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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…
高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...
メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.
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低流量のエアー乾燥に最適
全自動操作で-50℃露点までの乾燥エアーを取得可能 【特徴】 ■乾燥エアーが連続的に得られる ■自己再生型 ■-50℃露点のエアー ■ソリッド ステート制御 ■取付が簡単 ■4つのサイクル時間が設定可能 ■1年間保証 ■メンテナンスが不要 ドライヤーには高吸着乾燥剤を充填した2つの部屋があります。 一方の部屋でガスを乾燥させている間、他方の部屋で乾燥剤の 再生(パー...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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ガス流の除湿又は加湿に理想的です。
水蒸気の除去と加湿に理想的なNafion(R)チューブを使用しています。 Nafion(R)チューブ以外の電源や他の機器は必要ありません。 <<詳しくはカタログをダウンロード又はお問合せください>>...【特徴】 ■ガスの乾燥又は加湿 ■接続部の種類が多い ■分析ガスに影響を与えない ■連続再生 ■低デッド ボリューム ■堅牢な構造 ■高反応(0.1~0.2秒) 1.ド...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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<台湾で特許取得済み>タッチパネルフィルムの乾燥炉です。
業界では唯一90%以上の均一性を持っている乾燥炉です。フィルムが剥がれたり、傷ついたりすることは絶対ありません。是非お試し下さい。詳しくはお気軽にお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。...【特長】 ○コンベア →テフロンベルト →ローラータイプ ○送風方法 →下降流式設計 ○フィルムが剥がれたり、傷ついたりする心配はない 【掲載シリーズ】 ○NUV-...
メーカー・取り扱い企業: ASIA NEO TECH INDUSTRIAL CO.,LTD.(アジア ネオ科嶠工業(股)有限公司)
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Company Profile
JISSEN KANKYO KENKYUSHO Co.,LTD.(Practical Environmental Institute)...Trade name : Jissen kankyo kenkyu Sho Co.,LTD. Establishment : 15 September 2003 Capital : ¥40,000,000 Board ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社実践環境研究所
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