CNCパイプベンダー『YLM社製』　

PR3Dシミュレーションを標準装備、油圧シリンダではなくサーボ化しており精…

当社は、台湾台南市に拠点を置くYin Han Technology社の パイプベンダー「YLM」の正規代理店です。　 YLM社製パイプベンダー『CNCシリーズ』は、サーボでの後方加圧機能も 標準装備し、難易度の高い1D曲げも標準タイプで曲げられます。 また、ワーク形状が3Dで表示し、入力結果の確認が容易で入力ミスによる 形状間違い等を防止します。 加工事例については資料ダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社N.K.Y

HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ

PRHallinSightのベクトル式磁場イメージング技術によって、「3D…

HallinSightは、Flaunhofer IIS（フラウンホーファー集積回路研究所）によって開発され、以下の特長があります。 ・見えなかったものを見えるようにする 3軸磁場カメラです。 ・動的な磁場をリアルタイムでマッピングできます。 ・X,Y,Z 3軸を同時測定するホールセンサ・アレイを用います。 　⇒ 32×32点、16×16点、32×2点の3種類があります。 　⇒ 各々2...

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

Oリング フロロアップD（低固着+低アウトガス+耐高真空）

Oリングの桜シールによる低固着性+低アウトガス性のフッ素ゴム（FKM）…

ゴム材質の特徴である貼り付きやガスの放出といった現象を低減させたフッ素ゴム（2元系）による材質で、高真空用途に最適なグレードです。尚、耐熱性や耐薬品性については汎用FKMと同程度です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大口径リングに至るまでの大小様々なOリングを取り揃え、材質とサイズの両面で適切なOリング選定をサポートさせて頂きます。 ＊ フロロアッ...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

きました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、フォトニクス、センサー、3Dセンシングなど様々な最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています。 日本国内では、伯東株式会社が総代理店として、同社製品の販売と保守サービスを提供しております。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 研究開発(R&D)～量産用 MOCVD装置

Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

Agnitron社のAgilisシリーズは、先端化合物半導体エピ成長を可能にする構成オプションを備えた柔軟なプラットフォームです。研究開発用(R&D用)の小型チャンバではシングル又はデュアルチャンバ構成選択可能、量産機用の大型チャンバではシングルチャンバ構成にて幅広い材料のエピ成長が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備 自公転機構によるハイレート全面成膜機構 各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ポイントタイプ液漏れ検知器『リークラーン OD-7』

液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止！油、有機溶剤検知器にＲｏＨＳお…

ポイントタイプ液漏れ検知器「リークラーン OD-7」は、多種類の油や有機溶剤に対応する高性能なセンサと組み合わせて使用する機器です。 一般工場・各種プラント・火力、原子力発電所等の機器や、配管からの液漏れを早期に発見し、事故を最小限に防止する...

メーカー・取り扱い企業： ラポールプラントエンジニアリング株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

大量生産用連続式常圧CVD装置『A6300S』

SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…

『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応 大量生産用連続式常圧CVD装置です。 自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し 生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

】2台 立形MC：Ｖ77【1200×700×650ｍｍ】1台　 　　　　 Ｖ77Ｌ【1500×700×660ｍｍ】1台　 　 ＮＶＸ7000Ｅ【1540×760×660ｍｍ】1台 5軸MC：D800Z【1200×1100×650ｍｍ】1台 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

ます。また、マルチガス・マルチレンジ機能により、予備在庫の必要性が劇的に減り、コスト効率の改善にいっそう貢献します。 この次世代MFC技術は、統合診断機能に加え、フィールドですでに実績のある当社のD980シリーズ製品のプラットフォームと組み合わせたことで、装置稼働時間を向上させるとともに、迅速かつ容易なトラブルシューティングを実現します。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

ュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M」、 ALDモジュール「SI ALD-1M」などを搭載可能 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【搭載可能モジュール】 ■SI 50...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

Agnitron社 中古再生MOCVD装置

完全に再生(リファブ)され、アップグレードされたレガシーMOCVD装置…

Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置（有機金属気相成長装置）、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Technology社はお客様のニーズ一を詳...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社