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14件 - メーカー・取り扱い企業
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373件
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』
PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…
『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
0W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコー...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
ャンバー容積:1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!
図面支給による製作】 ・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整 ・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整 【半導体プロセス応用製品】 ・実験用蒸着装置・有機EL蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・CVD装置(実験設備/生産設備)・成膜装置(実験設備/生産設備) 【真空対応製品の設計・製作】 ・各種配管・各種フランジ応用製品・真空室内用応用部品の設計製作 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス
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製膜スピードUP&高い密着性!導入コストや維持費も低いDLCコーティン…
『CARBOZEN ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。 リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows O...
メーカー・取り扱い企業: パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所
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PLAD-221-Y PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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Nd:YAGレーザパルス蒸着システム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
0W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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エキシマレーザパルス蒸着システム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-271PE PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-150Y PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250R PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-261PG PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250E PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-161 PLDシステム
取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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