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141件 - メーカー・取り扱い企業
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ドライポン…
◆独自設計のスクリューロータにより、従来ドライポンプでは不向きとされていた凝固性ガス・粉体・生成物・液体などの吸引を含むハードプロセスにおいても安定した運転を実現します。 ●ZEROEDGEスクリュー 排出効率に優れ、堅牢性を重視した構造設計により、ハードプロセスにおいても安定した運転を可能にします。 ●メンテナンス性の追求【省コスト】 設置場所にて、容易に洗浄作業や分解作業ができ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…
乾式除害装置「MAKシリーズ」は、排気ガス中の有害成分を化学処理剤トムクリーンと反応させ、安全な化合物に変えて処理剤内に固定し、弊社にて産業廃棄物として処理されます。 トムクリーンを処理対象成分に合わせて選択...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…
MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはない...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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Agnitron社 研究開発(R&D)~量産用 MOCVD装置
Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…
Agnitron Technology社(アメリカ)は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置(有機金属気相成長装置)、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Technology社はお客様のニーズ一を詳細に...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…
パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター
Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…
Agnitron Technology社(アメリカ)は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置(有機金属気相成長装置)、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Technology社はお客様のニーズ一を詳細に...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…
陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF(カタログ)をダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1500枚/hの高生産性 ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 ・拡散/インプラ用ハードマスク,...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
ルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…
RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種(一例)】 Pishowシリーズ: ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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ヨーロッパ 発の技術!Leuven instruments装置の日本国…
・Shale Cシリーズ:ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ:PE CVD(プラズマCVD) 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ:IBD(イオンビーム堆積) 低温低圧条件...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください
株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…
『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置
高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現...
メーカー・取り扱い企業: 西華デジタルイメージ株式会社
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毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。(高圧ガス保安法一般則第55条第1…
緊急除害装置「S-CDシリーズ」は、高圧ガス保安法に対応した緊急用乾式除害設備です。 (高圧ガス保安法一般則第55条第1項) ● 特殊高圧ガス(7種)の他、アンモニア、塩素など、各種ガスの仕様に合わせた安全...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!
各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス
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パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。
膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本生産技術研究所
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日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ 無料配布中!
日新技研社が取り扱う、単結晶育成装置総合カタログです 新しい時代のニーズに答える技術集団、日新技研では 次世代の単結晶育成装置を製造・販売しております ◆◆掲載製品◆◆ ○トランジスタインバータ ○酸化物単結...
メーカー・取り扱い企業: 日新技研株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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MRAM用ドライエッチング装置!
反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150~300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低Co...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置:フロートチャックSAC型
オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…
ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。 新機構:非接触搬送装置「フロ-トチャックSAC型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー効果を付加させました。 ベルヌーイ効果と併せて高効率、気体消費量の少な...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致しま...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体製造装置 フライス加工 アルミ精密部品 【コストダウンはフィ…
♦材質 A5052 (アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 白アルマイト処理 (日本国内) ♦個数 1~100個 ♦説明 マシニングセンタでの加工で短納期で対応させて頂きました。 公...
メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社
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中古半導体製造装置
弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。 中古装置のハイテック・システムズ! 半導体製造装置のご相談は、ハイテック・システムズへ!...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高い赤外線透過率をもつDLC膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…
硬質膜・表面処理用途で実績豊富なPIG式DLC膜形成装置を赤外線光学用途に展開。90%以上の高い透過率を持つDLC膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のDLC膜を高い生産性で実現。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ウエハチップ・マイクロレンズ・高温ウエハ・微小物の非接触搬送装置
ウエハチップ・高温ウエハ・レンズ・微小物を非接触にて搬送するベルヌーイ…
ベルヌーイチャック「微小物の非接触搬送装置」は新しく気体垂直噴流方式を採用しております。 気体垂直噴流方式はクッション室にノズルより噴出する気体流を垂直気体噴流させることり、クッション室内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…
当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC
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SiCトレーを採用!搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…
『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応 大量生産用連続式常圧CVD装置です。 自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し 生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…
エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。 実績と対応のプラズマ表面処理装置
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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装置サイズを可能な限りコンパクト化!安定した成膜処理と低パーティクルを…
『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…
常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー+...
メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社
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小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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粒子用 ALD (原子層堆積)装置 / FORGE NANO社
粒子専用のALD(原子層堆積 Atomic Layer Deposit…
研究開発向け粒子用ALD(原子層堆積)装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■3種類の容量のリアクターサイズ ■複...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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他のコネクタでは取付け困難な、狭く限られたスペースに取り付けが可能!
精密切削(削り出し)技術による超小クリアランスの実現 ○絶縁体にスーパーエンプラ PEEK材を使用 ○ガラスフィラーをPEEK材に添加することで硬質化 【小型軽量化・高密度実装を求められる装置に】 ・小型化・高密度実装を求められる装置 ・ドローンなどの堅牢性を維持しつつも小型・軽量化が求められる機器 ・現地での組立て、簡易コネクションが求められるユニット化された装置 ・小型ロボッ...
メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社
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湘南エンジニアリング株式会社 総合案内プレゼント
総合案内プレゼント!多用途接触端子など多数掲載!
湘南エンジニアリング株式会社 -
圧縮ガスドライヤー
各種圧縮ガスから不純な水分を除去するドライヤー
株式会社旭ケミカルス -
負荷試験 / 無負荷試験 / 拘束試験 モータ試験装置
モータ形状、特性、温度環境、負荷条件など、様々なご要望に対応し…
株式会社東海テクノ 本社 -
パワーデバイス向けの最新アプリケーションをご紹介!
5月の接着・接合 EXPOに出展!パワーデバイス向けの新たなア…
株式会社アドウェルズ -
蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo(デオポ)』
装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化…
株式会社サーマルプラント -
トルク制限クラッチの正しい選び方 ※選定マニュアル無料進呈中
どのトルク制限クラッチがどの用途に適しているのか?トルク制限ク…
Mayr Japan 合同会社 -
空調ダクト用ファイバーレーザー自動切断システム
空調ダクト用ファイバーレーザー自動切断システム
国際電業株式会社 -
【2024年5月22日~24日】2024NEW環境展出展のご案内
取組内容と各製品をご紹介。ブースにて実機デモを実施予定!
日工株式会社 事業本部 -
サイクロン式クーラント液浄化装置 ※デモ機有り
【SDGsに貢献】省電力ながらスラッジを効率的に除去!フィルタ…
日本スピンドル製造株式会社 環境事業部 -
薬液供給装置(連続式) P112
プロセス装置に連続で薬液を供給
株式会社テクノメイト