CVD装置 | イプロスものづくり

省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…

本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成されます。...※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インターテック販売東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…

当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】　様々なご提案！

【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】

こんなお困りごとはありませんか？課題、用途に適した膜種、方式を提案【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがありコーティングを検討したい　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●コーティングメーカーが...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

CVDコーティング装置

どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装置【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを　2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な　自動プロセッサーによって監視され　さらに制御及び調節装置を装...

メーカー・取り扱い企業：中日本炉工業株式会社

プラズマCVD装置

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一性...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマCVD装置

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

CVD装置向けモジュールヒーター

CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業：アレイマジャパン株式会社カンタルカンパニー

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」をご紹介いたします。標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能なハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチングプロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」

縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…

「HTC／VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ　・6インチ・８インチ・１２インチプロセス用の石英管に対応致　・石英管の形状・洗浄用途に合わせ、横型式(HTC)と縦型式(VTC)の装置を選択可能 ■省スペースで「薬液・純水削減」に貢献　・縦型...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ウエハースケールグラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル）・原料：CH4, C2H4, solids (P...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置やランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライン...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■IC...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

各種熱処理装置

半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処…

大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および研究開発向けに提供します。主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインア...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！高温…

大手バルブメーカーKITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行って...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

半導体製造装置　自動石英管洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。方式は横型式と縦型式と2種類があり、石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さい。詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現...真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取り扱ってまいりました...

メーカー・取り扱い企業：西華デジタルイメージ株式会社

日新技研社　単結晶育成装置　総合カタログ

日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ　無料配布中！

おります ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ　　○酸化物単結晶引上装置　　○自動直径制御装置　　○μ-PD装置　　○超小型単結晶引上装置　　○SiC-CVD装置 　　○Gap.InP高圧合成装置　　○高温アニール装置　　○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆...

メーカー・取り扱い企業：日新技研株式会社

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ仕様の装置です。前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます。【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能です。当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し基板温度900℃を実現。発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネッ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現します。【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。新たな表面機能を生み出す用途...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの既存のシステムに設置する事も可能。世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社