• 【サンプル進呈】5μm微細・極薄・極小のエッチング加工をお手元に 製品画像

    【サンプル進呈】5μm微細・極薄・極小のエッチング加工をお手元に

    PR毎月先着50社限定|短納期、小ロットから対応の「エッチング加工」サンプ…

    エッチング加工をご希望の企業様向け! 毎月先着50社様限定で、ケミカルプリントが誇る技術を詰め込んだ無料サンプルを進呈致します! 切削加工や機械加工に比べ、エッチング加工は加工精度が高く、 また、ケミカルプリントなら短納期・小ロットから対応が可能です。 サンプルご希望の企業様はイプロスもしくは、下記お問い合わせからとご連絡くださいませ。 https://www.chemical-print.c...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケミカルプリント

  • 面状発熱体 『ポリイミドヒーター』 製品画像

    面状発熱体 『ポリイミドヒーター』

    PR薄手!柔軟!だから多種多様な形状で使用可能な面状発熱体ヒーターです!

    ただ発熱するだけじゃない! 【1】薄くてやわらかいから小型・軽量化に貢献 【2】昇温レスポンスが早いから大幅性能アップ 【3】自由な形状で設計できるから用途が広がる シンワの面状発熱体は、金属箔に電気を流して発熱させる薄いシート状の発熱体です。非常に薄くてやわらかい為、曲面や狭いスペースへの加熱に適しています。さらに回路をエッチングで形成する為、設計者の意図した発熱分布を得ることが...

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    メーカー・取り扱い企業: シンワ測定株式会社 FE部

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    ulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • エッチング技術 製品画像

    エッチング技術

    シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、さまざま応用展開が可…

    エッチング技術』とは、フィルムに文字や図柄等、任意のパターンの 蒸着模様を作る技術です。 シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、さまざま応用展開が 可能。 また、蒸着膜の上に耐...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社麗光

  • 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

    小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

    スペース:背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026(26ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ◉ MiniLab-090(90ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】 製品画像

    蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチング...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    が可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    00W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWind...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    シブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・060(60Litter)-TE/...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アールエムテック サービス案内 製品画像

    アールエムテック サービス案内

    マザーテクノロジーで未来を拓く アールムテック サービスご紹介

    設備からの載替を行っています。 ●GCIB(ガスクラスターイオンビーム) 数十〜数万個の気体原子よりなるクラスターをイオン化し、適度なエネルギーに加速して照射する技術です。低エネルギーイオンエッチング、高品位成膜・表面平滑化が実証されています。 ●Multiple APC 高い安定性と幅広い互換性を兼ね備えたオート・プレッシャー・コントローラー ●DP-eco 電気代削減で環境に優し...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製作しております。...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

  • 薄膜形成 製品画像

    薄膜形成

    薄膜形成

    ート(単層・マルチ)、各種反射ミラー、光学フィルター 等 厚膜形成に付きましては電解メッキ・無電解メッキ加工・印刷加工が可能 厚膜種類:Cu・Ni・Au・Ag・Pt・・ハンダなど エッチング加工はもちろん、リフトオフ方式、アディティブ方式、 セミアディティブ方式などの複合技術を用いてパターン形成をすることも可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: 豊和産業株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    ク機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    ク機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム 製品画像

    【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチン...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    lseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    00W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWind...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    シブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・060(60Litter)-TE/...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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