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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…
高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...
メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.
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車両やエンジンから出力される信号にあわせて表示内容をカスタマイズ
● LYSSEN ENTERPRISE CO.,LTD 製品。 ● フルカスタムによるCAN-BUSメーターASSYのご提案が可能です。 ● 製品詳細、掲載品以外の製品については弊社営業部までお問い合わせ願います。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジェイビーシー
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数えるのが得意なAIです。それ以外のことはできません。 今ま…
株式会社横山商会 名古屋営業所 -
プラズマを用いた官能基修飾による表面改質で新たな機能を提供
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株式会社電子技研 -
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株式会社3D Printing Corporation -
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名東化工機株式会社 -
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株式会社栗田製作所 本社・京都事業部 -
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VCG-1 は、マルチポート、マルチバスの メッセージルー…
ATI Worldwide LLC 日本支社 -
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PHA(パルス波高分析)モードとMCS(マルチチャンネル・スケ…
大栄無線電機株式会社