リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

EnDOtec DO-365

《新製品》シームレスチューブに合金を充填した硬化肉盛り用ワイヤ

安定性を実現しました。 最大98%の溶着効率と、より高速な溶融速度で作業時間の短縮とコストダウンに貢献します。 1層の肉盛りで高硬度（HRC62～67）と十分な耐摩耗性が得られます。 最小のスパッタとヒュームによりトーチ内の残留累積物もわずかです。 軽い衝撃を伴う微粒子のアブレージョン摩耗やエロージョン摩耗に対応した硬化肉盛用ワイヤで、煉瓦・タイル工場、採石場、鉱業関係及びセメント製造工場...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社