電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

高電圧ハーメチックコネクタ

ハーメチック構造で最大DC20KVの通電ができる小型コネクタです。

専用設計されております。これにより非常に高い耐電圧性能を持ち、且つバイヨネットカップリングよりすばやい着脱操作を行うことが可能です。 フロントマウントレセプタクルは、密閉構造になっておりますので、装置内の気密性を保持した状態で嵌合ができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

【資料】真空コネクタソリューション

今後の装置に対して幅広いラインアップの気密封止型製品で「お客様の多様な…

1x10⁻⁹ mbar.l/s ）以下の特別セラミックシールドソリューションを提供出来ます。 主なアプリケーション分野： ■ ウェハハンドリング ■ セラミックヒータ ■ 電子ビーム描画装置 ■ 真空チャンバー　 ■ 測長SEM他検査測定装置 高い気密性と手頃な価格により、気密を必要とするチャンバー等との信号の接続に多数ご使用いただいております。...

メーカー・取り扱い企業： レモジャパン株式会社

表面処理装置　走査型イオン銃　「40E1型」

表面処理装置　走査型イオン銃

２段の射出レンズにより、イオンビームのスポット径が容易に調整できる収束型イオン銃です。 ...【特徴】 ◯フルソフトウェア動作 ◯２段の差動排気 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能 ◯超高真空下でイオン銃の操作が可能 ◯ウィンマスフィルターの装着が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

TFE電子銃用－50KV高圧電源・電子線リソグラフィ用

TFE電子銃、電子線リソグラフィ用の、高圧電源装置「FE503XP」で…

本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

FIBイオン銃用＋30KV高圧電源・高精度タイプ　IB303XP

開発期間の短縮にも役立つ、FIBイオン銃用の高圧電源装置「IB303X…

本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ※左写真は、オプションのコントローラを本体パネルに組み込んだ例です。 ●お客さまの装置に合わせてカスタムが可能です。お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

汎用熱電子銃用－30KV高圧電源・完全カスタムオーダー

汎用SEM用の高圧電源装置「TW303S」です！

本製品は、加速電源、バイアス電源（アクティブ・バイアス方式）、フィラメント電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

TFE電子銃用－30KV高圧電源・高精度　FE303XP　

TFE電子銃用の高精度な高圧電源装置です！

本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源で構成されております。 ●お客さまの装置に合わせてベストなチューニングを施して納入可能ですので、気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

【潤滑剤・めっきを使用せずに焼付固着を防止】SDCクリーンボルト

独自の技術であるSDCプラズマ表面硬化処理により、潤滑剤・めっきを使用…

不純物を極力嫌う半導体製造装置やクリーンルーム内、食品・飲料関係、医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部では、ボルト・ナットに潤滑剤やめっき・コーティングなどの焼付き防止対策が使用できないことがあります。一般のステンレス鋼製ボルト...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

高出力赤色半導体レーザーマーキング M1170NMSH-7LA

高出力赤色半導体レーザーマーキング／品番 M1170NMSH-7LA

波長635ｎｍ（赤色）を使った非接触の光ケ引装置です。 超小型で、超軽量、収束性も良く、長寿命を実現しております。 製材用、木工用、建材用、紙、繊維、その他あらゆる分野で切断時の直線出し、位置合わせ、レベル合わせ、方位決め等広い用途に使用でき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シロ産業

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

をはじめ、国立天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されていま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中