システムズ | イプロスものづくり

PR軽量・高強度のアルミフレームを活用した安全柵・安全カバーを制作！ロボッ…

軽量・高強度のアルミフレームで作る安全柵・安全カバー・クリーンルームをお探しの方はいませんか？オリジナルアルミフレームで安全柵、安全カバーを客様のご要望通りに製作します。【アルミフレーム安全柵・安全カバーの特長】 ◆柔軟なレイアウト設計が可能な安全柵様々な寸法のパネル・扉・天井部分の組合せで自由自在にレイアウト。 ◆取付け工事が簡単色々なパターンの安全柵が連携プレー...

メーカー・取り扱い企業：鍋清株式会社

6/19～開催DMS東京に出展します！3Dレーザスキャナー

PR製造現場のデジタルツイン作成、設備のモデリングや改修工事の現場調査に！…

★設計・製造ソリューション展 [東京]に出展します★ 開催日時: 6月19日（水）～21日（金）10-18時（最終日は17時まで）会場: 東京ビッグサイト小間番号: S20-40 *ヘキサゴン・メトロジー株式会社ブース内に出展します。ライカジオシステムズでは現場でのデータ取得に用いられるハードウェア製品から取得したデータを活用するためのソフトウェア製品まで一気通貫でソリューションをご提案す...

メーカー・取り扱い企業：ライカジオシステムズ株式会社

中古半導体製造装置

弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。中古装置のハイテック・システムズ！半導体製造装置のご相談は、ハイテック・システムズへ！...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、多用途に対し容易に使用可能。また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、適切なチャンバーサイズ(＜370mm×470mm)となっております。【特長】 ■優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。【特長】 ■FLOCONシ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビームスパッタリング(DIBS)となっております。ご用命の際は、お気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mmウエハ基板又は300mm×500mm基...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Savannah G2』

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Va…

『Savannah G2』は、シンプルで使いやすく研究開発から少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。高い成膜性能をシンプルなシステムで実現しており、用途と予算に合わせた構成選択可能。ご要望の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■高い成膜性能をシンプルなシステムで実現 ■超高アスペクト比(＜2000：1)対応モード ■用途と...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

イオンビームトリミング装置『scia Trim 200』

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。ご用命の際は、お気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mmウエハ基板対応 ■歩留改善 ■高精度・高スループットによる膜厚エッチン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマ/サーマルALD装置『Fiji G2』

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計。また、簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trapを標準搭載しており、プラズマガスラインは最大6ラインとなっております。【特長】 ■50...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…

『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)のイオンビームミリング装置です。プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、反応性イオンビームエッチング(RIBE)、ケミカルアシストイオンビームエッチング(CAIBE)となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大150又...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Firebird』

トップクラスのスループット！柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

『Firebird』は、大規模量産の為のクラスターツールタイプサーマル式のALD装置です。実績のあるVeecoの自動化システムを搭載しており、基板への衝撃の少ないバッチ搬送。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■トップクラスのスループット ■低所有コスト ■実績のあるVeecoの自動化システム ■柔軟性のあるモジュール化されたデザイン ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ICパッケージ開封装置

物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能！高選択…

当社では、先端のIC等デバイスのパッケージに適応した故障解析のための開封装置を提供しております。独自の新規プラズマ技術MIP(Microwave Induced Plasmaマイクロ波誘導プラズマ)を有し、 O2(酸素)プラズマを用いてパッケージを除去。また、一つの装置内でエッチング、洗浄、乾燥、一連のプロセスを自動で行うことが可能です。【特長】 ■マイクロ波誘...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマイオン注入装置『PUPIONシリーズ』

放射性汚染を最小限に抑制！用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

『PUPIONシリーズ』は、プラズマイオン注入装置です。ナノエレクトロニクス・フォトニクスでのShallow depth dopingや β放射線医療のグレードの放射性同位。放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制し、用途に応じたプラズマ励起技術の提案が可能です。【特長】 ■ナノエレクトロニクス・フォトニクスでの　Shallow depth dopingや...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

熱蒸着装置『EVAD シリーズ』

金属、誘電及び有機膜成膜！熱蒸着装置をご紹介

当社で取り扱う『EVAD シリーズ』をご紹介いたします。当製品はPID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜の熱蒸着装置。また、電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜です。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜 ■PID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜 ※...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

『中古部品買取・販売／リファービッシュエンジニアリング』のご紹介

約8万点の中古部品在庫を保有し、最短即日出荷。半導体・FPD製造装置の…

当社は、半導体・FPD製造装置を中心に機器の販売等を行っています。今回は当社で実績のある『中古部品の販売』と『リファービッシュエンジニアリング』についてご紹介いたします。【中古部品の販売】 ■約8万点の部品在庫を保有（表示機器、真空・駆動系・制御系パーツ、付帯機器、ポンプ、計測器など） ■最短で即日出荷が可能 ■生産終了品や新品の部品も提供可能 ■海外からの専用品の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(11...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

半導体カーブトレーサ CS-10000/5000シリーズ

岩通計測機社製　IGBTやMOSFET・トランジスタ・ダイオードなど各…

CS-10000シリーズは、最大ピーク電圧10kV、最大ピーク電流8000Aを実現(CS-10800)、高速鉄道などで使われるパワーデバイスも含め、あらゆるパワーデバイスの測定をカバーします。 CS-5000シリーズは、最大ピーク電圧5kV、最大ピーク電流1000Aを実現(CS-5300)、耐圧3300Vのデバイスのブレークダウン特性の測定など、より高耐圧のパワーデバイスの測定をカバーします。ま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マックシステムズ

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M」、 ALDモジュール「SI ALD-1M」などを搭載可能ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【搭載...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオンエッチング(RIE)となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■300×300mm、450×450mm、750×750...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…

当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ICP-RIE『SI 500』

高選択性エッチング！ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供…

『SI 500』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICP-RIEです。独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により高エッチレートを実現。また、バイアスパワーによるイオンエネルギーの制御で低ダメージエッチングとなっております。【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■バイアスパワーによるイオンエネルギーの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

半導体用循環式冷凍機の収益データ歴史的・予測的分析

本レポートは、世界の半導体循環式冷凍機市場を詳細かつ包括的に分析したも…

GST (グローバルスタンダードテクノロジー) FST (ファインセミテック社) テクシストボイド BVサーマルシステムズ フーバーレアード・サーマル・システムズ ラウダ・ノアソリッド・ステート・クーリング・システムズ 北京晋義自動化設備技術レガシーチラー CJ Tech Inc. ステップサ...

メーカー・取り扱い企業： GlobaI Info Research有限会社 Global Info Research

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現したセトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、リニアな直流電圧信号に変換し出力します。温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、太陽光パネル、半導体、石油化学...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

おすコネクタ＠くいこみ継手／ダブルフェルール継手【無償サンプル】

おすコネクタ（くいこみ継手／ダブルフェルール継手）768LRSS1/4…

東京エレクトロン株式会社　東芝メモリ株式会社　東横化学株式会社　株式会社巴商会　日本エア・リキード株式会社　株式会社堀場エステック　三菱日立パワーシステムズ株式会社 ※五十音順＜主要お取引先　海外＞　Agilent Technologies 　Air Liquide 　Applied Materials 　ASML 　E...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハムレット・モトヤマ・ジャパン

組み込み開発実績（半導体製造装置）

OSからシステム設計まで30年以上の組込みシステム開発経験のあるNSS…

各種OS、ハードウェアデバイスに対応したOSポーティングからアプリケーションまでワンストップで開発いたします。要件定義から運用オペレーションまでお客様の課題解決を検討し、ご要望に応じたご提案をさせていただきます。【アプリケーション開発具体例】・半導体製造装置＜制御ソフトウェア＞・BSP開発・UI開発・制御ソフトウェア＜ソフトウェア開発用シミュレータ＞・シ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日新システムズ