リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 ３ GHｚ ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット ・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.

酸性ガス吸収材：NCハニカム

大気汚染物質であるNOx/SOxを分解吸収するセラミックハニカムフイル…

/ □78mm（※） 　セル密度： 160cpsi 　触媒材質　　： 硫酸カルシウム(CaSO4) 　　　　　　　　 水酸化カルシウム(Ca(OH)2) 　　　　　　　　 炭酸カリウム(K2CO3) 　　　　　　　　 炭素化合物 【特性】 　比表面積　　： 150-200 m^2/g 　かさ比重　　： 0.35-0.60 g/cm^3 　推奨使用温度： 室温-80 ℃ 　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社長峰製作所 営業部

ハニカム触媒・吸収剤

首都高速中央環状線トンネル排気口に使用！排ガスや不快な悪臭を吸収、分解…

【ラインアップ(一部)】 ■NAハニカム ・白金のCO→CO2反応作用を利用した触媒 ・150℃以上の温度環境下で効果的に機能する ・用途例：石油ストーブの不完全燃焼防止、魚焼き器の脱煙 ■NSハニカム/NHハニカム ・活性炭の吸着作用を利用し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社長峰製作所 営業部