• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • COC  ステンレスベアリングユニット  ひしフランジ型 製品画像

    COC ステンレスベアリングユニット ひしフランジ型

    PRIP69K 防水・防塵 ベアリング内部に水が入らない

    ・IP69K 防水・防塵 ・頻度の高い高圧洗浄に耐える設計 ・食品ライン用に開発された新設計 ・シャフトに傷をつけいないオクロックシステム搭載 ・バクテリアの発生を防止するハウジング設計(スタンドオフ) ・取付面より12mmのクリアランスを設けたSUS316ハウジング ・無給油(メンテナンスフリー)グリスアップ不要 ・NSF認証 H1グリス使用 ・ハウジングにQRコードを刻印 トレ...

    メーカー・取り扱い企業: UEK株式会社

  • 精密篩 (100ミクロン以下) 製品画像

    精密篩 (100ミクロン以下)

    100ミクロン以下高精度精密篩、50um以下孔径篩

    航空標準HB1862-1999 及び国家標準GB5330-2003、国際標準ISO9044-1999 に準処した製造品です。編み法により、平織と綾織に二つに分けています(図1、図2)。工業用金網はQ/9D183-2002 規格に準処し、真鍮、錫青銅、ステンレス、ニッケルを使って作たものです。金網はR10、R20、R40/3 シリ- ズがあり、目開き寸法は8.00~0.015mm(1~800 目/ ...

    メーカー・取り扱い企業: 愛鋭精密科技(大連)有限公司(AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR