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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR数えるのが得意なAIです。それ以外のことはできません。 今までの画像…
員数管理・員数チェック・員数作業・員数検品・員数検査 ”目視”によるカウント作業を自動化 『Deep Counter』 ▶ 省力化に貢献 ▶ ヒューマンエラー防止 ▶ 検査精度向上 従来のルールベース画像認識ではできなかったカウント作業が可能に! 〇 重なっていても大丈夫 〇 角度によって見え方が変わっても大丈夫 〇 形がいろいろあってもカウント 〇 複数の対象物でもカ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社横山商会 名古屋営業所
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より優れた潤滑及び冷却性能、高い研削効率、優れた表面処理品質、より優れ…
●タイプ:水溶性研磨ペースト ●パッケージ:インジェクター、バッグまたはボックス ●スペック: 5g、10g、30g、100g等 ●グリット:400, 500, 600, 800, 1000,100000まであります。 ●当社は、お客様のご要件に応じて特別な製品を提供することもできます。また、CBN研磨ペースト、CBNコンパウンドを提供することもできます。...●タイプ:水...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社MORE SUPER HARD PRODUCTS CO.,LTD.
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成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】 Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、 PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、 Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、...
メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社
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成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】 Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、 PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、 Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、...
メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社
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