エッチング | イプロスものづくり

PR毎月先着50社限定｜短納期、小ロットから対応の「エッチング加工」サンプ…

エッチング加工をご希望の企業様向け！毎月先着50社様限定で、ケミカルプリントが誇る技術を詰め込んだ無料サンプルを進呈致します！切削加工や機械加工に比べ、エッチング加工は加工精度が高く、また、ケミカルプリントなら短納期・小ロットから対応が可能です。サンプルご希望の企業様はイプロスもしくは、下記お問い合わせからとご連絡くださいませ。 https://www.chemical-print.c...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケミカルプリント

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【エッチング装置の冷却に最適】アピステのチラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【エッチング装置の冷却に最適】ステージの高精度な温調と、熱源であるランプへの安定した冷却水の供給が可能です。これによりロット間のばらつきを最小限に抑え、品質向上を実現します。ーーーーーーーーー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】チラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】基板冷却のプレートや真空チャンバ内の冷却水の温度と流量、吐出圧力を一定に保ちます。ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー【選べる3...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

自動微量金属汚染物質回収装置『NAC-304』

SiC、GaN、サファイア等の親水性ウェーハでも回収が可能！

『NAC-304』は、Siウェーハのバルクエッチング機能を持った自動微量金属汚染物質回収装置です。カセットでセットした25枚のウェーハを自動で回収。バルクエッチング後の回収も自動設定で行えます。【特長】 ■バルクエッチン...

メーカー・取り扱い企業：有限会社NAS技研

完全自動微量金属汚染物質回収装置『NAC-316』

ICP-MSに対して完全自動立上げ機能持っています

『NAC-316』は、Siウェーハのバルクエッチング機能を持った完全自動微量金属汚染物質回収装置です。 ICP-MSに対して未経験者でも、分析結果を取得可能。また、ロードポートを2台持っているため、作業効率は非常に良くなり、イン...

メーカー・取り扱い企業：有限会社NAS技研

『SF6（六フッ化硫黄）の回収処理』【大幅なコストダウン】

京都議定書で削減対象の温室効果ガス『SF6（六フッ化硫黄）』を回収し、…

）の大気中での寿命は 3,200年　 ■二酸化炭素の23,900倍の温室効果ガスであり、京都議定書で削減対象の温室効果ガスの1つに指定 ■マグネシウム合金溶解炉の酸化防止や半導体製品のドライエッチング工程で用いられる【SF6が利用されている箇所】 ■マグネシウム合金溶解炉の酸化防止 ■半導体製品のドライエッチング工程 ■ガス変圧器 ■ガス遮断器 ■ガス絶縁開閉器などの絶縁材...

メーカー・取り扱い企業：中京フロン株式会社本社工場

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

【プロセス技術】フッ酸・硝酸処理設備

フッ酸・硝酸・窒素酸化物を同時に無害化することが可能な設備です

【適用例（一部）】 ■半導体エッチング工程廃ガス処理 ■太陽電池製造工程廃ガス処理 ■ステンレス酸洗工程廃ガス処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：第一エンジニアリング株式会社

脱硝触媒

長期間に亘って高い脱硝性能を維持。様々な排ガスについて好適な触媒を選定…

ボイラー、自家発電装置、燃焼炉等各種固定燃焼装置、金属エッチングなどから発生する窒素酸化物（NOx）は、光化学スモッグ発生の最大の要因物質であり、NOxの排出規制が行われています。 NOxの除去方法は、触媒を用い還元剤としてアンモニアを使用する選択的還...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本触媒

化学プラント関連製品　「スーパーフローライニング/熱交換器など」

高稼働率を発揮。優れた耐薬品性、非粘着性、純粋性を長年の実績から立証 …

FAコイル式熱交換器】 ○熱交換器の中で最も大型の処理槽容器に対応 ○酸洗などの大型処理槽に多く使用【PFAハニカム式熱交換器】 ○熱交換器の自重により槽内に吊るして使用。メッキ、エッチングなどの金属表面処理槽に最も多く使用【PFAシェル＆チューブ式熱交換器】 ○熱交換器本体がコンパクトかつ軽量に設計出来るため、主に高純度薬液のインライン用として使用 ○熱交換が必要な...

メーカー・取り扱い企業：関西理工株式会社

排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー　Panacea

ドライエッチ、CVD、エピタキシャル成長プロセスから排出される、有毒ガ…

高効率ミキサーを使用して、半導体、液晶工場等のドライエッチング、CVD工程等で発生する排ガス中に含まれる塩素等のハロゲンガス、粉体生成物等を水のみで除害します。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東設本社ヘッドオフィス

熱交換器『フィンストレート』

槽内式でありながら極めてコンパクト！作業スペースの邪魔をいたしません

ルカリ脱脂、など ■チタン：ピロリン酸銅、硫酸銅、ニッケルワット浴、クロム・サージェント浴、酸性亜鉛、など ■ジルコニウム：酸性スズ、硫酸アルマイト、など ■ニオブ：クロム弗化浴、クロム酸エッチング、ニッケルストライク浴、など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三工商会

PFC・PFN除害装置　「クリーンエスPF・PFN」

低温600℃以下、高分解率99％以上でPFC・SF6・NF3を除害処理

●1筒式：空気又は窒素パージ*により有害ガスの外部漏洩なしで交換可能（※PFNのみ窒素パージ） ●2筒式：ガス検知器により反応器の終点（破過）を検知し自動で予備筒に切替可能。1筒式の機能に加えエッチング装置を停止せずに除害筒の交換ができます。 ●装置上部に設けたダンパーとお客様の排気ダクトを接続して排気させる事により、除害装置内部が負圧となり、万が一装置内にリークが発生しても除害装置外に漏洩...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ホクエツ

簡易型微量汚染物質回収装置『SC-9000』

何方でも容易に使用できる親水性・疎水性ウェーハの回収装置です

『SC-9000』は、親水状態のウェーハからも汚染を回収できる簡易型微量汚染物質回収装置です。シリコン以外の材質のウェーハや、バルクエッチング等で表面が荒れてしまったウェーハに対してもサンプリングが可能できます。【特長】 ■ウェーハの状態やサンプリング用薬液の種類に対する制限が緩和され、　重金属以外のイオン等の回収も...

メーカー・取り扱い企業：有限会社NAS技研

フッ素樹脂製投込式熱交換器

高い耐食性、軽量、コンパクトのフッ素樹脂製熱交換器

また、取り付け継ぎ手にステンレス材のヘッダー方式を採用することで高い耐久性を維持しています。【使用用途例】 ■プリント基板用 ■半導体用 ■各メッキ用 ■電解研磨用 ■エッチング用 ■前処理用　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社TKファクトリー

株式会社トーア電子　会社案内

電子部品から産業機械まで、細やかな対応でお応えします。

っております。トーア電子グループでは、創業間もない頃からの主要事業であり、半世紀を超えて技術を蓄積してきたプリント基板の開発・製造を中心とした「産業機器事業」。その製造技術が詰め込まれたエッチングやメッキなどの表面処理装置を扱う「特機事業」を軸に事業を展開しております。【事業内容】 ○マイクロコンピュータシステム販売 ○プリント配線基板販売 ○各種電子部品販売 ○EMC計...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トーア電子

アルマイト加工用ブラストマシン　AM-8

汎用機 AM-8

【特長】 ○エッチングの化学的前処理に代えて、あらゆる金属に機械的梨地加工が出来る ○表面粗度指定が容易で研削材の粒度管理も容易 ○化学研磨､電解研磨の前処理や塗装､化成処理、メッキの前処理にも使用可能 ○ダイ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ニッチュー

【事例】チラー導入事例集ー半導体・電子電気業界編/アピステ

スパッタ・エッチング装置の冷却やレーザー発振器の冷却などに！

当資料は、当社の高性能チラー『PCU-SLシリーズ』を使用した半導体・電子・電気業界向けアプリケーションガイドです。様々な従来の問題をはじめ、スパッタ・エッチング装置の冷却、レーザー発振器の冷却、などのアプリケーションについてイラストとともにご紹介。ぜひ、ご活用ください。【掲載内容】 ■真空蒸着装置の冷却 ■スパッタ・エッチン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社