• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開 製品画像

    新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開

    PR”光”を共に照らして30年

    当社は、日亜化学工業株式会社のLEDを販売して ちょうど30年の節目を迎える事となりました。 日亜化学工業株式会社の代理店30周年を記念したページを公開いたしました。 https://lp.shinkoh-elecs.jp/collaboration-30th-anniversary/...日亜化学工業が高輝度青色LEDという製品を発売して30年。 それとほぼ時を同じくして、当社は国内唯一の代理...

    • NALW009AL.jpg
    • display.png
    • NCSU434B.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 新光電子株式会社

  • サーボ電動ガスブースター、Haskel社 製品画像

    サーボ電動ガスブースター、Haskel社

    画期的な圧縮技術により独特でクリーン、且つ高流量出力と比類のない高効率…

    HASKELが御社が期待される信頼性と安全性を実体化。 Q-Driveはガス移送と圧縮に革新をもたらしました。スマートサーボ電動技術に基づき、Q-Driveは効率性、清浄性と静音圧縮性を達成致します。 この革新的ブースターは最適な性能と高流量の要求に応じ製作されています。 <利点> ■ コンパクトでも流量と圧力の消失なし ■ 優れたデザインで、迅速なシール部材交換は該当装置にあっ...

    • q-drive1.jpg
    • q-drive2.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ハスケル社製 エア駆動式ガスブースター『AG/AGD/AGT』 製品画像

    ハスケル社製 エア駆動式ガスブースター『AG/AGD/AGT』

    電気が不要!最高269MPaまで昇圧。様々なガスに使え、コンタミ混入も…

    ハスケル社のエア駆動式ガスブースター『AG/AGD/AGT』は電気が不要で、 ほとんどのガスに使え、幅広い流量・圧力に対応可能。 エア駆動セクションとガスセクションを隔離し、ハイドロカーボンの混入を防止。 エアラインに潤滑が不要で、コンタミを防ぎながら昇圧が行えます。 【特長】 ■駆動エアの排気を利用した効果的な冷却 ■最高圧力は269MPaまで昇圧可能 ■機種が豊富で幅広い...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • VOC排気処理 パッケージ型 触媒燃焼式脱臭装置 CO NMD 製品画像

    VOC排気処理 パッケージ型 触媒燃焼式脱臭装置 CO NMD

    高温を検知すると装置保護のため全停止!小風量のVOC排気及び臭気に対応…

    『NMDシリーズ』は、貴金属触媒により臭気ガスや低濃度の有機溶剤ガスを 低温域で効率よく脱臭、浄化する触媒燃焼式脱臭装置です。 プレート式熱交換器の採用による省エネ設計でユーティリティは電気のみ。 高濃度ガス(高発熱)が流入した場合、装置内の異常過熱を表示するとともに、 ヒーターを遮断し冷却モードに移行後、安全に装置を停止します。 大学、研究所等のラボテスト、ドラフト排気、乾燥炉...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島川製作所

  • ヘリウムガス 製品画像

    ヘリウムガス

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • 医療用 MEシリーズ 水分交換機 製品画像

    医療用 MEシリーズ 水分交換機

    ガス流の除湿又は加湿に理想的です。

    水蒸気の除去と加湿に理想的なNafion(R)チューブを使用しています。 Nafion(R)チューブ以外の電源や他の機器は必要ありません。 <<詳しくはカタログをダウンロード又はお問合せください>>...【特徴】 ■ガスの乾燥又は加湿 ■接続部の種類が多い ■分析ガスに影響を与えない ■連続再生 ■低デッド ボリューム ■堅牢な構造 ■高反応(0.1~0.2秒) 1.ド...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • OG設備 製品画像

    OG設備

    生産コスト削減や環境負荷軽減に貢献する部分燃焼型の転炉排ガス処理設備!

    as Recovery System)』は、 国内シェア100%クラス、海外でも100基以上の納入実績を誇る 部分燃焼型の転炉排ガス処理設備です。 製鉄所内転炉直上に設置され、転炉排ガス(COガス)を出来るだけ 燃焼させずに冷却、集塵、回収を行うことが可能です。 【機能】 ■転炉から発生したCOガスは燃焼率10%以下に抑制 ■高温(1,450℃)のCOガスは冷却器で約600℃...

    メーカー・取り扱い企業: スチールプランテック株式会社

  • 多成分同時分析ガスモニタ『Gasmet DX4000』 製品画像

    多成分同時分析ガスモニタ『Gasmet DX4000』

    FT-IRの原理を採用した、ガス専用モニタリング装置

    【測定分野】 ■工場施設、焼却設備からの排ガス測定<CO,HCl,SOx,NOx,CO2 他> ■燃焼<CO,HCl,SOx,NOx,CO2, H2O 他> ■VOCモニタリング:職場環境 <C3H6O,IPA,C7H8,C6H14,C2H5OH,...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社相馬光学

  • インライン式超高純度ガス精製器ファインピュアラー300NL 製品画像

    インライン式超高純度ガス精製器ファインピュアラー300NL

    インライン式超高純度ガス精製器ファインピュアラー「300NL/minの…

    【製品仕様(一部)】 ■適用ガス:N2(※1) ■除去対象不純物:O2, CO, CO2, H2O ■原料ガス純度:5Nガスボンベ相当以上 ■精製ガス中不純物濃度各除去対象成分:1ppb未満 ■使用圧力:0.3MPaG以上 0.98MPaG以下 ■最大圧力:0.98M...

    メーカー・取り扱い企業: 大阪ガスリキッド株式会社

  • ヘリウム 製品画像

    ヘリウム

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウム 回収 製品画像

    ヘリウム 回収

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ガス回収装置 製品画像

    ガス回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウムガス 回収装置 製品画像

    ヘリウムガス 回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウム 回収装置 製品画像

    ヘリウム 回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    基本ユニットは低圧のヘリュームガスを高圧に昇圧するガスブースターポンプで、ハスケル社製空気圧駆動ガスブースターを使用致します。 要求される再充填圧と容器の容量に応じガスブースターを選定可能で、最も効率の良い機器組合せを行います。 ...要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-...

    • ガス回収装置回路図.png

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

1〜13 件 / 全 13 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR