リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開

PR”光”を共に照らして30年

当社は、日亜化学工業株式会社のLEDを販売して ちょうど30年の節目を迎える事となりました。 日亜化学工業株式会社の代理店30周年を記念したページを公開いたしました。 https://lp.shinkoh-elecs.jp/collaboration-30th-anniversary/...日亜化学工業が高輝度青色LEDという製品を発売して30年。 それとほぼ時を同じくして、当社は国内唯一の代理...

メーカー・取り扱い企業： 新光電子株式会社

20Hz～広帯域デジタルMEMSマイク | CMMシリーズ

マイクアレイやビームフォーミングに最適な、広帯域のデジタルMEMSマイ…

　PDM出力デジタルMEMSマイクロホンに、マイクアレイや信号処理に最適な、20 Hz～という低周波帯域に対応した2モデルが新登場です。 　両機種とも、感度は-26dB ±1 dB、S/N 65 dBにて、4.00 x 3.00 x 1.00mmトップポートタイプの「CMM-4030DT-261075-TR」と、3.50 x 2.65 x 0.98mmボトムポートタイプの「CMM-3526DB-...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーユーアイ・ジャパン (CUI Japan Co., Ltd.)