• 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像

    熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応  カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他  副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン  集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能  乾式除害では処理できない可燃性ガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • ミューコム MO-CVDコンピュータ制御システム 製品画像

    ミューコム MO-CVDコンピュータ制御システム

    デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高…

    各種半導体薄膜製造装置の制御をパソコンにて行うシステムです。 デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高速制御とデータの保存を可能にしました。...【特徴】 ○LANによるアナログ入出信号制御 ○LANによるデジタル入出力信号制御 ○高速制御とデータの保存を可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ミューコム

  • Nd:YAGレーザパルス蒸着システム 製品画像

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • ダイヤモンド工具研磨盤『DTP-300AX型』 製品画像

    ダイヤモンド工具研磨盤『DTP-300AX型』

    単結晶ダイヤモンド工具の専用機!吸収性を高めた鋳物構造の本体に超精密エ…

    『DTP-300AX型』は、単結晶ダイヤモンドバイトのすくい面や逃げ面の 面加工及び刃付けに使用するダイヤモンド工具研磨盤です。 CVD薄膜単結晶ダイヤモンドの面加工にも使用可能。 スカイフ上面は高速回転でも極めてフレが小さく、単結晶ダイヤモンド バイト刃先の正確な面加工や刃付けができます。 【特長】 ■吸収性を高めた鋳物構造の本体に超精密エアーベアリングを搭載 ■専用揺...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イマハシ製作所 東京営業所

  • PLAD-221-Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-221-Y PLDシステム

    PLAD-221-Y PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』 製品画像

    固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

    均一性に優れた多層膜を形成できる!全自動多層膜形成装置

    AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 半導体製造装置部品 製品画像

    半導体製造装置部品

    消耗部品から修理に渡り、お客様のコストダウンに貢献できるご提案、ご提供…

    当社では、フォトリソやインプラ、エッチングなどの「半導体製造装置部品」 を取り扱っております。 干渉フィルタやカバーグラス、インプットレンズなど各種光学部品を はじめ、クランプリング(Ti, SUS)、リフトフープやインナーシールド、 マグネット再生などのパーツもご用意。 その他、光学検査機器・測定機器・解析機器などのご提供や装置メンテナンス、 改造、設計、製作などお客様のご要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ポシブル

  • 高純度イットリア溶射材 製品画像

    高純度イットリア溶射材

    耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末…

    高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。 アプリケーション例 ・プラズマエッチング装置 ・CVD装置 ・静電チャック ・焼成トレイ など 【メッセージ】 フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。 セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございまし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド

  • 300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」 製品画像

    300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

    枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で!クラスタシステムにより生産…

    PICOSUN Sprinter ALDシステムは半導体、ディスプレイ、IoT等の業界における 300 mm製造ラインで活躍するバッチALD生産システムです。 SEMI S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、枚葉成膜の品質と均一性を 高速処理、高スループット、高信頼性と組み合わせています。 処理時間が短く、熱負荷が抑えられるため、破損しやすい基板材料やデバイスにも理...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

  • 薄膜蒸着装置 製品画像

    薄膜蒸着装置

    マグネトロン、イオンビームなど!さまざまな薄膜蒸着ソリューションから選…

    当社では、幅広いプロセス機能、使いやすさ、優れた信頼性、および グローバルなサービスとサポートを通じて、一貫した再現性のある 結果を提供する「薄膜蒸着装置」を取り扱っております。 蒸着、熱蒸着、マグネトロン、スパッタリング、PE-CVD、イオンビームなど、 幅広い材料とアプリケーションに対応するさまざまな薄膜蒸着ソリューション から選択可能。 また、海外半導体製造装置メーカーの...

    メーカー・取り扱い企業: TST SEMICONDUCTOR株式会社

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

    【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置 製品画像

    スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

    省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!

    当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置 製品画像

    High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

    半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

    『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります 製品画像

    【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

    相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…

    【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • マントルヒータ Mantle heater 製品画像

    マントルヒータ Mantle heater

    配管部品の均一加熱を実現!CVDエッチング・アッシング装置に適していま…

    ワッティーが提供する『マントルヒータ』は、配管・容器加熱用に ご使用いただけます。 発熱体を使用しない断熱材、保温材の設計製作も承っており、 クロス材質も複数ご用意しているので、ご希望の仕様で製作が可能。 (400℃以上のご希望の際はご相談ください。) また、サーモスタット、ヒューズ等の過昇温防止素子、及び熱電対、 Ptセンサ等の温度制御素子の取り付けなどオプションで承ります。...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    原子層堆積(ALD)装置

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール...

    メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社

  • SiC半導体製造用機能部品 製品画像

    SiC半導体製造用機能部品

    2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

    Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温(2000℃以上)での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプ...

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    メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

  • 真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』 製品画像

    真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』

    【~300mmウエハ用】旋回軸にダイレクトドライブモータを採用! 高…

    ■Z軸が標準搭載されているダブルアームタイプの真空用ウエハ搬送ロボット ■θ軸にダイレクトドライブモータを採用し、ウエハを低振動で搬送することで スループット向上に貢献 ■CVD装置、アニール装置など、高温プロセス装置に対応 ■可搬重量2kgのため、重量物搬送にも対応 ■ウエハセンター位置ずれ補正機能付き ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイヘン

  • メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内 製品画像

    メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内

    真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

    メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様...

    メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社

  • 保守・メンテナンスサービス 製品画像

    保守・メンテナンスサービス

    半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

    <対応実績> CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下さ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • テクノウェーブ株式会社 会社案内 製品画像

    テクノウェーブ株式会社 会社案内

    "お客様の発展に貢献すること"を第一に真空技術で産業の底辺を支えます

    【製作実績装置・部品】 ■真空デシケータ ■実験用薄膜作成装置 ■高真空チャンバー ■真空ベアリング試験機 ■常圧CVD装置 ■イオンビームスパッタ装置 ■卓上型装着装置(Meius) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 『事例』プラズマや熱による センターリングの劣化対策 無料進呈中 製品画像

    『事例』プラズマや熱による センターリングの劣化対策 無料進呈中

    真空配管設備の不安を解消!プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の…

    製品使用例のご紹介です。 ・プラズマCVD装置によるプラズマや高温排気の影響で配管接続に使用しているフッ素ゴムO-リングが劣化してしまう。 ・高価なセンターリングを採用しているが、コストが高く困っている。 ・真空設備のセンターリングが劣...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ 製品画像

    Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ

    経済性に優れた高精度ラバーシール

    半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたしま...

    メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社

  • 石英ガラス加工製品・再生石英材料 製品画像

    石英ガラス加工製品・再生石英材料

    最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供します。

    当社は得意分野ごとに石英ガラスの加工業者を選定し、 最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供しています。 また、合成石英材料の取り扱もしていますのでお気軽にお問い合わせください。...【加工例】 ◯洗浄装置用処理槽 ◯ウェーハ用キャリアー、ボート、チャック ◯拡散・CVD用炉芯管 ◯エッチャー/アッシャー用ベルジャー ◯各種治工具類 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社インテリンク

  • 隔膜式真空計(バラトロン真空計) 製品画像

    隔膜式真空計(バラトロン真空計)

    150℃/200℃対応!バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

    高温制御型の真空計で長年の実績を持つMKSが提供する最新モデル コンパクトな一体型、省電力を実現...150℃/200℃対応! バイオ医薬品製造、半導体製造プロセスに最適なバラトロン真空計 バラトロン631Bは、高温制御型真空計を10年以上にわたり供給してきたMKSの最新コンパクトモデルです。 センサ内部を高温に保持し、プロセス副生成物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社

  • 株式会社エイディーディー 事業紹介 製品画像

    株式会社エイディーディー 事業紹介

    私たちは半導体業界に新しい風を起こします。

    半導体製造装置の延命化のため、他社では不可能な周辺機器の修理を致します。コスト低減はもとより省エネルギー化などの改造も行い、環境問題にも取り組んでいます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【事業内容】 ○半導体製造における関連製品の開発・販売 【サービス】 ○これまでに培った技術と経験を生かし、半導体製造装置のサポート、  延命化のご提案をいたします。 ○...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイディーディー

  • 【資料】パワーデバイス用GaNのトレンチ加工 製品画像

    【資料】パワーデバイス用GaNのトレンチ加工

    これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します

    当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。 また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応で きる装置を提供。 当資料では、これまでの加工実績をベース...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • 半導体用発熱体 製品画像

    半導体用発熱体

    半導体用発熱体

    半導体製造に使われる拡散炉用ヒーター、CVD炉用ヒーターを提供  ...横型、縦型の既存半導体製造装置に使われているほとんどすべての 炉に対して提供が可能です。 またヒーター設計に関して数々の特許を有しており、長寿命化、均熱化 への提案もさせて頂きます。 □■ラインナップ■□ ■ヘビーゲージヒーター(太線) 主に、横型・縦型の拡散プロセスにて用いられるヒーターです。 独自技...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • CVD装置用ガスボックス 製品画像

    CVD装置用ガスボックス

    CVD装置用ガスボックス

    弊社の業務内容としては、 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や 特殊材料ガス配管工事などです。 【製品事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社湘南テクノ

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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