電極 | イプロスものづくり

PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ADEKA

チップ抵抗ネットワーク1005×4

PR実装コストの低減を実現！電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワーク

当製品は、電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワークです。部品搭載回数の減少による実装コストの低減を実現。最高使用電圧は25V、定格電力は1/16Wです。ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。【仕様(抜粋)】 ■素子数：4 ■回路記号：D（独立回路） ■包装数量：10,000 アイエイエム電子ではチップ抵抗ネットワークを始め各種厚膜チップ抵抗器を製造販売しております。 ※詳...

メーカー・取り扱い企業：アイエイエム電子株式会社

側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）

小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…

面実装タイプの受動電子部品（抵抗器・コンデンサ）などの側面電極をドライプロセスで形成。廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Ｓｎ、Ｎｉ等の金属膜をハイスループットで形成。（酸化膜形成にも対応）実績豊富なハードと独自...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

ダメージレスで接着性＆濡れ性向上！大気圧広幅低温プラズマ処理機

デモ機有り！　初回は無償でサンプル作成いたします。安価なガスで低温…

脂の表面活性なら是非お試しください。弊社にて濡れ性の確認テストがすぐに行えます。 N2,O2,H2といった各種ガスは常備しており、サンプルをご持参いただければすぐに処理いたします。小型電極は既存のラインへ設置が容易です。ポテンシャルフリーなため対象物をダメージレスで処理が出来、繊細な表面を持つプラスチックの光学フィルム、金属箔への処理に効果を発揮します。裏抜けの心配もなく...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案

大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…

内容】 ■はじめに～背景 ■プラズマ処理形態 ■大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ ■現在の開発テーマ ■最後に本資料では、大気圧プラズマ使用時の各種ダメージとその原因、電極構造の関係とダメージレス表面機能化やナノレベルの詳細について詳細されております。　 ※詳細はPDFをダウンロードいただくか直接お問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績蒸着・アニール・ＣＶＤなどの異種プロセス室も装備可能で実績のあるメインフレーム（搬送システム）...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

大気圧プラズマ装置 Plasma Beam

圧搾空気を用いたアーク放電式の大気圧プラズマ装置　‐低ランニングコ…

ronic社は1993年に設立され、研究開発・少量処理用の小型モデルを始め、大型処理機まで幅広くプラズマクリーナーを取り扱っております。 Diener社の大気圧プラズマ装置は、プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化します。そのプラズマをエアーの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行います。ガス源にはアルゴンガスやヘリウムガスを...

メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社

大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続！高機能性基材の開発が可能に！

また塗工剤と共有結合し易い特性を利用し、基材と塗工剤との接着性を高めます。【特長】 ■高度な接着性と持続性 ■独立した冷却システム ■コンパクトな構造設計 ■基材に対応した最適な電極タイプが選択可能・非導電基材の高速処理に適した金属電極・導電性及び熱影響の大きい基材に適した、温度管理可能なセラミック電極 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業：ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方　※解説資料進呈

"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

ここではコロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種がワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、濡れ性や、塗布性...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

前処理・表面改質-コロナ放電・プラズマ処理

立体形状のワークに対応可能！豊富なアプリケーション電極、周辺機器、搬送…

紹介します。印刷・塗装前の基材表面の処理(濡れ性向上)を目的とし、フレーム処理とは異なりガスを使用せずに表面処理を行う事が可能。立体形状のワークに対応でき、豊富なアプリケーション電極、周辺機器、搬送装置でプラスチック、金属の混合部品に対して処理が可能です。【特長】 ■立体形状のワークに対応できる ■コロナ放電･プラズマ処理装置で真空／大気圧トータルで対応 ■豊...

メーカー・取り扱い企業：株式会社第一メカテック

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲…

【その他の特長】 ■プラズマ生成時のUV・DeepUV光量を従来比約1/80に減衰 ■ワーク内部の分子間架橋特性変化やダメージ発生がない ■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ表面処理装置【洗浄や濡れ性改善、接着性改善に】

大気圧でフィルム・基板等の高速連続処理が可能！【サンプルテスト受付中！…

エア・ウォーターの「大気圧プラズマ表面処理装置」は工業ガス会社の知見から、様々な表面改質に提案が可能です。処理対象を電極の間に挿入するダイレクト方式と、電極間で発生したプラズマを対象に吹き付けるリモート方式をラインナップしています。【特長】 ◆工業ガス会社の知見から、様々な表面改質に提案が可能 ◆窒素を主...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター株式会社

大気圧プラズマ装置を利用した電解液の注入時間短縮！

防爆型リチウムイオン電池の製造工程で、時間のかかる電解液の注入含浸時間…

弊社の大気圧プラズマ装置『Precise』は、プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮が可能。また、同処理はプラズマ発生部から隔離され、ラジカル種のみの処理となる為、表面へのダメージ等は...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置

大気圧プラズマ装置です。接着、洗浄などに最適です。

電極ユニットを取り付けることでプラズマ処理を可能にする、大気圧プラズマ装置【特徴】 ○ラミネーターの上流側に装着し　窒素と空気の混合ガスの大気圧プラズマ処理を行う ○ガスが窒素のため安価 ○真空ユニットなど高価な装置は不要 ○太陽電池及び液晶の基板（ガラス）の洗浄や　表面改質およびフィルム吸着力のUPなどに最適 ○仕様：電極ユニット、高周波電源ユニット、ガス管ユニット ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エム・シー・ケー東京電子事業本部

大気圧プラズマ装置　Plasma Beam RT

2 次元表面の高速、高効率、広範なインラインプラズマ処理に最適なソリュ…

ドイツDiener(ディエナー)社の大気圧プラズマ装置は、プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化します。そのプラズマをエアーの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行います。ガス源にはアルゴンガスやヘリウムガスを...

メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社

プラズマガン『SG-100』

緻密で溶射効率のよい皮膜が得られる！新設計のノズル電極により長寿命化を…

プラクスエアー/タファー社の『SG-100』は、ノズル内部に材料を供給するため、緻密で溶射効率のよい皮膜を得ることができるプラズマガンです。金属から高融点セラミックスまで、各種材料のプラズマ溶射ができます。また、40KW/80KWのモードがあり、さらにサブソニック、マッハ1、マッハ2の溶射速度により最適条件の選択が可能です。このほかに、プラズマ溶射システムを構成する装置...

メーカー・取り扱い企業：ユテクジャパン株式会社

大気圧プラズマ装置「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

温処理 ○ダメージフリー ○ESDフリー処理手前でのイオナイザー装置が不要 ○2年間メンテナンスフリー ○小型軽量（他社比較：約体積比率1/2以下、約重量比率1/3以下） ○半永久的長期寿命の誘電体電極 ○パーティクルフリー ○幅広ワークへの均一処理詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

ートにより各種の個別要求に確実に対応。一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能Ｒ＆Ｄ用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハー...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

Diener Electronic社製『プラズマ処理装置』

幅広い材質に対応できる低圧タイプや、インライン設置が可能な大気圧タイプ…

ズマによる親水性の改善や物体表面の有機物除去、アルゴンプラズマによる酸化膜除去や、フッ素を利用してのエッチングなど様々なプロセスを実行可能です。《大気圧プラズマ装置》プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化。そのプラズマをエアーやアルゴンガスの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行います。 ※詳しくは資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社

【プラズマ処理装置】表面処理、スミア除去をご提案

アジア大手電子機器メーカーに実績多数！様々な分野での表面処理を提案しま…

【その他の特長（抜粋）】＜バッチ式デスミア装置＞ ■独自の電極構造・高密度プラズマ（ICP）により残渣を高効率除去・両面処理が可能 ■優れた均一性を実現・装置前後から反応ガスを出入れし、基板前後のエッチング差を抑制・電極部冷却機構により基板温...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日立ハイテク

【資料】大気圧プラズマ発生装置

「大気圧プラズマの発生メカニズム」や「大気圧プラズマ装置の特長」などを…

【その他の掲載内容（一部）】 ■大気圧プラズマによる表面改質及び洗浄 ■プラズマ電極構造 ■セラミック電極構造 ■プラズマ放電構造による違い ■プラズマ照射により静電気の除去効果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社都ローラー工業

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

標準５００ｍｍ□のステージを装備したバッチタイプ平行平板型プラズマエッチング装置。高周波プラズマを標準とし電極の切替によりRIE・プラズマエッチングのどちらのモードにも対応。Ｆ系ガスによるエッチング・アッシングを標準的なプロセスとしＳｉ系・ＳｉＯ2系・ＳｉN系のエッチング及びアッシングに対応。またＡｒガ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。ウェハレベルの基板だけでなく大型基板の...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」

３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…

次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。 DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。【特徴】 ○３次元形状成膜が可能 ○装置の大型...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

３～８インチウェハ対応の大気搬送型ＣｔｏＣシステム。平行平板型ＲＩＥ装置を基本とし、電極切替によるマルチモードプラズマによりソフトモードプラズマ処理を実現ＣＦ系、Ｏ２、Ａｒ、Ｈ２などのガス系とプラズマモードの組み合わせにより差的なプロセスを選択可能。オプションで両面処理機能・３...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

卓上大気圧バリア放電装置

低価格な小型装置！

●小型　- 研究室にも置きやすい省スペース　- 他の機器との組み合わせが容易　- 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ●シンプルな構造　- メンテナンス、点検が容易　- 電極（消耗品）を簡便に交換 ●均一性　- ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率　- 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト　- ガス供給なしで使用可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社チェッカーズ

リモート方式大気圧プラズマ装置

窒素-酸素の混合ガスをプラズマ化し、基板に吹き付け。瞬時に表面の汚れを…

電極間で発生したプラズマを処理対象に吹きつけて表面処理するリモート方式を採用した大気圧プラズマ装置です。液晶基板の洗浄、プリント基板前処理、樹脂基板塗工前処理等、プリンテッドエレクトロニクス関連材料に利用可能。ガラスや基板、フィルムの表面を高速に改質、洗浄します。【特長】 ◆窒素+酸素または窒素+乾燥空気を使用　 ◆高速洗浄　 ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター株式会社

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

リートＩＣ、カスタムＩＣ，化合物）の量産・試作。次世代デバイスの開発（強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成）に実績のソフト＆ハードＵＶ－ＬＥＤ用テンプレート用ＡｌＮ膜、センサー用酸化膜、高均一性電極膜、薄膜ヒーター、強誘電体（ＰＺＴ）膜、その他多くの実績...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

フィルム用ダイレクト方式大気圧プラズマ装置

フィルムの高速表面改質を窒素雰囲気中で実現。

す。【特徴】 ■マルチガステクノロジー工業ガスメーカーの知見を最大に活かして、あらゆる表面改質に対応。 →フィルムの濡れ性改善、接着性改善 ■高スループット処理対象を電極の間に挿入するダイレクト方式を採用し、高速連続処理を実現。 ■豊富なバリエーションフッ素系、PET、ポリイミドフィルムなど多種実績あり片面、両面処理可能。フィルム幅は最大2000mm。 ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター株式会社

大気圧プラズマ装置を用いたダイレクト接着接合時のラミ前ドライ処理

ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合（ダイレク…

ンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。また、接合界面材質に見合った結合分子を、添加ガスの変更やプラズマパラメータの最適化により、界面に対し、選択的に機能性分子（共有結...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

コールドカソードイオン銃

ホットカソードには無い極めて低い温度、低い真空度で動作！

　オメガトロンのイオン銃技術とノウハウを結集し、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃を完成させました。放電電極に高価なレアメタルをおごっているにもかかわらず、最適設計により部品点数を削減したため、品質をより向上させつつ販売価格を１２３万円（税抜き）とすることができました。また、オプションのユニットをお選...

メーカー・取り扱い企業：株式会社オメガトロン

プラズマ放電による表面改質『リニアプラズマ』

低パワーの処理が可能な為、熱反応性の基材の処理も可能！薄いコーティング…

【技術的特長】 ■処理する基材の厚みは無制限 ■最大処理幅2000mm ■高効率リニアプラズマ電極による、処理基材に対する低熱負荷の処理 ■片面又は両面処理が可能 ■コンパクトな設計により、生産ラインへの取付が容易　など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業：ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

『流動層式大気圧プラズマ粉体処理装置』

大容量の粉体表面改質装置

プラズマ技術と流動層技術を組み合わせることで実現した、粉体表面への処理を大容量で行う処理装置です。二次電池の電極材料、 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

みを使用した装置です。これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。【特徴】 ○電極交換（誘電体部）不要 ○幅広処理（100ミリ～3000ミリ） ○ダウンストリーム型電極形式の為、処理面に対しダメージ発生がない。 ○2年毎のメンテナンスのみ詳しくはお問い合わせ、またはカタログ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置　Plasma Beam Mini

【低コストでプラズマの導入】試験・研究や少量生産に最適な大気圧プラズマ…

ドイツDiener(ディエナー)社の大気圧プラズマ装置は、プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化します。そのプラズマをエアーの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行います。ガス源にはアルゴンガスやヘリウムガスを...

メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社

大気圧プラズマ処理装置　ダイレクト式

アジア有力企業において多数の実績あり。

対抗電極下で安定したプラズマを発生させます。さらに、誘電体を電極間に入れることにより、安定したプラズマを発生、維持させることが出来ます。 ■処理対象　対象ワーク表面の改質／粗化(接合強度の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日立ハイテク

大気圧プラズマ装置Cu/フッ素樹脂等へのダイレクト接着と超親水化

フッ素樹脂（PTFE・PFA）に粗面化不要のダイレクト接着が可能な大気…

です。弊社プラズマ処理における接着・接合は分子結合を主体としいるため、表面へのダメージや、プラズマによるＵＶ光等からの科学的ダメージは全く無い処理が出来ます。また、プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮にも効果が期待できます。処理幅は100ミリから3000ミリを均一処理。詳しくはお問い合わせ、またはカタ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ表面処理装置　5G向けプリント基板（FCCL）にも

液晶ポリマー、フッ素樹脂、PP等のフィルムまたは異種材とのダイレクト接…

ることなく、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基を付与することで、液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着することが可能です。また、プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮にも効果が期待できます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ処理装置　リモート式

アジア有力企業において多数の実績あり。

対象ワーク表面の改質(接合強度の向上、密着性の向上）　対象ワーク表面の有機物除去【特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, O2,Ar等詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日立ハイテク