AI端末装置『AI-NETWORK TERMINAL II』

PRDeep Learningとネットワークを融合した本格AI端末装置＊A…

AIを使用した問題解決 ◎正常か異常か、AIが音で判断します! 数社との連携で様々な環境音、生活音等を現場で収集し、収集音データを 学習して「何か起きた⁉」に対応する異常音検知の開発を進めています。 AIコアモデルのAuto_Encoderを使用し、正常音を学習することで異常音 検出（非定常音検出、特異音検出）を可能としています。工作機械、製造 ライン、体内の音、道路、住宅街等、様々な機械音、工場...

メーカー・取り扱い企業： SIシナジーテクノロジー株式会社 本社

実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

0ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 P...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

ング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …

んでおります。 TSV形成におけるプロセス技術の重要課題についてもPDFダウンロードからご確認いただけます。 【加工内容】 ■前処理（RCA洗浄） ■成膜（熱Si酸化成膜、CVD成膜〈SiO2、SiN〉、メタル成膜〈Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo〉） ■フォトリソグラフィー（コンタクトアライナー、ステッパー、EB露光） ■エッチング（Wetエッチング、Dryエッチング、DR...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社M.T.C

各種ワークの受託開発・加工サービス

お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた、受託開発・加工をご提案…

【受託加工対象素材】 ■各種半導体用基板 （Si、SiC、GaN、GaAs、サファイア、 LiTaO3、LiNbO3、SiN、AlN、SiN、 各種複合材料、etc.） ■太陽電池用基板 ■各種金属基板（Cu、Al、SUS、Ti、Au、Ag、W、etc..） ■各種ガラス基板（石英、パイレックスガラス、強化ガラス...

メーカー・取り扱い企業： ナガセ研磨機材株式会社 本社

加工品納期にお困りですか？標準納期14日間を実現します！

【セラミックス/金属/樹脂/カーボン/ガラス/表面処理など】幅広いテー…

【代表材質例】 ・ファインセラミックス 　酸化物：アルミナ、ジルコニア等 非酸化物：窒化アルミ(AlN)、窒化ケイ素(SiN)、炭化ケイ素(SiC)等 ・マシナブルセラミックス マコール、ホトベール、BN、シェイパルHIMソフト ・各種金属 汎用金属：SUS、アルミ等 レアメタル：モリブデン、タンタル...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ALD（原子層堆積）装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch～8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

厚膜成膜

薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。 ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

受託サービス（CVD、スパッタリング、パターニング、エッチング）

ウェハー上への微細加工、確かな技術で幅広い受託サービスを提供します。

少開口寸法：0.6μm（レジスト膜厚により変動） 　ドライフィルムレジストへも対応しております。 ※エッチング 　ドライ：製法　RIE 　　　　　膜種　Si、Poly-Si、SiO2、SiN 　ウェット：酸、アルカリ系各種 　　　　　 クロムエッチング 　　　　　 ITO膜エッチング　　その他応談 対象基板：シリコン、石英（ガラス）、サファイア等、 　　　　　８イン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm　※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能基板 　・Si Wa...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

エッチング受託加工

ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案！お客様の課題を解決し…

【加工実績のある材質】 <ドライエッチング> ■RIE 　・Si、SiO2、SiN、SiON、樹脂、Mo、W、Ti、Ta、TiN 等 ■ICP 　・Si、SiO2 等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

マイクロエッヂプロセスのレーザ微細加工

微細形状・特殊材料など既存の加工では困難だと思われる加工を日々研究開発…

04, SUS430, SUS316L 　・銅、アルミ、コバール、真鍮等 ■樹脂 　・PI, PEN, PP, PS, PET, PEEK等 ■ガラス・セラミック 　・ホウケイ酸ガラス、SiN, SiC, アルミナ等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： マイクロエッヂプロセス株式会社

研磨作業

難題を一つ一つクリア！多種多様なロールの研磨要求にミクロン単位のオーダ…

杉村製作所の行う『研磨作業』についてご紹介します。 当社の各工場に持ち込まれるロールの種類はまさに千差万別。 長さや大きさ、形状、素材にいたるまですべてが異なります。 そのロールの特性、構造などを熟知した経験豊かなスタッフたちが、 様々な研磨ニーズに応えるべく、先端の研磨加工マシンとシステムを駆使し 作業を行います。 【特長】 ■研磨加工の先端マシンを保有 ■各種研磨加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社杉村製作所

スクライブ＆ブレーク

直径2mmの工具に荷重をかけることで基板材料に亀裂を進展させる加工です

【加工可能な材料】 ■アルミナ ■LTCC ■AlN ■SiN ■ジルコニア ■誘電体 ■ガラス ■サファイア ■SiC　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社ブリマテック

ロータリー研削加工

大型のワークサイズにも対応可能な片面研削加工

ワークサイズと仕様 材質　各種セラミックス（アルミナ、AlN、SiNなど）、各種ガラス、 　　　結晶物、金属 仕様　最大L400mm×W300mm×H400mm 　　　加工精度±０．０2ｍｍ～　　Ra０．５μｍ～ ※その他の材質、サイズについては別途お問...

メーカー・取り扱い企業： セラテック九州株式会社

樹脂フィルムへの成膜加工

低温での成膜加工が可能！ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル、PET…

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能基板 　・...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社